银合金靶材、薄膜及其制备方法与流程

文档序号:16816766发布日期:2019-02-10 14:45阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供银合金靶材、薄膜及其制备方法,该银合金靶材构成为AgxInyMzQn,其中铟的比例为8%≤y≤40%(原子比),M为锡、金、铂、钯、铌、铑、钌中的至少一种元素,0≤z≤8%(原子比),Q为稀土元素中的至少一种元素,0≤n≤3%(原子比),且银的含量x≥60%(原子比)。该银合金靶材可由磁控溅射镀,离子溅射镀、真空蒸镀或电子束蒸发制得具有优良耐热性、附着力、导电性、耐腐蚀性及抗硫化性的银合金薄膜,适用于反射电极膜、液晶显示器、光记录介质、有机发光二极管及电致变色等领域。

技术研发人员:许冰文;陈支勇;国星;黄嵚甫
受保护的技术使用者:吉晟光电(深圳)有限公司
技术研发日:2018.10.24
技术公布日:2019.02.05
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