OLED照明器件蒸镀装置的制作方法

本实用新型属于OLED照明器件制备技术领域，具体涉及OLED照明器件蒸镀工艺中所需坩埚的改造。

背景技术：

有机发光二极管照明(Organic Light Emitting Diode，OLED)是一种极具发展前景的照明技术，它不仅具有十分优异的显示性能，还具有自发光、结构简单、超轻薄、响应速度快、无蓝光危害等，且相对于OLED显示，其结构简单，无需顶发射器件的研制，只需底发射即可，且无需FMM技术，工艺上会省去很多不必要的麻烦。

OLED显示器件包括：基板，形成于基板上的OLED器件及与基板贴合设置的封装盖板，所述OLED器件包括形成于基板上的阳极、形成于阳极上的有机功能层以及形成于有机功能层上的阴极，阳极与阴极激发有机功能层以实现显示。其中，OLED器件的有机功能层一般由三个功能层构成，分别为空穴传输功能层(Hole Transport Layer，HTL)、发光功能层(Emissive Layer，EML)、电子传输功能层(Electron Transport Layer，ETL)。每个功能层可以是一层，或者一层以上，例如空穴传输功能层，有时可以细分为空穴注入层和空穴传输层；电子传输功能层，可以细分为电子传输层和电子注入层，但其功能相近，故统称为空穴传输功能层和电子传输功能层。

目前，制备OLED显示器件主流的方式是真空加热镀膜，即在蒸镀机内通过加热使OLED材料蒸镀到基板上，目前，照明蒸镀工艺虽然不需要跟显示一样用到FMM掩膜版技术。但是还是需要控制图案开口的Common Mask，且材料利用率很低，不利于成本的节省与产量的扩大。

技术实现要素：

为了解决上述技术问题，本实用新型的目的在于提供一种蒸镀过程无需Common Mask、利于节省成本与提升产能的OLED照明器件蒸镀装置。

为实现上述技术目的，本实用新型采用以下的技术方案：

OLED照明器件蒸镀装置，包括至少一个坩埚组，所述坩埚组由多个可分别容置蒸镀材料的子坩埚依次排列组成，所述子坩埚的开口分别与OLED照明器件的基板对应位置所需要的蒸镀图案相一致。

作为优选，所述子坩埚的开口均处于同一水平面内。

作为优选，相邻两个所述子坩埚之间的距离相等。

由于采用上述技术方案，本实用新型具有至少以下有益效果：采用多个子坩埚排列成一组，加同一种蒸镀材料，无须使用现在线源通用的线性坩埚，对子坩埚的开口进行控制，在蒸镀的过程中，由于基板离子坩埚很近，所以蒸镀图案可以控制为所需要的形状，只需要在子坩埚开口上设计我们所需要的图案即可，采用这种方案，可以大大减少材料在蒸镀腔体内的浪费，大大提高了材料的利用率。

附图说明

以下附图仅旨在于对本实用新型做示意性说明和解释，并不限定本实用新型的范围。其中：

图1是本实用新型实施例的剖面结构示意图；

图2是本实用新型实施例的俯视结构示意图；

图3是蒸镀后基板的俯视结构示意图。

图中：1-坩埚组；11-子坩埚；12-开口；2-基板；21-蒸镀图案。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，进一步阐述本实用新型。在下面的详细描述中，只通过说明的方式描述了本实用新型的某些示范性实施例。毋庸置疑，本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。

如图1至图3所示，OLED照明器件蒸镀装置，包括至少一个坩埚组1，本实施例中以一组为例进行说明；所述坩埚组1由多个可分别容置蒸镀材料的子坩埚11依次排列组成，子坩埚11的数量可以根据蒸镀基板的需要适当设置；所述子坩埚11的开口12分别与OLED照明器件的基板2对应位置所需要的蒸镀图案21相一致。

其中，所述子坩埚11的开口12均处于同一水平面内，以便于提高蒸镀效果；相邻两个所述子坩埚11之间的距离相等。

参考图1，蒸镀时，将同一种蒸镀材料分别放置在各个子坩埚11内，基板2放进蒸镀腔内，与子坩埚之间的距离T/S压得很低，抽完真空后，开始对坩埚组升温加热使得子坩埚内的材料受热变成气体分子蒸发沉积到基板2上，这样在不用蒸镀Mask的情况下，可以自发的形成蒸镀图案，且由于T/S距离比较短，可以避免材料的大量浪费，大大节省了成本。

参考图3，蒸镀方案如下：将基板1放在蒸镀腔内，先从a面的b1行开始蒸镀，待蒸镀到要求的膜厚之后，基板沿着b的方向移动位置开始蒸镀b2，以此类推，直至将整块基板蒸镀完成。

以上所述仅为本实用新型示意性的具体实施方式，并非用以限定本实用新型的范围。任何本领域内的技术人员，在不脱离本实用新型的构思和原则的前提下所作出的等同变化与修改，均应属于本实用新型保护的范围。