本实用新型涉及瓷砖加工设备领域，特别是指一种新型瓷砖抛光机。
背景技术：
瓷砖加工设备，目前最主要是圆弧抛光机+瓷砖切割机组合，主要用于加工梯级砖，地脚线等陶瓷加工行业，优点在于，加工精度高，速度快等特点，因为瓷砖是易碎品，当抛光机用来加工瓷砖二度时候，在抛光过程中容易造成一些粉末和磨屑，造成抛光机粉尘堆积，妨碍工作并且对抛光机的使用寿命会大大减少。
抛光后的瓷砖粗糙度降低，表面变得光亮、平整，使瓷砖变得好清理而且美观；抛光后的瓷砖耐磨耐压，增加了瓷砖的耐用性，而且也扩大了瓷砖的应用范围。在瓷砖的生产过程中，通过瓷砖抛光机对瓷砖进行抛光。
在瓷砖不同尺寸的时候，一般的打磨抛光设备不能相对进行调节，另外抛光时会产生一些粉尘，对人体造成危害。
技术实现要素：
本实用新型提出一种新型瓷砖抛光机，能够根据瓷砖宽度来调节抛光装置的位置，且能有效除尘、清洗和烘干。
本实用新型的技术方案是这样实现的：一种新型瓷砖抛光机，包括工作台，以及工作台上设置的抛光装置，工作台上还设有输送待打磨瓷砖的输送带，所述抛光装置包括平行设置的三组抛光磨头，每组至少两个，分别位于输送带运动方向的中间和两边沿位置；所述工作台上方还设有鼓风机，输送带的下方设有水槽；所述输送带末端的工作台上还设有喷淋装置和烘干装置。
作为优选，所述中间和两边的抛光磨头交替间隔设置，每个抛光磨头直径等于输送带宽度的一半。
作为优选，所述输送带的两侧的工作台上各设有一个与其平行的横杆，且两个横杆之间间距可调节，两侧的抛光磨头固定设置在横杆上。
作为优选，所述每个横杆均通过两个平行设置的丝杆平移台连接在工作台上。
作为优选，所述工作台上还设有一个支架，该支架位于输送带正上方且同向方向设置，鼓风机、喷淋装置、烘干装置和中间一组的打磨头均设置在该支架上。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：可以根据瓷砖需要的大小，调节丝杆平移台，从而推动横杆及其上的抛光磨头的位置，以适应瓷砖的宽度；支架上设有鼓风机向下吹风，输送带下方设有水槽，抛光产生的灰尘直接吹到水槽内被吸附，能够有效除尘；且输送带末端的工作台上设有喷淋装置和烘干装置，喷淋装置能够对附着在瓷砖上的灰尘进行清洗，烘干装置能对清洗后的瓷砖进行烘干。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：1、工作台；2、输送带；3、抛光磨头；4、鼓风机；5、水槽；6、横杆；7、喷淋装置；8、烘干装置；9、丝杆平移台；10、支架。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例：参见图1 ，一种新型瓷砖抛光机，包括工作台1，以及工作台1上设置的抛光装置，工作台1上还设有输送待打磨瓷砖的输送带2，所述抛光装置包括平行设置的三组抛光磨头3，每组至少两个，分别位于输送带2运动方向的中间和两边沿位置；所述工作台1上方还设有鼓风机4，输送带2的下方设有水槽5；所述输送带2末端的工作台1上还设有喷淋装置7和烘干装置8。
作为优选，所述中间和两边的抛光磨头3交替间隔设置，每个抛光磨头3直径等于输送带2宽度的一半。
作为优选，所述输送带2的两侧的工作台1上各设有一个与其平行的横杆6，且两个横杆6之间间距可调节，两侧的抛光磨头3固定设置在横杆6上。
作为优选，所述每个横杆6均通过两个平行设置的丝杆平移台9连接在工作台1上。
作为优选，所述工作台1上还设有一个支架10，该支架10位于输送带2正上方且同向方向设置，鼓风机4、喷淋装置7、烘干装置8和中间一组的打磨头均设置在该支架10上。
与现有技术相比，本实用新型的优点在于：可以根据瓷砖需要的大小，调节丝杆平移台9，从而推动横杆6及其上的抛光磨头3的位置，以适应瓷砖的宽度；支架10上设有鼓风机4向下吹风，输送带2下方设有水槽5，抛光产生的灰尘直接吹到水槽5内被吸附，能够有效除尘；且输送带2末端的工作台1上设有喷淋装置7和烘干装置8，喷淋装置7能够对附着在瓷砖上的灰尘进行清洗，烘干装置8能对清洗后的瓷砖进行烘干。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。