技术总结
本实用新型公开了一种碳化硅管沉积装置，包括石英管层、碳化硅层和第一保温层，其中所述石英管层、所述碳化硅层和所述第一保温层均为管状结构，所述第一保温层套设在所述碳化硅层的表面，所述碳化硅层套设在所述石英管层的表面，所述石英管层内部形成沉积区。本实用新型能够实现不使用高真空的情况下对需要镀炭膜的目标物快速镀出结构均匀、厚度可控的炭膜，而且具有效率高、工艺条件易控、炭膜与目标物结合紧密等优点。
技术研发人员：邹继兆;邹广金;曾燮榕;黎晓华;姚跃超;余良
受保护的技术使用者：东莞劲胜精密组件股份有限公司;东莞华程金属科技有限公司
文档号码：201621259882
技术研发日：2016.11.23
技术公布日：2017.07.07