1.一种管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：包括石英炉管(1)、过渡筒(2)、炉门(3)和后端端面法兰(4)，所述过渡筒(2)设置在石英炉管(1)的前端，所述炉门(3)与过渡筒(2)连接，所述后端端面法兰(4)设于石英炉管(1)的后端，所述后端端面法兰(4)外侧设有进气管(5)，内侧设有均匀布气板(6)，所述均匀布气板(6)上均匀分布多个布气孔(7)，所述均匀布气板(6)与后端端面法兰(4)内侧之间设有缓冲进气腔(8)，所述进气管(5)和布气孔(7)均与缓冲进气腔(8)连通，所述过渡筒(2)内设有内盖(9)，所述内盖(9)与炉门(3)连接，所述内盖(9)盖设在石英炉管(1)的管口，所述内盖(9)上设有导流管(10)，所述过渡筒(2)的圆周面上设有抽气口(11)，所述导流管(10)一端与石英炉管(1)连通，另一端与抽气口(11)连通。
2.根据权利要求1所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述均匀布气板(6)与石英炉管(1)同轴，所述导流管(10)的入口与石英炉管(1)同轴。
3.根据权利要求1所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述内盖(9)通过伸缩组件(12)固定在炉门(3)上。
4.根据权利要求3所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述伸缩组件(12)包括波纹管(13)和位于波纹管(13)两端的固定杆(14)，一端的固定杆(14)与内盖(9)连接，另一端的固定杆(14)与炉门(3)连接。
5.根据权利要求1至4任意一项所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述石英炉管(1)的前端设有前端法兰组件，所述前端法兰组件包括前端固定法兰(16)、前端水冷法兰(17)和前端密封法兰(18)，所述前端固定法兰(16)套在石英炉管(1)上，所述前端水冷法兰(17)与前端固定法兰(16)连接，所述前端密封法兰(18)与前端水冷法兰(17)连接，所述过渡筒(2)与前端密封法兰(18)连接。
6.根据权利要求5所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述前端水冷法兰(17)与前端密封法兰(18)之间设有密封圈(15)，所述过渡筒(2)与前端密封法兰(18)之间设有密封圈(15)，所述过渡筒(2)与炉门(3)之间设有密封圈(15)。
7.根据权利要求5所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述过渡筒(2)靠近前端密封法兰(18)一端设有环形径向限位部(19)，所述内盖(9)抵靠在所述环形径向限位部(19)上。
8.根据权利要求1至4任意一项所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述过渡筒(2)内靠近炉门(3)的一端设有隔热板(23)。
9.根据权利要求1至4任意一项所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述石英炉管(1)的后端设有后端法兰组件，所述后端法兰组件包括后端水冷法兰(20)、后端密封法兰(21)和后端固定法兰(22)，所述后端固定法兰(22)套在石英炉管(1)上，所述后端密封法兰(21)与后端固定法兰(22)连接，所述后端水冷法兰(20)与后端密封法兰(21)连接，所述后端端面法兰(4)与所述后端水冷法兰(20)连接。
10.根据权利要求9所述的管式PECVD设备的反应室结构，其特征在于：所述后端密封法兰(21)与后端固定法兰(22)和后端水冷法兰(20)之间设有密封圈(15)。