技术总结
本实用新型公开了一种用于多弧离子镀设备圆形平面多弧靶装置，靶座焊接在真空腔体上，密封绝缘垫安装在靶座上，靶连接法兰压住密封绝缘垫设置，连接螺丝绝缘套通过内六角螺丝固定安装在靶连接法兰的螺孔中，O型圈安装在靶连接法兰上，靶头绝缘垫安装在O型圈上，靶头装置安装在靶头绝缘垫上，靶头装置内部通过靶连接上压法兰固定有磁钢装置，靶材在真空侧通过螺丝固定在靶头装置上，屏蔽罩通过靶材装配在靶连接法兰上，靶头装置上还连接有外部接线柱，引弧装置安装在靶连接法兰上。本实用新型实现离子镀膜的最佳工艺，极大的提高生产效率，并提供一种气动控制式多弧靶引弧针，结构简单，引狐动作稳定、准确，密封可靠。
技术研发人员：张俊峰;赵子东;许春立;张大剑
受保护的技术使用者：上海子创镀膜技术有限公司
技术研发日：2018.11.26
技术公布日：2019.08.16