一种团簇离子束沉积基片架的制作方法

文档序号:32838094发布日期:2023-01-06 19:51阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种团簇离子束沉积基片架,包括支撑框(1),其特征在于:所述支撑框(1)内壁滑动连接有第一支杆(2),所述第一支杆(2)的底部活动连接有连接结构(6),所述连接结构(6)的底部活动连接有第二支杆(3),所述第二支杆(3)的两端与支撑框(1)的内壁滑动连接,所述支撑框(1)的底部固定连接有支撑块(23),所述第一支杆(2)的内部开设有水平设置的第一活动槽(7),所述第一活动槽(7)的内壁滑动连接有插杆(8),所述第一支杆(2)的内部开设有竖直设置的第二活动槽(9),所述第二活动槽(9)的上端与第一活动槽(7)的内部相连通,所述第二活动槽(9)的内部设置有顶杆(10),所述顶杆(10)的外壁固定连接有挡环(11),所述挡环(11)的外壁与第二活动槽(9)的内壁滑动连接,所述挡环(11)的底部固定连接有弹簧(12),所述弹簧(12)的底部固定连接有套筒(18),所述套筒(18)的外壁与第二活动槽(9)底部的内壁固定连接。2.根据权利要求1所述的一种团簇离子束沉积基片架,其特征在于:所述支撑框(1)的内壁且位于第一支杆(2)的两端处开设有t形槽(5),所述支撑框(1)的内壁且位于第二支杆(3)的四周处也开设有相同的t形槽(5),所述第一支杆(2)、第二支杆(3)的两端均固定连接有t形块(4),所述t形块(4)的外壁与t形槽(5)的内壁滑动连接。3.根据权利要求2所述的一种团簇离子束沉积基片架,其特征在于:所述t形块(4)的外壁固定连接有多个滚轮(13),所述滚轮(13)与t形槽(5)的内壁活动连接。4.根据权利要求1所述的一种团簇离子束沉积基片架,其特征在于:所述第一支杆(2)的外壁开设有滑槽(14),所述滑槽(14)与第一活动槽(7)的内部相连通,所述插杆(8)的一端固定连接有把手(15),所述把手(15)的外壁与滑槽(14)的内壁滑动连接。5.根据权利要求1所述的一种团簇离子束沉积基片架,其特征在于:所述连接结构(6)包含有固定板(19),所述固定板(19)两侧的顶部固定连接有第一挡片(20),所述固定板(19)底部的两端固定连接有第二挡片(21),所述第二挡片(21)与第一挡片(20)交错分布,所述固定板(19)的中部开设有通孔(22)。6.根据权利要求1所述的一种团簇离子束沉积基片架,其特征在于:所述插杆(8)靠近顶杆(10)的一侧底边开设有第一斜槽(16),所述顶杆(10)靠近插杆(8)的一侧底边开设有第二斜槽(17)。

技术总结
本实用新型公开了一种团簇离子束沉积基片架,包括支撑框,所述支撑框内壁滑动连接有第一支杆,所述第一支杆的底部活动连接有连接结构,所述连接结构的底部活动连接有第二支杆,所述第二支杆的两端与支撑框的内壁滑动连接,所述支撑框的底部固定连接有支撑块,所述第一支杆的内部开设有水平设置的第一活动槽,所述第一活动槽的内壁滑动连接有插杆。通过设置的插杆,可以沿着滑槽滑动把手,使得插杆沿着第一活动槽滑动,从而使得插杆抵触顶杆,让顶杆下压,顶杆穿过连接结构后顶住第二支杆的上表面,从而使得第一支杆、第二支杆都被固定住,以达到固定方便的效果,操作简单,提高更换基片架的效率。基片架的效率。基片架的效率。


技术研发人员:付德春 田灿鑫 吐沙姑
受保护的技术使用者:宜昌后皇真空科技有限公司
技术研发日:2022.06.08
技术公布日:2023/1/5
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