一种高效稳定的离子氮化炉的制作方法

文档序号:12986659阅读:1439来源:国知局
一种高效稳定的离子氮化炉的制作方法与工艺

本实用新型涉及离子氮化炉领域,具体是涉及一种高效稳定的离子氮化炉。



背景技术:

现有的离子氮化炉是一种强化金属表面的热处理工艺设备,其特点是氮化后的工件变形小,氮化层脆性低,耐磨性、耐疲劳强度和耐蚀性都有很大的提高。

由于离子氮化炉的工作是先把炉内抽真空达10.67×102Pa状态,充入氨气,利用阴、阳极加有0~1000V的高压直流电,电离充入的气体,产生辉光放电使氮离子向阴极移动,并与阴极上的工件产生离子交换达到工件氮化的目的。但是在这个过程中氮离子除了与阴极上的工件进行交换,也会与阴极的结构体产生离子交换,阴极的结构如果不合理就会产生打弧现象,因此阴极结构是否合理是关系到炉子能否正常工作的关键。



技术实现要素:

(一)要解决的技术问题

针对现有技术存在的不足,本实用新型提供一种高效稳定的离子氮化炉。

(二)技术方案

为达到上述目的,本实用新型提供了一种高效稳定的离子氮化炉,包括炉底盘、炉罩、阴极盘、防辉盘、防辉帽、阴极盘支撑座、引电柱、绝缘套、密封圈和水冷套,所述引电柱从所述炉底盘底部中间穿入并与所述阴极盘电相连,所述密封圈设置在所述引电柱与所述炉底盘之间,所述冷水套安装在所述炉底盘下端并与所述密封圈相贴合,所述引电柱上安装有防辉帽,所述防辉帽盖住所述引电柱与所述阴极盘的连接处,所述阴极盘有多个,所述多个阴极盘呈扇叶状分布在所述引电柱四周,所述阴极盘支撑座和防辉盘有多个,所述多个防辉盘对应安装在多个阴极盘下端,所述多个阴极盘支撑座对应安装在所述多个防辉盘下端,所述阴极盘支撑座固定在所述炉底盘上,所述炉罩罩在所述炉底盘上。

进一步,还包括绝缘套和防辉溅射套,所述绝缘套套在所述引电柱上,所述防辉溅射套套在所述绝缘套上。

进一步,所述阴极盘有三个,所述三个阴极盘相互之间所呈角度为60度。

进一步,所述引电柱中心处设有排线孔。

进一步,所述阴极盘和防辉盘之间设有防辉间隙。

进一步,所述引电柱、防辉盘和炉底盘的材质为熔铸云母。

(三)有益效果

本实用新型高效稳定的离子氮化炉设置有多个阴极盘,能大大提高离子氮化炉的工作效率,此外采用特殊的引电柱结构能够减少打弧辉光的发生电,提高设备的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型高效稳定的离子氮化炉的结构示意图;

图2为本实用新型高效稳定的离子氮化炉中阴极盘的结构示意图;

图3为本实用新型高效稳定的离子氮化炉中引电柱的结构示意图。

其中,1为炉底盘,2为炉罩,3为阴极盘,4为防辉盘,5为阴极盘支撑座,6为引电柱,7为绝缘套,8为防辉溅射套,9为水冷套,10为密封圈,11为防辉帽,12为排线孔。

具体实施方式

下面结合附图和实施例,对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型,但不用来限制本实用新型的范围。

本实用新型的一种高效稳定的离子氮化炉的结构如图1、图2和图3所示,包括炉底盘1、炉罩2、阴极盘3、防辉盘4、防辉帽11、阴极盘支撑座5、引电柱6、密封圈10和水冷套9,所述引电柱6从所述炉底盘1底部中间穿入并与所述阴极盘3电相连,所述密封圈10设置在所述引电柱6与所述炉底盘1之间,密封圈10用于引电柱6和炉底盘1之间的密封。

所述冷水套9安装在所述炉底盘1下端并与所述密封圈10相贴合,冷水套9为一带有容腔的冷却装置,冷水套9内通冷水用于密封圈10的冷却,从而起到延长密封圈10使用寿命的效果。

所述引电柱6上安装有防辉帽11,所述防辉帽11盖住所述引电柱6与所述阴极盘3的连接处,防滑帽11用于避免阴极盘和引电柱之间的辉光。

所述阴极盘3有多个,所述多个阴极盘3呈扇叶状分布在所述引电柱6四周,所述阴极盘支撑座5和防辉盘4有多个,所述多个防辉盘4对应安装在多个阴极盘3下端,所述多个阴极盘支撑座5对应安装在所述多个防辉盘4下端,所述阴极盘支撑座5固定在所述炉底盘1上,所述炉罩2罩在所述炉底盘1上。防辉盘4的设置能够避免阴极盘3与炉底盘1之间的辉光。

在本实施例中,还包括绝缘套7和防辉溅射套8,所述绝缘套7套在所述引电柱6上,所述防辉溅射套8套在所述绝缘套7上。

在本实施例中,所述阴极盘3有三个,所述三个阴极盘3相互之间所呈角度为60度。

在本实施例中,所述引电柱6中心处设有排线孔12。

在本实施例中,所述阴极盘3和防辉盘4之间设有防辉间隙。

在本实施例中,所述引电柱6、防辉盘4和炉底盘1的材质为熔铸云母。

本实用新型的有益效果:设置有多个阴极盘,能大大提高离子氮化炉的工作效率,此外采用特殊的引电柱结构能够减少打弧辉光的发生电,提高设备的稳定性。

以上所述仅是本实用新型的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本实用新型技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。

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