技术特征：
技术总结
本发明公开了一种具有纳米层状结构的二硼化钛/钨涂层及其制备方法，所述TiB2/W涂层是以TiB2陶瓷靶和喷涂W靶为原料，通过多靶磁控溅射在基体上交替溅射沉积形成由TiB2陶瓷层与金属W层相互叠加的纳米层状结构的二硼化钛/钨涂层。其中涂层中金属W层与TiB2陶瓷层的层数为10‑100层，每层金属W层的厚度为1‑10nm，每层TiB2层的厚度为10‑50nm。本发明的纳米层状结构的TiB2/W涂层表现出了良好的韧性和很高的硬度，这极大的扩大了此涂层的应用范围，同时本发明用于制备纳米层状结构TiB2/W涂层的磁控溅射双靶共沉积技术操作方便，无需后处理等工艺，制备周期短，成本低，可复现性好，可实现工业化大生产。
技术研发人员：代伟;高翔;王启民
受保护的技术使用者：广东工业大学
技术研发日：2017.05.08
技术公布日：2017.09.22