技术总结
本实用新型涉及一种真空镀膜离子镀装置的阴极磁控装置，包括相互连接的电机和支架，支架中间设有至少一根与电机相连的转动轴，转动轴上设有圆柱体滚柱，该圆柱体滚柱上开设凹槽，凹槽内设有磁铁。本实用新型在PVD涂层设备镀膜过程中，通过调节阴极背后磁控系统的电机速度，来调节磁铁转动速度，最终调整阴极表面电弧的速度和刻蚀区域，从而减小镀膜过程的液滴大小并达到提高靶材的利用率。
技术研发人员：单永贤
受保护的技术使用者：上海金科纳米涂层技术有限公司
文档号码：201620652256
技术研发日：2016.06.28
技术公布日：2017.01.04