技术总结
本发明公开了一种管式PECVD设备的反应室结构，包括石英炉管、过渡筒、炉门和后端端面法兰，过渡筒在石英炉管的前端，并与炉门连接，后端端面法兰设于石英炉管的后端，后端端面法兰外侧设有进气管，内侧设有均匀布气板，均匀板上有多个布气孔，均匀板与后端端面法兰内侧之间设有缓冲进气腔，进气管和布气孔均与缓冲进气腔连通，过渡筒内设有内盖，内盖与炉门连接，内盖盖在石英炉管的管口，内盖上设有导流管，过渡筒上设有抽气口，导流管两端连石英炉管和抽气口。本发明将原有前端环形进气改为后端平面进气，工艺气体可快速均匀分布在石英炉管内，气体流场稳定性和均匀性大幅提高，抽气口设置在过渡筒上，避免了前端炉门运动又进气的问题。
技术研发人员：郭艳;吴得轶;李明
受保护的技术使用者：湖南红太阳光电科技有限公司
技术研发日：2019.05.22
技术公布日：2019.07.23