一种可变式双层金属板空心阴极装置的制作方法

本实用新型涉及一种金属表面离子渗氮用的辅助工具，尤其是涉及一种可变式双层金属板空心阴极装置。

背景技术：

目前渗氮使用较多的装置为双层圆筒，它把阴极制成圆筒形，电子束彼此汇合，使负辉光并合在一起，发光更明亮且较均匀，强化效果提高，且能避免弧光放电的现象。但大部分实验采用的活性屏体积较小，无法应用于大规模的工业生产；而采用大体积活性屏进行渗氮处理时，又因其对于小型零件来说体积过大，零件的氮化效果不明显。因此双层圆筒的结构不灵活是限制渗氮效果的一大障碍。

技术实现要素：

为解决上述问题，本实用新型提出了一种经济实用，方便、灵活的可变式双层金属板空心阴极装置。

本实用新型所采用的技术方案是：一种可变式双层金属板空心阴极装置，包括四块相互连接围置呈矩形结构的双层式金属板；

各金属板通过一侧边与其相邻的金属板内侧面活动连接，以配置为调整矩形结构的大小。

进一步地，所述金属板内侧面的上下端具有滑槽，一侧边的上下两侧具有可插入滑槽的滑块，相邻的金属板通过滑块插入滑槽活动连接。

进一步地，所述金属板的内侧面上等距阵列有若干孔洞。

进一步地，所述各孔洞之间的间距为20-30mm。

进一步地，所述孔洞的直径为4-8mm。

进一步地，所述金属板的材质为奥氏体不锈钢。

进一步地，所述金属板两层板体的间距为6-10mm。

进一步地，所述金属板的外形尺寸为100cm*60cm*4mm。

本实用新型与现有技术相比较，其具有以下有益效果：

本实用新型的可变式双层金属板空心阴极装置可以在避免弧光放电、空心阴极效应等传统技术存在的缺陷的同时，采用了可变式结构设计，可以用于加工多种类型的零件，使用范围更广，实用性更加，使用更加方便灵活。

附图说明

图1是本实用新型的俯视图；

图2是图1中A方向的剖面图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施方式，对本实用新型进行进一步详细说明，应当理解为，此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

如图1和图2所示的一种可变式双层金属板空心阴极装置，包括四块相互连接围置呈矩形结构的双层式金属板1，金属板1的材质为奥氏体不锈钢；所述金属板1内侧面的上下端具有滑槽11，一侧边的上下两侧具有可插入滑槽11的滑块12，相邻的金属板1通过滑块12插入滑槽11活动连接，从而实现可以调整矩形结构的大小，并且所述金属板1的内侧面上等距阵列有若干孔洞13。

本实施方式优选地，所述各孔洞13之间的间距为25mm；孔洞13的直径为6mm；所述金属板1两层板体的间距为8mm；金属板1的外形尺寸为100cm*60cm*4mm。

通过上述结构设计，采用四个一致的双层矩形金属板围在需要渗氮零件的周围，由于是可调节式的结构，可以根据零件的尺寸灵活调整矩形板的位置，使金属板与零件维持最佳的距离，以达到最大的渗氮效果。该用本装置渗氮时，阴极的负辉区相互重叠，这更增强了负辉区的特性，使区内带电粒子的浓度更高、辐射光更强、高能粒子更多。由于高能电子的振荡效应，负辉区中高能电子的份额也增高，其他高能粒子也相应增强，这些因素都使空间电离系数提高。由于阴极间空隙的限制，负辉区中辐射出光子有较大的几率辐射到阴极表面，使阴极产生较强的光电子发射。其他各种高能离子、亚稳原子、高速原子等也都能更容易地打上阴极，使阴极表面产生二次电子发射，从而使阴极的总二次电子发射系数显著增大。真空室内离子在高压电场的作用下快速轰击本装置，使其迅速升温，金属板作为高效热源辐射加热零件，使零件快速达到渗氮温度，缩短渗氮时间。

除非另外具体说明，否则在这些实施例中阐述的部件和步骤的相对布置、数字表达式和数值不限制本实用新型的范围。同时，应当明白，为了便于描述，附图中所示出的各个部分的尺寸并不是按照实际的比例关系绘制的。对于相关领域普通技术人员已知的技术、方法和设备可能不作详细讨论，但在适当情况下，所述技术、方法和设备应当被视为授权说明书的一部分。在这里示出和讨论的所有示例中，任何具体值应被解释为仅仅是示例性的，而不是作为限制。因此，示例性实施例的其它示例可以具有不同的值。应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步讨论。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，方位词如“前、后、上、下、左、右”、“横向、竖向、垂直、水平”和“顶、底”等所指示的方位或位置关系通常是基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，在未作相反说明的情况下，这些方位词并不指示和暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位或者以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制；方位词“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内外。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

上面所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本实用新型的构思和范围进行限定。在不脱离本实用新型设计构思的前提下，本领域普通人员对本实用新型的技术方案做出的各种变型和改进，均应落入到本实用新型的保护范围，本实用新型请求保护的技术内容，已经全部记载在权利要求书中。