本实用新型涉及化学气相沉积镀膜设备技术领域，尤其涉及一种热丝CVD金刚石涂层设备。
背景技术：
化学气相沉积镀膜设备是通过反应的方式，利用加热、等离子激励或光辐射等各种能源，在镀膜设备内使气态或蒸汽状态的化学物质在固界面上经反应形成一层膜。目前，现有的化学气相沉积镀膜设备在刀具上制备金刚石涂层过程中，刀具表面金刚石涂层生成周期长，生产效率低，而且，发热丝热场不均匀，反应气体热解效率低，导致金刚石涂层生成速度慢，金刚石涂层的一致性不能很好保障。
技术实现要素：
为了解决上述技术问题，本实用新型揭示了一种热丝CVD金刚石涂层设备,其包括第一机壳；
内置于第一机壳的第二机壳，第二机壳与第一机壳的顶部相连接，第二机壳与第一机壳之间形成冷却空间；
设置于第一机壳及第二机壳顶部的第三机壳，第一机壳、第二机壳及第三机壳形成一密封的反应腔室，第三机壳具有至少一反应气体入口，至少一反应气体入口连通反应腔室；
设置于反应腔室的水冷基台，水冷基台包括第一工作平台及第二工作平台，第一工作平台及第二工作平台的顶部相连接，第一工作平台及第二工作平台间具有一夹角A；
设置于反应腔室的发热装置，发热装置位于水冷基台的上方，发热装置包括两组接线柱、发热丝组及连接机构，两组接线柱设置于反应腔室，并分别位于水冷基台的两侧，两组接线柱分别连接直流电源的正极及负极，发热丝组的两端分别连接两组接线柱，连接机构设置于反应腔室，并位于两组接线柱间，连接机构分隔发热丝组成第一部分及第二部分，第一部分及第二部分分别平行第一工作平台及第二工作平台；以及
位于第一机壳一侧的冷水机，冷水机的进口分别连接冷却空间及水冷基台，冷水机的出口分别连接冷却空间及水冷基台。
根据本实用新型的一实施方式，上述至少一反应气体入口的数量为两个，两个反应气体入口分别与第一部分及第二部分垂直。
根据本实用新型的一实施方式，上述夹角A介于100度至160度之间。
根据本实用新型的一实施方式，上述连接机构包括支撑杆及折弯杆，支撑杆设置于反应腔室，并位于两组接线柱间，折弯杆设置于支撑杆，并分割发热丝组。
根据本实用新型的一实施方式，上述热丝CVD金刚石涂层设备还包括排气孔，排气孔连通所述反应腔室及外界。
根据本实用新型的一实施方式，上述热丝CVD金刚石涂层设备还包括维持泵，维持泵连接排气孔。
根据本实用新型的一实施方式，上述维持泵为真空机械泵。
与现有技术相比，本实用新型可以获得包括以下技术效果：
本实用新型的热丝CVD金刚石涂层设备结构简单，制造成本低廉，加快企业的生产效率，降低企业的生产成本；并且，生成的金刚石涂层牢固，生成金刚石涂层快速，在刀具使用过程中，金刚石涂层不易脱落，生产的刀具质量一致性好。
附图说明
图1为本实用新型一实施方式的热丝CVD金刚石涂层设备的示意图。
附图标记说明：
1、第一机壳；2、第二机壳；3、第三机壳；31、至少一反应气体入口；4、水冷基台；41、第一工作平台；42、第二工作平台；5、发热装置；51、两组接线柱；52、发热丝组；521、第一部分；522、第二部分；53、连接机构；531、支撑杆；532、折弯杆；6、冷水机；7、冷却空间；8、反应腔室；9、直流电源；10、刀具；11、排气孔；12、维持泵。
具体实施方式
以下将以图式揭露本实用新型的多个实施方式，为明确说明起见，许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而，应了解到，这些实务上的细节不应用以限制本实用新型。也就是说，在本实用新型的部分实施方式中，这些实务上的细节是非必要的。此外，为简化图式起见，一些习知惯用的结构与组件在图式中将以简单的示意的方式绘示之。
关于本文中所使用之“第一”、“第二”等，并非特别指称次序或顺位的意思，亦非用以限定本实用新型，其仅仅是为了区别以相同技术用语描述的组件或操作而已。
请参阅图1，其为本实用新型一实施方式的热丝CVD金刚石涂层设备的示意图。如图所示，本实用新型揭示了一种热丝CVD金刚石涂层设备，热丝CVD金刚石涂层设备用于化学气相沉积镀膜设备技术领域，将金刚石涂层涂覆于刀具的指定位置。热丝CVD金刚石涂层设备包括第一机壳1、第二机壳2、第三机壳3、水冷基台4、发热装置5及冷水机6。第二机壳2内置于第一机壳1，第二机壳2与第一机壳1的顶部相连接，第二机壳1与第一机壳2之间形成冷却空间7。第三机壳3设置于第一机壳1及第二机壳2的顶部，第一机壳1、第二机壳2及第三机壳3形成一密封的反应腔室8。第三机壳3具有至少一反应气体入口31，至少一反应气体入口31连通反应腔室8。水冷基台4设置于反应腔室8，水冷基台4包括第一工作平台41及第二工作平台42，第一工作平台41及第二工作平台42的顶部相连接，第一工作平台41及第二工作平台42间具有一夹角A。发热装置5设置于反应腔室8，发热装置5位于水冷基台4的上方。发热装置5包括两组接线柱51、发热丝组52及连接机构53。两组接线柱51设置于反应腔室8，两组接线柱51分别位于水冷基台4的两侧，两组接线柱51分别连接直流电源9的正极及负极。发热丝组52的两端分别连接两组接线柱51，连接机构53设置于反应腔室8，连接机构53位于两组接线柱51间，连接机构53分隔发热丝组52成第一部分521及第二部分522，第一部分521及第二部分522分别平行第一工作平台41及第二工作平台42。冷水机6位于第一机壳1的一侧，冷水机6的进口分别连接冷却空间7及水冷基台4，冷水机6的出口分别连接冷却空间7及水冷基台4。多个刀具10分别置于第一工作平台41及第二工作平台42，于此同时，直流电源9通入电源，使得发热丝组52发热，充分加热反应腔室8及多个刀具10；尔后，至少一反应气体入口31通入反应气体，反应气体与多个刀具10产生反应，多个刀具10的指定位置生成金刚石涂层。在多个刀具10的指定位置生成金刚石涂层过程中，冷水机6开始工作，使得反应腔室8及多个刀具10其余位置保持一定温度，防止多个刀具10其余位置生成金刚石涂层。
具体应用时，上述的至少一反应气体入口31的数量为两个，两个反应气体入口31分别与第一部分521及第二部分522垂直。两个反应气体入口31分别与第一部分521及第二部分522垂直，有利于反应气体热解效率，提升反应气体活性基团的能量和自由程，减少反应气体的使用，生成的金刚石涂层一致性好，金刚石涂层生成效率高，降低企业的生产成本。
具体应用时，上述的夹角A介于100度至160度之间。水冷基台4包括第一工作平台41及第二工作平台42，第一工作平台41及第二工作平台42的夹角A介于100度至160度之间，使得水冷基台4能放置更多的刀具10，增加一次反应的刀具10数量，提升企业的生产效率。
具体应用时，上述的连接机构53包括支撑杆531及折弯杆532。支撑杆531设置于反应腔室8，支撑杆531位于两组接线柱51间，折弯杆532设置于支撑杆531，折弯杆532分割发热丝组52成第一部分521及第二部分522，第一部分521及第二部分522分别平行第一工作平台41及第二工作平台42。使得多个刀具10与发热丝组52的距离均匀一致，多个刀具10生成的金刚石涂层一致性好，金刚石涂层生成效率高，反应气体利用率高，降低企业的生产成本。
具体应用时，上述的热丝CVD金刚石涂层设备1还包括排气孔11及维持泵12，排气孔11连通反应腔室8，维持泵12连接排气孔11。维持泵12及排气孔11使得反应腔室8的气压稳定，放置反应腔室8内的气压过高，发生危险，或者造成多个刀具10生成金刚石涂层失败。具体应用时，上述的维持泵12为真空机械泵，当然，维持泵12也可根据实际使用情况选用，于此不再赘述。
综上所述，本实用新型的一或多个实施方式中，本实用新型的热丝CVD金刚石涂层设备结构简单，制造成本低廉，加快企业的生产效率，降低企业的生产成本；并且，生成的金刚石涂层牢固，生成金刚石涂层快速，在刀具使用过程中，金刚石涂层不易脱落，生产的刀具质量一致性好。
上所述仅为本实用新型的实施方式而已，并不用于限制本实用新型。对于本领域技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原理的内所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包括在本实用新型的权利要求范围之内。