技术特征：
1.一种溅射用沉积环，其特征在于，所述溅射用沉积环包括连接部以及第一伸出端，所述第一伸出端上表面朝远离所述连接部的方向，依次设置有第一凹槽、第一凸起、第二凹槽、平面以及第二凸起；所述第一凸起的表面上设置有花纹，形成环形花纹带。2.根据权利要求1所述的溅射用沉积环，其特征在于，所述第一凹槽和所述第二凹槽分别独立地为圆弧状凹槽。3.根据权利要求1或2所述的溅射用沉积环，其特征在于，所述第一凸起为圆弧状凸起；优选地，所述第一凸起的最高点距所述第二凸起的距离为1.4-1.6mm。4.根据权利要求1-3任一项所述的溅射用沉积环，其特征在于，所述花纹的样式包括v形凹槽、n形凹槽、x形凹槽或波浪形凹槽中的任意一种；优选地，所述v形凹槽的开口角度为45-70
°
，优选为58-62
°
。5.根据权利要求4所述的溅射用沉积环，其特征在于，所述花纹的凹槽宽度为0.6-1.2mm；优选地，所述花纹的凹槽深度为0.6-1.0mm。6.根据权利要求1-5任一项所述的溅射用沉积环，其特征在于，所述环形花纹带的带宽为7-10mm。7.根据权利要求1-6任一项所述的溅射用沉积环，其特征在于，所述第一凸起区域的粗糙度为700-1000μm。8.一种溅射工艺设备，其特征在于，所述溅射工艺设备包括如权利要求1-7任一项所述的溅射用沉积环，所述溅射工艺设备还包括位于溅射腔室内的基台、防护圈以及防护罩；所述基台外围依次设置有所述溅射用沉积环、所述防护圈以及所述防护罩；溅射用基板放置于所述基台上，溅射用靶材设置于所述基台的上方。9.根据权利要求8所述的溅射工艺设备，其特征在于，所述防护圈包括腿部，以及设置于所述腿部上端且向水平方向伸出，并至少部分覆盖所述沉积环的第二伸出端；优选地，所述第二伸出端的最外端设置有向下，且与所述第一凹槽相适应的圆弧状凸起。10.根据权利要求8所述的溅射工艺设备，其特征在于，所述防护圈第二伸出端的下表面与所述沉积环上表面的安装间隙为0.8-1.5mm。
技术总结
本发明提供了一种溅射用沉积环及其应用，所述溅射用沉积环包括连接部以及第一伸出端，所述第一伸出端上表面朝远离所述连接部的方向，依次设置有第一凹槽、第一凸起、第二凹槽、平面以及第二凸起；所述第一凸起的表面上设置有花纹，形成环形花纹带；所述溅射用沉积环通过结构的优化以及花纹的设计，极大地增加了其表面粗糙度，再通过控制装配时其与防护圈的间隙，可有效增加其在线使用寿命与重复利用的次数，节省成本，具有较好的工业应用前景。具有较好的工业应用前景。具有较好的工业应用前景。
技术研发人员：姚力军 潘杰 陈玉蓉 王学泽
受保护的技术使用者：宁波江丰电子材料股份有限公司
技术研发日：2022.11.25
技术公布日：2023/3/7