1.一种PECVD镀膜装置, 包括双层石英管（1），其特征在于：所述双层石英管（1）端部设有法兰（2），所述双层石英管（1）内腔设有镀膜腔（3），所述镀膜腔（3）外壁上固定有感应线圈（4），所述法兰（2）上设有第一工艺进气口（5）和第二工艺进气口（6），且所述第一工艺进气口（5）、所述第二工艺进气口（6）连接设置在镀膜腔（3）内部的气体稳流装置（7），所述双层石英管（1）一侧和底部均开有通孔（8），且侧壁的通孔内穿设抽真空管（9），且所述抽真空管（9）连通镀膜腔（3），所述抽真空管（9）连接抽真空设备（10），底部的通孔内穿设有尾气排放管（11），且所述尾气排放管（11）连通镀膜腔（3），所述尾气排放管（11）连接尾气处理装置（12）。
2.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置，其特征在于：所述气体稳流装置包括稳流体（13）、进气口（14）、蜂窝片（15）、气体调整器（16）、出气口（17）和过滤片（18），所述稳流体（13）的一端设有进气口（14），所述稳流体（13）的另一端设有出气口（17），所述稳流体（13）的内部设有蜂窝片（15）、气体调整器（16），所述蜂窝片（15）位于进气口（14）的一端，所述蜂窝片（15）连接气体调整器（16），所述气体调整器（16）的出口通过过滤片（18）连接出气口（17），所述气体调整器（16）内包括多个气流调节格栅（19），且所述气流调节格栅（19）呈锥形。
3.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置，其特征在于：所述感应线圈4包括耦合式感应线圈原边（20）和耦合式感应线圈副边（21），所述耦合式感应线圈原边（20）套在耦合式感应线圈副边（21）外侧，所述耦合式感应线圈原边（20）采用柱形中空结构，所述耦合式感应线圈副边（21）采用锥形中空结构。
4.根据权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置，其特征在于：还包括第一电磁阀（22）、第二电磁阀（23）、第三电磁阀（24）和第四电磁阀（25），所述第一电磁阀（22）和第二电磁阀（23）分别安装在第一工艺进气口（5）和第二工艺进气口（6）处，所述第三电磁阀（24）安装在抽真空管（9）上，所述第四电磁阀（25）安装在尾气排放管（11）上。
5.实现权利要求1所述的一种PECVD镀膜装置的使用方法，其特征在于：其使用方法包括以下步骤：
A、将硅片放入镀膜腔中，关闭第一电磁阀、第二电磁阀、第四电磁阀，打开第三电磁阀，对镀膜腔进行抽真空，真空度为1.5×10-2pa-1.8×10-2pa后，关闭第三电磁阀，打开第一电磁阀，通入高纯度氩气，通入氩气流量为20L-40L/min，通入时间为5min-10min，之后关闭第一电磁阀；
B、开启中频电源，使感应线圈工作，控制输出功率 8KW-10KW，之后缓慢打开第三电磁阀，降低镀膜腔内真空，直至达到1.1×10-2pa；
C、关闭第三电磁阀，打开第二电磁阀，通入甲烷，通入的甲烷流量为5L-8L/min，通入时间为5min-10min，之后关闭第二电磁阀；
D、待镀膜腔内真空度降至0.7×10-2pa时，打开第四电磁阀，排出未反应的尾气。