高效离子镀膜试验装置的制造方法
【专利摘要】本实用新型公开了高效离子镀膜试验装置，包括主体支架，其特征在于：所述的主体支架上设有放电加工室，所述的放电加工室内设有基片及阴极单元，其中，所述的基片与所述的阴极单元连接，所述的主体支架上设有与所述的基片连接的输出装置，所述的输出装置旁设有用于控制工作压力的进气控制装置。本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供增加生产效率，降低经济成本的高效离子镀膜试验装置。
【专利说明】
高效离子镀膜试验装置
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及试验装置，更具体地说是高效离子镀膜试验装置。
【【背景技术】】
[0002]镀膜是一项重要的生产工艺技术，现有的真空溅射镀膜设备一般需要先将溅射真空室抽取到一个合适的真空负载，最常用的方法是向真空室内连续充入一定流量的惰性气体，例如，通常采用较为廉价而且安全的工业氩气，但是由于工业气体存在杂质气体的现象不可避免，因此生产效率很低，如何对于现有的镀膜设备存在的不足进行改进是本领域技术人员一直研究的方向。
【【实用新型内容】】
[0003]本实用新型目的是克服了现有技术的不足，提供增加生产效率，降低经济成本的高效离子镀膜试验装置。
[0004]本实用新型是通过以下技术方案实现的:
[0005]高效离子镀膜试验装置，包括主体支架9，其特征在于:所述的主体支架9上设有放电加工室3，所述的放电加工室3内设有基片I及阴极单元2，其中，所述的基片I与所述的阴极单元2连接，所述的主体支架9上设有与所述的基片I连接的输出装置10，所述的输出装置10旁设有用于控制工作压力的进气控制装置6。
[0006]如上所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的输出装置10包括供电装置1a以及输出管道1001，所述的输出管道1001与所述的基片I连通。
[0007]如上所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的供电装置1a包括负偏压电源1002及电阻丝加热电源1003，所述的主体支架9上设有镀料单元5，所述的镀料单元5分别于所述的负偏压电源1002及电阻丝加热电源1003连接。
[0008]如上所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的负偏压电源1002—端与所述的输出管道1001电接连，另一端与所述的镀料单元5电连接，所述的电阻丝加热电源1003—端与所述的负偏压电源1002电连接，另一端与所述的镀料单元5电连接。
[0009]如上所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的负偏压电源1002的可调范围为Ikv?5kv。
[0010]如上所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的进气控制装置6的工作压力为 l*10_lPa。
[0011 ]如上所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的镀料单元5采用阳极镀料。
[0012]如上所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的镀料单元5上设有控制工作温度的电阻加热装置4。
[0013]与现有技术相比，本实用新型有如下优点:
[0014]1、本实用新型结构合理，生产加工方便，成膜速率高，从而大大增加了生产效率。
[0015]2、本实用新型的绕镀性好，镀膜后的膜层附着力强，可在任何材料的工件上镀膜，方便企业生产，降低成本。
【【附图说明】】
[0016]图1是本实用新型的结构不意图；
[0017]下面将结合附图及【具体实施方式】对本实用新型作进一步说明。
【【具体实施方式】】
[0018]如图1所示，高效离子镀膜试验装置，包括主体支架9，所述的主体支架9上设有放电加工室3，所述的放电加工室3内设有基片I及阴极单元2，其中，所述的基片I与所述的阴极单元2连接，所述的主体支架9上设有与所述的基片I连接的输出装置10，所述的输出装置10旁设有用于控制工作压力的进气控制装置6。
[0019]所述的输出装置10包括供电装置1a以及输出管道1001，所述的输出管道1001与所述的基片I连通。其优点在于结构合理，输出效果好。
[0020]所述的供电装置1a包括负偏压电源1002及电阻丝加热电源1003，所述的主体支架9上设有镀料单元5，所述的镀料单元5分别于所述的负偏压电源1002及电阻丝加热电源1003连接。
[0021]所述的负偏压电源1002—端与所述的输出管道1001电接连，另一端与所述的镀料单元5电连接，所述的电阻丝加热电源1003—端与所述的负偏压电源1002电连接，另一端与所述的镀料单元5电连接。
[0022]所述的负偏压电源1002的可调范围为Ikv?5kv。
[0023]所述的进气控制装置6的工作压力为l*10_lPa。
[0024]所述的镀料单元5采用阳极镀料。其优点在于结构合理，方便生产加工。
[0025]所述的镀料单元5上设有控制工作温度的电阻加热装置4。其优点在于结构合理，生产效果好。
[0026]以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并非用来限定本实用新型实施的范围，其他凡其原理和基本结构与本实用新型相同或近似的，均在本实用新型保护范围之内。
【主权项】
1.高效离子镀膜试验装置，包括主体支架(9)，其特征在于:所述的主体支架(9)上设有放电加工室(3)，所述的放电加工室(3)内设有基片(I)及阴极单元(2)，其中，所述的基片(I)与所述的阴极单元(2)连接，所述的主体支架(9)上设有与所述的基片(I)连接的输出装置(10)，所述的输出装置(10)旁设有用于控制工作压力的进气控制装置(6)。2.根据权利要求1所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的输出装置(10)包括供电装置(1a)以及输出管道(1001)，所述的输出管道(1001)与所述的基片(I)连通。3.根据权利要求2所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的供电装置(1a)包括负偏压电源(1002)及电阻丝加热电源(1003)，所述的主体支架(9)上设有镀料单元(5)，所述的镀料单元(5)分别于所述的负偏压电源(1002)及电阻丝加热电源(1003)连接。4.根据权利要求3所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的负偏压电源(1002)—端与所述的输出管道(1001)电接连，另一端与所述的镀料单元(5)电连接，所述的电阻丝加热电源(1003)—端与所述的负偏压电源(1002)电连接，另一端与所述的镀料单元(5)电连接。5.根据权利要求3所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的负偏压电源(1002)的可调范围为Ikv?5kv。6.根据权利要求1所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的进气控制装置(6)的工作压力为l*10-lPa。7.根据权利要求3所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的镀料单元(5)采用阳极镀料。8.根据权利要求3所述的高效离子镀膜试验装置，其特征在于:所述的镀料单元(5)上设有控制工作温度的电阻加热装置(4)。
【文档编号】C23C14/32GK205590786SQ201620480072
【公开日】2016年9月21日
【申请日】2016年5月23日
【发明人】杨嘉嘉, 杨文志, 陈招燕, 程亚丽
【申请人】中山市万物文化发展有限公司