技术特征：
1.基于ag基膜系边缘部分环境稳定性提高的镀膜方法，包括工装设计方法和镀膜工艺，其特征在于：(1)所述工装设计方法包括：所述工装由主反射膜堆镀膜工装(1)和介质保护膜堆镀膜工装(2)两部分组成；其中，所述主反射膜堆镀膜工装(1)包括主反射膜堆镀膜工装的内侧壁(1-1)、主反射膜堆镀膜工装的遮挡台阶(1-2)和主反射膜堆镀膜工装的遮挡台阶倒角(1-3)；主反射膜堆镀膜工装的内侧壁(1-1)的一端设置有主反射膜堆镀膜工装的遮挡台阶(1-2)；主反射膜堆镀膜工装的遮挡台阶(1-2)的内侧壁上设置有主反射膜堆镀膜工装的遮挡台阶倒角(1-3)；主反射膜堆镀膜工装的遮挡台阶倒角(1-3)围成的圆形区域为主反射膜堆镀膜工装镀膜圆形区域；主反射膜堆镀膜工装的内侧壁(1-1)用于与介质保护膜堆镀膜工装(2)的外侧壁(2-4)对接；介质保护膜堆镀膜工装(2)包括介质保护膜堆镀膜工装的内侧壁(2-1)、介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶(2-2)、介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶倒角(2-3)和介质保护膜堆镀膜工装的外侧壁(2-4)；介质保护膜堆镀膜工装的侧壁由介质保护膜堆镀膜工装的内侧壁(2-1)和介质保护膜堆镀膜工装的外侧壁(2-4)组成；介质保护膜堆镀膜工装的内侧壁(2-1)的一端设置有介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶(2-2)；介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶(2-2)的内侧壁上设置有介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶倒角(2-3)；介质保护膜堆镀膜工装的内侧壁(2-1)用于与镀膜基片(3)对接，介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶倒角(2-3)围成的圆形区域为介质保护膜堆镀膜工装镀膜圆形区域；(2)所述的镀膜工艺包括使用所述工装进行镀膜。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，主反射膜堆镀膜工装的遮挡台阶(1-2)厚度为0.5-1mm。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，主反射膜堆镀膜工装镀膜圆形区域半径小于介质保护膜堆镀膜工装镀膜圆形区域半径1-3mm。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，主反射膜堆镀膜工装镀膜圆形区域遮挡位置采用倒角。5.根据权利要求1-4任一项所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，在镀膜基片(3)上依次为粘着层(4-1)、ag层(4-2)和抗氧化层(4-3)。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶(2-2)宽度为0.5mm-2mm，镀膜圆形区域直径小于镀膜基片(3)直径1-4mm。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶(2-2)厚度为0.5mm-1mm。8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(1)中，介质保护膜堆镀膜工装的遮挡台阶(2-2)采用倒角。9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤(2)中，所述的镀膜工艺包括如下步骤：s1镀膜基片(3)放入介质保护膜堆镀膜工装(2)并装配主反射膜堆镀膜工装(1)；s2在所述镀膜基片(3)上依次制备粘着层(4-1)、ag层(4-2)和抗氧化层(4-3)；
s3卸下主反射膜堆镀膜工装(1)；s4抽真空后离子束轰击原镀膜基片(3)20min；s5在原镀膜基片(3)上进一步制备保护层(4-4)。10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，步骤(2)中，所述步骤s2和s5通过离子束辅助电子束蒸发方式实现。
技术总结
基于Ag基膜系边缘部分环境稳定性提高的镀膜方法，属于光学薄膜领域，目的在于解决Ag基保护膜系反射镜环境稳定性差的问题。本发明的方法包括工装设计方法和镀膜工艺，其中工装包括与镀膜基片环面接触的介质保护膜堆镀膜工装和主反射膜堆镀膜工装两部分；镀膜工艺为两次镀膜方式，第一次将基片装入介质保护膜堆镀膜工装并装配主反射膜堆镀膜工装完成粘着层，Ag层和抗氧化层的镀制，第二次卸掉主反射膜堆镀膜工装并进行离子源轰击后完成介质保护层的镀制。整个镀膜流程前后镀膜基片始终位于介质保护膜堆镀膜工装上，主反射膜堆镀膜工装和镀膜基片不产生直接接触，介质保护膜堆镀膜面积大于主反射膜堆镀膜面积，有效提高了镀膜基片的环境稳定性。膜基片的环境稳定性。膜基片的环境稳定性。
技术研发人员：苏志 王长军 何文彦 魏铭
受保护的技术使用者：中国科学院光电技术研究所
技术研发日：2022.12.08
技术公布日：2023/3/14