一种亚克力板打磨抛光机的制作方法

本实用新型属于亚克力板制备装置技术领域，具体涉及一种亚克力板打磨抛光机。

背景技术：

随着人们生活水平的提高，对产品质量要求越来越高，亚克力板具有较高的硬度和耐候性，在现代建筑、卫生洁具和工艺品方面都有广泛的应用，在其加工过程中，抛光为必不可少的工艺，但是由于亚克力板硬度较高，抛光机较易磨损，其中在更换需要打磨的亚克力板时，通常需要用挡板将抛光轮与工作台分隔开，挡板通常通过气缸操作，由于操作频繁，可能会出现气缸出现故障的问题，同时，挡板也容易磨损，磨损后更换相对繁琐，容易耽误工作进程，打磨后在亚克力板打磨面会有一些粉末，不利于打磨精度的提高。

技术实现要素：

本实用新型的目的是针对现有问题，提供了一种亚克力板打磨抛光机。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：一种亚克力板打磨抛光机，包括机架，机架前端的中间位置设有工作台，在工作台上方设有多个下压气缸，下压气缸设有固定压板，在工作台后侧两端设有竖直固定架，固定架内侧设有相对应的滑槽，滑槽内设有可沿滑槽上下移动的挡板，挡板下方设有两组支撑挡板竖直运动的气缸组，气缸组包括内气缸组和外气缸组，气缸组上方的支撑杆顶部设有托架，托架中心设有定位杆，在挡板下端设有与定位杆相匹配的定位孔，在机架后侧设有驱动装置，驱动装置连接抛光轮，在挡板的上方位置设有除尘装置，在机架一侧设有控制装置。

作为对上述方案的进一步改进，所述多个下压气缸同时工作或分成内、外两组工作，用于压紧亚克力板便于打磨。

作为对上述方案的进一步改进，所述内气缸组和外气缸组分组工作，其中不工作的一组处于静止状态，位于固定架下方。

作为对上述方案的进一步改进，所述托架上方为U型凹槽，定位杆设于U型凹槽中心位置，可以使挡板在滑槽内稳定上升或下降，提高设备工作稳定性。

作为对上述方案的进一步改进，所述滑槽下端有卡托，可以保证挡板可置于滑槽内不掉落，滑槽上端为开槽，挡板可由滑槽上端更换。

作为对上述方案的进一步改进，所述除尘装置下端设有出风槽，所述出风槽下方正对抛光轮打磨抛光处。

其中，在内气缸组和外气缸组交替时，内气缸组向下运动，直至运动至固定架下方，同时外气缸组向上运动，挡板下部卡设在托架上方的U型凹槽内，由定位杆定位。

本实用新型相比现有技术具有以下优点：下压气缸和气缸组都可以分别分组操作，即使设备损坏，可以在不影响工作进程的前提下维修或者更换相应部件，挡板如果磨损后，可直接由滑槽上方更换，方便快捷，在打磨过程中除尘装置可以有效除去亚克力板表面的细粉，由此提高打磨抛光的精度，同时可以适当降低抛光轮工作时的温度，提高设备的使用寿命。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型的正视图。

图3为托架的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型进一步说明。

如图1-3中所示，一种亚克力板打磨抛光机，包括机架1，机架1前端的中间位置设有工作台2，在工作台2上方设有多个下压气缸5，下压气缸5设有固定压板51，在工作台2后侧两端设有竖直固定架3，固定架3内侧设有相对应的滑槽31，滑槽31内设有可沿滑槽31上下移动的挡板4，挡板4下方设有两组支撑挡板4竖直运动的气缸组，气缸组包括内气缸组6和外气缸组7，气缸组上方的支撑杆71顶部设有托架72，托架72中心设有定位杆73，在挡板4下端设有与定位杆73相匹配的定位孔，在机架1后侧设有驱动装置10，驱动装置10连接抛光轮11，在挡板4的上方位置设有除尘装置8，在机架1一侧设有控制装置9。

其中，所述多个下压气缸5同时工作或分成内、外两组工作，用于压紧亚克力板便于打磨。

其中，所述内气缸组6和外气缸组7分组工作，其中不工作的一组处于静止状态，位于固定架3下方。

其中，所述托架72上方为U型凹槽74，定位杆73设于U型凹槽74中心位置，可以使挡板4在滑槽31内稳定上升或下降，提高设备工作稳定性。

其中，所述滑槽31下端有卡托72，可以保证挡板4可置于滑槽31内不掉落，滑槽31上端为开槽，挡板4可由滑槽31上端更换。

其中，所述除尘装置8下端设有出风槽81，所述出风槽81下方正对抛光轮11打磨抛光处。

其中，在内气缸组6和外气缸组7交替时，内气缸组6向下运动，直至运动至固定架3下方，同时外气缸组7向上运动，挡板4下部卡设在托架72上方的U型凹槽74内，由定位杆73定位。

本实用新型在工作时，下压气缸5和气缸组都可以分别分组操作，即使设备损坏，可以在不影响工作进程的前提下维修或者更换相应部件，挡板4如果磨损后，可直接由滑槽31上方更换，方便快捷，在打磨过程中除尘装置8可以有效除去亚克力板表面的细粉，由此提高打磨抛光的精度，同时可以适当降低抛光轮11工作时的温度，提高设备的使用寿命。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。