一种压延铜箔专用清洗机的制作方法

文档序号:15363138发布日期:2018-09-05 01:07阅读:916来源:国知局

本实用新型涉及清洗设备技术领域,尤其涉及一种压延铜箔专用清洗机。



背景技术:

压延铜箔的生产工艺复杂,技术含量高,脱脂清洗过程是压延铜箔生产的 重要环节,一是将压延铜箔表面的油去除掉,二是对压延铜箔进行表面防氧化 处理。这一问题与压延铜箔的脱脂方式及工艺要求密切相关。

目前常用的压延铜箔清洗装置不能有效的对清洗后的废液进行回流收集,导致清洗废液内的铜粉大量流失,不易进行重新利用,造成浪费,不能满足使用的需要。



技术实现要素:

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种压延铜箔专用清洗机。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种压延铜箔专用清洗机,包括放料辊,所述放料辊物料输出端通过过料轮连接有除油槽,所述除油槽的侧壁外部装设有溢流槽,且除油槽的侧壁顶部一侧朝向溢流槽端还开设有溢流口,所述溢流槽的外端部还装设有废液收集槽,所述溢流槽的中部朝向废液收集槽端也开设有溢流口,所述除油槽的整体呈立方体形,且内部装设有植毛辊,所述植毛辊的物料输出端还连接有吸水辊,所述吸水辊的物料输出端还通过过料轮依次与外侧放置的磷化槽内部的植毛辊和吸水辊相连接,所述磷化槽的物料输出端还连接有烘烤箱,所述烘烤箱的出料端与外部的收料辊连接。

优选地,所述放料辊的外部绕接有待清洗的压延铜箔卷材。

优选地,所述植毛辊与吸水辊均由两组辊体呈夹设的8形组成。

优选地,所述溢流槽的内部还装设有回流水泵,所述回流水泵的进水端装设于溢流槽的底部,所述回流水泵的出水端开设于除油槽的底部。

优选地,所述磷化槽的内部加设有抗氧化剂。

优选地,所述烘烤箱的内腔内加设有加热棒,所述烘烤箱的内壁内部填充有保温材料。

优选地,所述烘烤箱的出料端外部与收料辊的轴心外侧均传动连接有主动转动电机。

本实用新型加设的回流水泵结构,能够将溢流槽底部清液回流入除油槽,即可最大程度的将带有金属离子的清洗液进行回收,有助于溶液中铜金属的提取,避免物料的浪费,本实用新型结构简单、清洁效果显著,便于推广使用。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种压延铜箔专用清洗机的结构示意图。

图中:1放料辊、2过料轮、3除油槽、4溢流槽、5溢流口、6废液收集槽、7植毛辊、8吸水辊、9磷化槽、10烘烤箱、11收料辊、12回流水泵、13加热棒、14保温材料、15主动转动电机。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1,一种压延铜箔专用清洗机,包括放料辊1、过料轮2、除油槽3、溢流槽4、溢流口5、废液收集槽6、植毛辊7、吸水辊8、磷化槽9、烘烤箱10、收料辊11、回流水泵12、加热棒13、保温材料14和主动转动电机15,所述放料辊1物料输出端通过过料轮2连接有除油槽3,所述除油槽3的侧壁外部装设有溢流槽4,且除油槽3的侧壁顶部一侧朝向溢流槽4端还开设有溢流口5,所述溢流槽4的外端部还装设有废液收集槽6,所述溢流槽4的中部朝向废液收集槽6端也开设有溢流口5,所述除油槽3的整体呈立方体形,且内部装设有植毛辊7,所述植毛辊7的物料输出端还连接有吸水辊8,所述吸水辊8的物料输出端还通过过料轮2依次与外侧放置的磷化槽9内部的植毛辊7和吸水辊8相连接,所述磷化槽9的物料输出端还连接有烘烤箱10,所述烘烤箱10的出料端与外部的收料辊11连接。

进一步地,所述放料辊1的外部绕接有待清洗的压延铜箔卷材。

进一步地,所述植毛辊7与吸水辊8均由两组辊体呈夹设的8形组成。

进一步地,所述溢流槽4的内部还装设有回流水泵12,所述回流水泵12的进水端装设于溢流槽4的底部,所述回流水泵12的出水端开设于除油槽3的底部。

进一步地,所述磷化槽9的内部加设有抗氧化剂,除油槽3的内部装设的是加设有洗涤剂的清洁水。

进一步地,所述烘烤箱10的内腔内加设有加热棒13,所述烘烤箱10的内壁内部填充有保温材料14。

进一步地,所述烘烤箱10的出料端外部与收料辊11的轴心外侧均传动连接有主动转动电机15。

工作原理:

铜箔因在压延机压延时表面粘着大量的油污,首先经除油槽3第一次除油,除油时用植毛辊7双面刷洗,刷洗油污自动上浮水面。在不停加水时,表面油污自溢流口向外留放,在溢流槽底部用水泵抽回除油槽3清洗桶内,如此循环,即可最大程度的将下部的清洗液进行回收,有助于溶液中铜金属的提取,避免物料的浪费,磷化操作为在溶液中加入抗氧化剂,再经烘烤后收卷,结构简单、清洁效果显著,便于推广使用。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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