技术特征：
技术总结
本发明提供Ni系溅射靶材，其特征在于，为能够得到强漏磁通的导磁率低、使用效率高的Ni系合金溅射靶材，是含有含有(NiX－FeY－CoZ)－M合金而成的Ni系溅射靶材，所述合金中，作为M元素，含有从W、Mo、Ta、Cr、V、Nb中选择的一种或两种以上的M1元素合计2～20at.％，从Al、Ga、In、Si、Ge、Sn、Zr、Ti、Hf、B、Cu、P、C、Ru中选择的一种或两种以上的M2元素合计0～10at.％，余量由Ni、Fe、Co和不可避免的杂质构成，并且，X+Y+Z＝100时，20≤X≤98，0≤Y≤50，0≤Z≤60，并且，所述合金粥火锅，作为基体相是具有Ni－M相的微观组织，并具有在基体相中分散有Fe相和/或Co相的微观组织。
技术研发人员：宇野未由纪;长谷川浩之
受保护的技术使用者：山阳特殊制钢株式会社
技术研发日：2016.02.04
技术公布日：2017.10.13