技术特征：
1.一种基片处理系统，包括：真空外壳，其具有多个处理窗口和位于真空外壳中的连续轨道；多个处理腔室，其被附接于真空外壳的侧壁，每个处理腔室对应处理窗口中的一个；装载锁定站，其被附接于真空外壳的一端并在其中定位有加载轨道；至少一个闸阀，其将装载锁定站与真空外壳间隔开；多个基片承载件，其被配置成在连续轨道和加载轨道上行进；至少一个轨道交换器，其被定位在真空外壳内，轨道交换器能够在第一位置和第二位置之间移动，其中，在第一位置中，使得基片承载件在连续轨道上连续地移动，其中，在第二位置中，使得基片承载件在连续轨道和加载轨道之间转移。2.如权利要求1所述的系统，还包括：环形带，其被定位在真空外壳内；多个电动轮，其被定位在装载锁定站内；其中，基片承载件当在连续轨道上行进时接合环形带且当在加载轨道上行进时接合电动轮。3.如权利要求2所述的系统，其中，环形带包括多个驱动叉且基片承载件中的每一个包括：多个自由旋转轮，其被配置成接合连续轨道和加载轨道；驱动杆，其被配置成接合电动轮；驱动销，其被配置成接合驱动叉。4.如权利要求3所述的系统，还包括与真空外壳相反地附接于装载锁定站的大气区段，大气区段包括：返回轨道；和驱动轮，驱动轮上附接有多个驱动叉。5.如权利要求1所述的系统，其中，连续轨道包括跑道单轨，并且加载轨道包括直线单轨。6.如权利要求5所述的系统，其中，轨道交换器包括基座、定位在基座上的弯曲单轨区段、以及定位在基座上的直单轨区段。7.如权利要求1所述的系统，其中，处理腔室中的每一个经由旋转铰链附接于真空外壳。8.如权利要求1所述的系统，其中，所述多个处理腔室中的至少一个包括具有挡板的溅射源。9.一种基片处理系统，包括：具有第一侧和与第一侧相反的第二侧的装载锁定站区段；大气区段，其被耦接于装载锁定站区段的第一侧；真空区段，其被附接于装载锁定站区段的第二侧并且在真空区段上附接有多个处理腔室；承载件输送机构，包括：v.单轨，其被形成为：第一单轨区段，其被成形为跑道并被定位于真空区段内；第二单轨区段，其具有两个平行的直线单轨，这些直线单轨被定位在装载锁定站区段内并具有延
伸到大气区段和真空区段中的延伸部；以及第三单轨区段，其被定位在大气区段中并被成形为曲线，所述曲线的一端与直线单轨中的一个的延伸部相交会，且所述曲线的另一端与直线单轨中的另一个的延伸部相交会，vi.定位于跑道的动力元件，vii.被沿着第二单轨区段定位的多个电动轮，viii.两个轨道交换器，其被定位于第一单轨区段的一端，每个轨道交换器包括可移动的工作台、被定位于工作台上的直单轨区段和被定位于工作台上的弯曲单轨区段，多个承载件，其具有多个轮子并被配置成接合单轨以使承载件跨骑在单轨上。10.如权利要求9所述的系统，其中，所述多个承载件中的每一个包括附接于基座的驱动杆，驱动杆被配置成接合所述多个电动轮，以使承载件在跨骑在第二单轨区段上的同时移动。11.如权利要求10所述的系统，其中，所述多个承载件中的每一个还包括接合机构，接合机构被附接于基座并被配置成接合动力元件，以使承载件在处于第一单轨区段中的同时移动。12.如权利要求11所述的系统，其中，当轨道交换器处于第一位置中时，弯曲单轨区段与第一单轨区段对齐，从而致使承载件沿着第一单轨区段连续地移动，并且当轨道交换器处于第二位置中时，直单轨区段将第一单轨区段连接到第二单轨区段，从而致使在装载锁定站区段和真空区段之间交换承载件。13.如权利要求11所述的系统，其中，大气区段包括卸载区段和加载区段，并且所述系统还包括用于将承载件从卸载区段转移到加载区段的交换器。14.如权利要求13所述的系统，其中，交换器包括驱动轮。15.如权利要求9所述的系统，其中，动力元件包括环形带，环形带被定位于跑道且在环形带上附接有多个驱动叉。16.一种基片处理系统，包括：具有第一侧和与第一侧相反的第二侧的装载锁定站区段；大气区段，其被附接于装载锁定站区段的第一侧；真空区段，其被附接于装载锁定站区段的第二侧并且在真空区段上附接有多个处理腔室；承载件输送机构，包括：vi.单轨，其被形成为：第一单轨区段，其被成形为跑道并被定位于真空区段内；第二单轨区段，其具有两个平行的直线单轨，这些直线单轨被定位在装载锁定站区段内并具有延伸到大气区段和真空区段中的延伸部；以及第三单轨区段，其被定位在大气区段中并被成形为曲线，所述曲线的一端与直线单轨中的一个的延伸部相交会，且所述曲线的另一端与直线单轨中的另一个的延伸部相交会，vii.环形带，其被定位于跑道并且在环形带上附接有多个驱动叉，viii.驱动轮，其被定位于大气区段中并且在驱动轮上附接有多个驱动叉，ix.被沿着第二单轨区段定位的多个电动轮，x.两个轨道交换器，其被定位于第一单轨区段的一端，每个轨道交换器包括可移动的工作台、被定位于工作台上的直线单轨区段和被定位于工作台上的弯曲单轨区段，以及
多个承载件，每个承载件具有：基座；多个轮子，其附接于基座并被配置成接合单轨以使承载件自由地跨骑在单轨上；附接于基座的驱动杆，驱动杆被配置成接合所述多个电动轮，以使承载件在跨骑在第二单轨区段上的同时移动；以及驱动销，其被附接于基座并被配置成接合驱动叉，以使承载件在处于第一或第三单轨区段中的同时移动；其中，当轨道交换器处于第一位置中时，弯曲单轨区段与第一单轨区段对齐，从而致使承载件由驱动叉沿着第一单轨区段连续地移动，并且当轨道交换器处于第二位置中时，直线单轨区段将第一单轨区段连接到第二单轨区段，从而致使在装载锁定站区段和真空区段之间交换承载件。17.如权利要求16所述的系统，其中，基片承载件中的每一个还包括可移除地附接于基座的基片保持器。18.如权利要求16所述的系统，其中，所述多个处理腔室中的每一个包括挡板。19.如权利要求16所述的系统，其中，装载锁定站区段包括具有彼此独立的真空环境的加载用装载锁定站和卸载用装载锁定站。20.如权利要求16所述的系统，其中，所述多个处理腔室中的至少一个包括具有挡板的溅射源。21.如权利要求16所述的系统，其中，所述多个处理腔室被连接到共同真空氛围，而它们之间没有闸阀。22.如权利要求16所述的系统，其中，大气区段包括加载区段和卸载区段。23.如权利要求16所述的系统，其中，装载锁定站区段包括维持共同真空氛围且具有同步操作的闸阀的加载用装载锁定站和卸载用装载锁定站。
技术总结
提供了一种处理系统，其包括：真空外壳，其具有多个处理窗口和位于其中的连续轨道；多个处理腔室，其被附接于真空外壳的侧壁，每个处理腔室对应处理窗口中的一个；装载锁定站，其被附接于真空外壳的一端并在其中定位有加载轨道；至少一个闸阀，其将装载锁定站与真空外壳间隔开；多个基片承载件，其被配置成在连续轨道和加载轨道上行进；至少一个轨道交换器，其被定位在真空外壳内，轨道交换器可在第一位置和第二位置之间移动，在第一位置中，使得基片承载件在连续轨道上连续地移动，在第二位置中，使得基片承载件在连续轨道和加载轨道之间输送。输送。输送。
技术研发人员：T
受保护的技术使用者：因特瓦克公司
技术研发日：2019.10.17
技术公布日：2022/11/1