1.一种真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，包括相互连接的电机和支架，其特征在于：所述支架中间设有至少一根与电机相连的转动轴，转动轴上设有圆柱体滚柱，该圆柱体滚柱上开设凹槽，凹槽内设有磁铁。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，其特征在于：所述转动轴的数量为两根、四根或六根。
3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，其特征在于：所述转动轴在电机带动下的转动方向为同向或相向，电机的转速为50-120rpm。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，其特征在于：所述凹槽内磁铁的深度小于等于圆柱体滚柱的直径。
5.根据权利要求4所述的真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，其特征在于：所述凹槽内磁铁的宽度为4-6mm。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，其特征在于：所述凹槽内磁铁为单独磁铁或磁铁组合。