一种CVD相关设备再生的表面研磨结构的制作方法

本实用新型属于研磨辅助设备技术领域，具体涉及一种CVD相关设备再生的表面研磨结构。

背景技术：

CVD相关设备再生过程中，无论是手工还是自动研磨都是必不可少的一道工艺流程，在自动研磨过程中，是由4个磨轮组合对产品表面按照程序编制的走向对产品表面进行全面研磨，以达到工艺要求的表面粗糙度。

在研磨过程中，磨头一直运动，现有研磨机外接水是由万向管提供，运动过程中，喷水方向易发生改变，从而达不到应有的冷却及冲洗作用，导致产品表面研磨不良，影响产品质量。

另外，研磨过程中，研磨机与产品表面加工会产生一些研磨粉杂质，由于离心力作用，研磨粉杂质会随着水甩出，其中部分会粘附到产品表面冲洗不彻底，当研磨至该处时，会对产品表面造成局部划伤而影响产品质量。

技术实现要素：

本实用新型旨在解决现有技术中存在的技术问题。为此，本实用新型提供一种CVD相关设备再生的表面研磨结构，目的是使外接水冲洗时不会产生方向上的变化，便于冷却和清洗。

为了实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种CVD相关设备再生的表面研磨结构，包括磨轮和底面开口的盒体，所述盒体的底端周向侧壁设有输水管和设于输水管上可将水喷至磨轮边缘的喷嘴，所述盒体预留有水管进口，供水管穿过水管进口与输水管连接。

所述磨轮为气动磨轮，所述盒体预留有气管进口，气管穿过气管进口对气动磨轮供气。

所述磨轮为多个，磨轮的底面到盒体底面的距离为50-60mm，每一个磨轮的边缘到相邻盒体侧面的垂直距离为50-60mm。

所述喷嘴的指向方向与盒体侧壁之间的夹角为30-45°。

所述喷嘴为鸭舌喷嘴。

所述结构还包括外套盒体的毛刷，且毛刷可沿盒体侧壁的上下方向运动。

所述毛刷为尼龙毛排刷。

输水管通过供水管穿过水管进口与外接水源连接。

本实用新型的有益效果：

1、本实用新型的研磨结构是对现有自动研磨头进行改进，将研磨头的外接水进行固定，不会产生方向上的变化，使外接水的冷却及冲洗作用达到最大化，同时也能起到一定的研磨粉杂质过滤作用，大大提升产品研磨质量。

2、对产品在研磨过程中产生的研磨粉杂质进一步拦截，同时对产品表面也起到了一定的清扫作用，保证产品表面清洁度，使研磨质量达到工艺要求。

附图说明

本说明书包括以下附图，所示内容分别是：

图1是本实用新型的俯视图；

图2是本实用新型的侧视图。

图中标记为：

1、磨轮，2、盒体，3、输水管，4、喷嘴，5、供水管，6、毛刷。

具体实施方式

下面对照附图，通过对实施例的描述，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明，目的是帮助本领域的技术人员对本实用新型的构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解，并有助于其实施。

如图1至图2所示，一种CVD相关设备再生的表面研磨结构，其是在原有的研磨机上添加的辅助结构，该研磨包括磨轮1和底面开口的盒体2，盒体2的底端周向侧壁设有输水管3和设于输水管3上可将水喷至磨轮1边缘的喷嘴4，盒体2预留有水管进口，供水管5穿过水管进口与输水管3连接。喷嘴4优选为鸭舌喷嘴。盒体优选为正方体的盒体，根据需要采用PVC硬质材质制作的正方体盒体作为该研磨结构的外框架，其外罩于磨轮的上方，可通过支架固定于研磨机上，或者通过支撑架固定于地面上。由于在盒体底部的周向方向侧壁固定设置一圈输水管，并且在这一圈输水管上设置多个喷嘴，使得多个喷嘴环绕设置在磨轮的周向方向，其喷水的方向不会发生改变，需要喷水时，将供水管与外接水源连接，水通过供水管输送至输水管，之后经过喷嘴喷到磨轮上，能够达到冷却及冲洗的作用。

磨轮可以采用电动磨轮，当磨轮1为气动磨轮时，盒体2预留有气管进口，气管穿过气管进口对气动磨轮供气。根据需要，磨轮一般为多个，便于产品的研磨，目前研磨机内的磨轮优选采用四个，四个磨轮均布在盒体的内部中心处，磨轮1的底面到盒体2底面的垂直距离为50-60mm，每一个磨轮1的边缘到相邻盒体侧面的垂直距离为50-60mm。盒体各面距离相应靠近各面的磨轮边缘设置为50-60mm，便于产品的研磨以及设置喷嘴进行喷水，喷嘴的指向方向与盒体侧壁之间的夹角优选控制为30-45°。使喷嘴喷出的水帘能够喷至磨轮边缘，既起到冷却和清洗的作用，也可起到一定的研磨粉杂质过滤的作用，并且喷嘴安装调试好后，喷水方向不易发生改变。

进一步的，上述研磨结构还包括外套盒体2的毛刷6，且毛刷6可沿盒体2侧壁的上下方向运动。毛刷优选为尼龙毛排刷。尼龙毛排刷安装至盒体最外部，使其可以上下自由调节。毛排刷的尼龙毛需致密，致密直径0.1-0.3mm，在磨头运动过程中，与产品接触运动，既对产品起到一定清洗作用，又对研磨粉杂质起到了一定的拦截作用；待使用一段时间后，毛刷产生磨损，此时将毛排刷下移一段距离继续使用，磨损至不能下移时进行更换。

以上结合附图对本实用新型进行了示例性描述。显然，本实用新型具体实现并不受上述方式的限制。只要是采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进；或未经改进，将本实用新型的上述构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。