一种TiSiNiN纳米复合涂层及其制备方法与流程

技术特征：

1.一种TiSiNiN纳米复合涂层，其特征在于：是一种由界面相包裹TiN纳米晶粒的复合结构，所述的界面相由化合物Si₃N₄和金属Ni两相组成。

2.如权利要求1所述的一种TiSiNiN纳米复合涂层，其特征在于：所述的TiSiNiN纳米复合涂层的厚度为2-4μm。

3.如权利要求1所述的一种TiSiNiN纳米复合涂层，其特征在于：在所述的复合涂层中，按原子比计算，其中Si：Ni为18%：2%、或者16%：4%、或者12%：8%、或者8%：12%或者4%：16%。

4.权利要求1 所述的一种TiSiNiN纳米复合涂层的制备方法，其特征在于包括如下步骤：

1）一个清洗基体的步骤，将经抛光处理后的基体送入超声波清洗机，依次在无水酒精和丙酮中利用15～30kHz超声波进行清洗5～10min；然后进行离子清洗；所述的离子清洗即将基体装进真空室，抽真空到4×10^-4Pa~10×10^-4Pa后通入Ar气，维持真空度在2-4Pa，用中频对基体进行为时20~40min的离子轰击，功率为80-100W；

2）采用多靶磁控溅射仪，由TiSiNi复合靶材在基体上进行磁控溅射反应沉积的步骤；将清洗后的基体置入多靶磁控溅射仪并停留在TiSiNi复合靶之前，所述的TiSiNi复合靶材中，按原子比计算，其中Ti为80%，Si和Ni的总原子量为20%，TiSiNi复合靶材的直径为75mm；上述的磁控溅射反应沉积的条件为：Ar气流量：38sccm，N₂气流量：5sccm；射频溅射功率350W，时间2h；靶基距5cm；总气压范围0.2-0.6Pa；通过磁控溅射反应沉积获得TiSiNiN纳米复合涂层。

5.如权利要求4 所述的一种TiSiNiN纳米复合涂层的制备方法，其特征在于：所述的TiSiNi复合靶材中，按原子比计算，其中，Si：Ni为18%：2%、或者16%：4%、或者12%：8%、或者8%：12%或者4%：16%。

6.如权利要求4 所述的一种TiSiNiN纳米复合涂层的制备方法，其特征在于：所述的基体为金属、硬质合金、陶瓷或单晶Si。