带钢用化学气相沉积炉的制作方法

本发明涉及一种化学气相沉积炉，具体而言，涉及一种带钢用化学气相沉积炉。

背景技术：

化学气相沉积可应用于带钢表面性能的改善，化学气相沉积的作用原理是：在反应室内，加热需要进行沉积处理的基材并通入气相化学反应物，气相化学反应物在基材的表面上发生化学反应从而获得所需的化学气相沉积层，即薄膜。化学气相沉积设备广泛应用于半导体器件制造行业，其进行化学气相沉积处理时，需要将基材置入封闭的反应室内进行处理，而这种方式无法应用于带钢的连续式生产中。

针对现有技术中所存在的上述问题，提供一种带钢用化学气相沉积炉具有重要意义。

技术实现要素：

为解决上述问题，本发明提供一种带钢用化学气相沉积炉，其能够使反应腔内气流均匀，且其使用寿命长。

为实现上述目的，本发明的带钢用化学气相沉积炉，包括炉体，所述炉体内部形成有多个反应腔，各所述反应腔之间通过加热通道连通，所述加热通道的两侧设有用于加热所述带钢的感应加热器，所述反应腔内设有一对用于向所述带钢的上下表面喷射气相化学反应物的喷嘴。

优选地，所述炉体具有供所述带钢进出的进口和出口，所述进口和出口处均设有一对用于传送所述带钢的传送辊。

进一步地，所述传送辊的材质为氮化硅。

优选地，所述炉体内壁的材质为石英。

优选地，所述喷嘴的材质为石英。

优选地，所述炉体上开设有用于排出废气的排气孔。

本发明的带钢用化学气相沉积炉，将化学气相沉积工艺中的加热和化学反应交替进行，各反应腔相互独立，反应腔内只设有一对喷嘴，没有其他气源和加热装置，使得各反应腔内气流均匀，从而使带钢表面可以获得较均匀的薄膜；同时，将传送辊设于炉体的进口和出口，可以实现在相对密闭的空间内对连续运行的带钢进行化学气相沉积处理。另外，炉体内壁、喷嘴以及传送辊采用耐高温耐腐蚀的材质，可延长该带钢用化学气相沉积炉的使用寿命。

附图说明

图1为本发明的带钢用化学气相沉积炉的结构示意图，其中，箭头方向表示带钢运行方向。

具体实施方式

下面，结合附图，对本发明的结构以及工作原理等作进一步的说明。

参见图1，本发明的带钢用化学气相沉积炉，包括炉体5，炉体5内部形成有多个反应腔7，各反应腔7之间通过加热通道8连通，加热通道8的上下两侧设有用于加热带钢1的感应加热器3，感应加热器3内嵌于炉体5上，反应腔7内设有一对用于向带钢1的上下表面喷射气相化学反应物的喷嘴4。

该炉体5具有供带钢1进出的进口(图中未标示)和出口(图中未标示)，进口和靠近进口的反应腔7之间、出口和靠近出口的反应腔7之间均通过加热通道8连通。

本发明的带钢用化学气相沉积炉的工作原理是：带钢1由进口进入炉体5内，首先经过加热通道8被感应加热器3加热，然后进入反应腔7，喷嘴4向带钢1的上下表面喷射气相化学反应物，气相化学反应物在高温的带钢1表面发生化学反应并在带钢1表面生成薄膜，经化学气相沉积处理的带钢1再进入下一个加热通道8进行加热，然后再进入下一个反应腔7进行化学反应，如此交替进行加热和化学反应后，经化学气相沉积处理的带钢1由出口离开炉体5。

由于化学气相沉积需要在相对密闭的空间内进行，因此，可将用于传送带钢1的一对传送辊2设于炉体5的进口和出口，在传送带钢1的同时将进口和出口封住，以获得相对密闭的空间。

由于气相化学反应物为腐蚀性气体，而且化学气相沉积是在高温下进行的，为了避免与气相化学反应物接触的部位受高温损坏或者被气体腐蚀，炉体5内壁、喷嘴4以及传送辊2可采用耐高温耐腐蚀的材质，优选地，炉体5内壁和喷嘴4可选用石英制作，传送辊2可选用氮化硅制作。

另外，气相化学反应物在带钢1表面发生化学反应后会产生废气，因此，炉体5上还开设有用于排出废气的排气孔6。

本发明的带钢用化学气相沉积炉，将化学气相沉积工艺中的加热和化学反应交替进行，各反应腔7相互独立，反应腔7内只设有一对喷嘴4，没有其他气源和加热装置，使得各反应腔7内气流均匀，从而使带钢1表面可以获得较均匀的薄膜；同时，将传送辊2设于炉体5的进口和出口，可以实现在相对密闭的空间内对连续运行的带钢1进行化学气相沉积处理。另外，炉体5内壁、喷嘴4以及传送辊2采用耐高温耐腐蚀的材质，可延长该带钢用化学气相沉积炉的使用寿命。

以上，仅为本发明的示意性描述，本领域技术人员应该知道，在不偏离本发明的工作原理的基础上，可以对本发明作出多种改进，这均属于本发明的保护范围。

技术特征：

技术总结
本发明公开了一种带钢用化学气相沉积炉，包括炉体，所述炉体内部形成有多个反应腔，各所述反应腔之间通过加热通道连通，所述加热通道的两侧设有用于加热所述带钢的感应加热器，所述反应腔内设有一对用于向所述带钢的上下表面喷射气相化学反应物的喷嘴。采用本发明的带钢用化学气相沉积炉，能够使反应腔内气流均匀，且其使用寿命长。

技术研发人员：王波;郝允卫
受保护的技术使用者：宝山钢铁股份有限公司
技术研发日：2018.02.12
技术公布日：2019.08.23