一种曲面盖板的镀膜装置及镀膜方法与流程

文档序号:12300681阅读:816来源:国知局
一种曲面盖板的镀膜装置及镀膜方法与流程

本发明涉及曲面盖板镀膜技术领,更为具体的说,涉及一种曲面盖板的镀膜装置及镀膜方法。



背景技术:

随着人们生活水平的不断提高,人们对于智能终端的要求也越来越高。为了满足用户更佳视觉和触觉体验的要求,研究人员研发出了曲面盖板。曲面盖板除了在成型工艺方面相对平面盖板复杂外,对曲面盖板进行镀膜同样较为困难,对曲面盖板镀膜一直存在曲面均匀性较差的问题。



技术实现要素:

有鉴于此,本发明提供了一种曲面盖板的镀膜装置及镀膜方法,在镀膜过中通过对曲面盖板绕第一中心轴公转、且绕第二中心轴自转的控制,达到提高镀膜均匀性的目的。

为实现上述目的,本发明提供的技术方案如下:

一种曲面盖板的镀膜装置,所述曲面盖板应用于智能终端,所述镀膜装置包括:

镀膜腔室,所述镀膜腔室与至少一个镀膜仪器相连;

设置于所述镀膜腔室内的自转轴,所述自转轴绕第一中心轴自转;

以及,连接于所述自转轴上的至少一个自转夹具,所述自转夹具包括至少一个夹具台面,所述夹具台面用于放置所述曲面盖板;

其中,所述自转夹具绕第二中心轴自转,且所述自转轴的自转带动所述自转夹具旋转,所述第一中心轴和所述第二中心轴的轴向相同。

可选的,所述自转轴和自转夹具的自转方向相同;

或者,所述自转轴和自转夹具的自转方向相反。

可选的,所述自转轴绕所述第一中心轴水平自转;

以及,所述自转夹具绕所述第二中心轴水平自转。

可选的,任意一所述镀膜仪器为等离子溅射镀膜仪器。

可选的,所述等离子溅射镀膜仪器的靶材的放置方向与所述第一中心轴的轴向相同;

以及,所述曲面盖板的长边方向与所述第一中心轴的轴向相同。

可选的,所述等离子溅射镀膜仪器的靶材为平面靶材或旋转靶材。

可选的,所述自转夹具为棱柱形自转夹具,所述棱柱形自转夹具的至少一个侧面为夹具台面。

可选的,所述自转夹具与所述自转轴之间活动连接,其中,所述自转夹具与所述自转轴之间的间距可调。

可选的,所述曲面盖板为2.5d曲面盖板或3d曲面盖板。

相应的,本发明还提供了一种曲面盖板的镀膜方法,所述曲面盖板应用于智能终端,所述镀膜方法包括:

将所述曲面盖板放置于镀膜腔室内,其中,所述曲面盖板放置于自转夹具上;

开启镀膜仪器,同时控制所述自转夹具绕第二中心轴自转,且同时控制所述自转夹具绕第一中心轴公转。

相较于现有技术,本发明提供的技术方案至少具有以下优点:

本发明提供了一种曲面盖板的镀膜装置及镀膜方法,所述曲面盖板应用于智能终端,所述镀膜装置包括:镀膜腔室,所述镀膜腔室与至少一个镀膜仪器相连;设置于所述镀膜腔室内的自转轴,所述自转轴绕第一中心轴自转;以及,连接于所述自转轴上的至少一个自转夹具,所述自转夹具包括至少一个夹具台面,所述夹具台面用于放置所述曲面盖板;其中,所述自转夹具绕第二中心轴自转,且所述自转轴的自转带动所述自转夹具旋转,所述第一中心轴和所述第二中心轴的轴向相同。由上述内容可知,本发明提供的技术方案,镀膜过程中自转轴绕第一中心轴自转,进而能够带动自转夹具绕第一中心轴公转,最终达到在镀膜过中对曲面盖板绕第一中心轴公转、且绕第二中心轴自转的控制,以达到提高镀膜均匀性的目的。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的一种曲面盖板的镀膜装置的结构示意图;

图2为本申请实施例提供的一种曲面盖板的镀膜方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

正如背景技术所述,随着人们生活水平的不断提高,人们对于智能终端的要求也越来越高。为了满足用户更佳视觉和触觉体验的要求,研究人员研发出了曲面盖板。曲面盖板除了在成型工艺方面相对平面盖板复杂外,对曲面盖板进行镀膜同样较为困难,对曲面盖板镀膜一直存在曲面均匀性较差的问题。

基于此,本申请实施例提供了一种曲面盖板的镀膜装置及镀膜方法,在镀膜过中通过对曲面盖板绕第一中心轴公转、且绕第二中心轴自转的控制,达到提高镀膜均匀性的目的。为实现上述目的,本申请实施例提供的技术方案如下,具体结合图1和图2对本申请实施例提供的技术方案进行详细的描述。

参考图1所示,为本申请实施例提供的一种曲面盖板的镀膜装置的结构示意图,其中,所述曲面盖板应用于智能终端,本申请实施例提供的所述曲面盖板可以为2.5d曲面盖板或3d曲面盖板。

本申请实施例提供的所述镀膜装置包括:

镀膜腔室100,所述镀膜腔室100与至少一个镀膜仪器200相连;

设置于所述镀膜腔室100内的自转轴300,所述自转轴300绕第一中心轴310自转;

以及,连接于所述自转轴300上的至少一个自转夹具400,所述自转夹具400包括至少一个夹具台面,所述夹具台面用于放置所述曲面盖板500;

其中,所述自转夹具400绕第二中心轴410自转,且所述自转轴300的自转带动所述自转夹具400旋转,所述第一中心轴310和所述第二中心轴410的轴向相同。

本申请实施例提供的镀膜装置,在镀膜过程中,自转轴能够绕第一中心轴自转,由于自转夹具连接于自转轴上,故而,自转轴转动时带动自转夹具绕第一中心轴公转;进而,通过自转轴的自转和自转夹具的自转,能够实现自转夹具绕第一中心轴公转、且绕第二中心轴自转的控制。

由上述内容可知,本申请实施例提供的技术方案,镀膜过程中自转轴绕第一中心轴自转,进而能够带动自转夹具绕第一中心轴公转,最终达到在镀膜过中对曲面盖板绕第一中心轴公转、且绕第二中心轴自转的控制,以达到提高镀膜均匀性的目的。

在本申请一实施例中,所述自转轴和自转夹具的自转方向相同;

或者,所述自转轴和自转夹具的自转方向相反。本申请实施例对于自转轴的自转方向和自转夹具的自转方向均不做具体限制,自转轴可以为顺时针自转,还可以为逆时针自转;以及,自转夹具同样可以为顺时针自转,还可以为逆时针自转,对此需要根据实际应用进行具体设计。

在本申请一实施例中,所述自转轴绕所述第一中心轴水平自转;

以及,所述自转夹具绕所述第二中心轴水平自转。本申请实施例提供的自转轴和自转夹具均可以垂直水平面设置,也就是说,第一中心轴和第二中心轴均为垂直水平面设置,对此本申请不做具体限制,在本申请其他实施例中,自转轴和自转夹具还可以沿其他方向设置,对此需要根据实际应用进行具体设计。

在本申请一实施例中,任意一所述镀膜仪器为等离子溅射镀膜仪器。其中,在镀膜仪器为等离子溅射镀膜仪器时,本申请实施例提供的所述等离子溅射镀膜仪器的靶材的放置方向与所述第一中心轴的轴向相同;

以及,所述曲面盖板的长边方向与所述第一中心轴的轴向相同。其中,在本申请实施例提供的自转轴和自转夹具均垂直水平面设置时,靶材和曲面盖板均竖直放置各自相应位置。本申请实施例提供的所述等离子溅射镀膜仪器的靶材为平面靶材或旋转靶材,在本申请其他实施例中,靶材还可以为其他形式,对此本申请不做具体限制。

需要说明的是,本申请实施例提供的等离子溅射镀膜仪器,对于其射频源、霍尔源等辅助镀膜设备的数量不做具体限制,对此需要根据实际应用进行具体设计。

在本申请一实施例中,本申请提供的所述自转夹具为棱柱形自转夹具,所述棱柱形自转夹具的至少一个侧面为夹具台面。本申请对于自转夹具的形状不做具体限制,需要根据实际需要进行具体设计,如棱柱形自转夹具在垂直第一中心轴的方向的切面可以为四边形、六边形等。为了达到镀不同膜层的目的,本申请实施例提供的所述自转夹具与所述自转轴之间活动连接,其中,所述自转夹具与所述自转轴之间的间距可调。

相应的,本申请实施例还提供了一种曲面盖板的镀膜方法,参考图2所示,为本申请实施例提供的一种曲面盖板的镀膜方法的流程图,其中,所述曲面盖板应用于智能终端,所述镀膜方法包括:

s1、将所述曲面盖板放置于镀膜腔室内,其中,所述曲面盖板放置于自转夹具上;

s2、开启镀膜仪器,同时控制所述自转夹具绕第二中心轴自转,且同时控制所述自转夹具绕第一中心轴公转。

本申请实施例提供的镀膜方法可以应用于上述实施例提供的镀膜装置中,在进行镀膜过程中,首先需要将曲面盖板放置于镀膜腔室的自转夹具上固定;而后根据所镀膜层的类别对镀膜所需靶材和相应设备进行更换,如镀氧化钛膜层,则需呀将靶材换为钛靶材,通过射频源通入氧气进行氧化钛的镀膜;之后对镀膜腔室进行抽气处理得到高真空腔室,其中,镀膜腔室内的压强可以设置于1*e-3pa;而后在上电使自转夹具开始自转和公转后开启镀膜仪器;其中,在镀膜过程中可以通过调整自转夹具的公转和自转的转速、镀膜工艺参数(如通入气体流量、靶材功率等)、及自转夹具与自转轴之间间距(即曲面盖板和靶材的间距)等进行调整,使得镀膜过程达到最佳。

本申请实施例提供了一种曲面盖板的镀膜装置及镀膜方法,所述曲面盖板应用于智能终端,所述镀膜装置包括:镀膜腔室,所述镀膜腔室与至少一个镀膜仪器相连;设置于所述镀膜腔室内的自转轴,所述自转轴绕第一中心轴自转;以及,连接于所述自转轴上的至少一个自转夹具,所述自转夹具包括至少一个夹具台面,所述夹具台面用于放置所述曲面盖板;其中,所述自转夹具绕第二中心轴自转,且所述自转轴的自转带动所述自转夹具旋转,所述第一中心轴和所述第二中心轴的轴向相同。由上述内容可知,本申请实施例提供的技术方案,镀膜过程中自转轴绕第一中心轴自转,进而能够带动自转夹具绕第一中心轴公转,最终达到在镀膜过中对曲面盖板绕第一中心轴公转、且绕第二中心轴自转的控制,以达到提高镀膜均匀性的目的。

对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

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