技术特征：
技术总结
本发明提供一种气体处理装置，其具备：载置部，其设置于真空气氛的处理室，用于载置基板；气体供给部，其位于载置部的上方侧且构成处理室的顶部，并形成有用于将所述处理气体以喷淋状供给的多个气体供给口；气体供给路径形成部，其具备从气体供给部的上方与该气体供给部相向且界定用于使处理气体沿横向扩散的扩散空间的平坦的相向面，该气体供给路径形成部形成处理气体的供给路径；凹部，其围绕相向面的中央部设置；以及气体分散部，沿该气体分散部的周向形成有多个气体喷出口以使从气体分散部供给路径供给的处理气体沿横向分散到扩散空间，围绕相向面的中央部设置有多个气体分散部，各气体分散部分别以不从该相向面突出的方式设置在所述凹部内。
技术研发人员：神尾卓史;布重裕
受保护的技术使用者：东京毅力科创株式会社
技术研发日：2018.07.24
技术公布日：2019.02.01