一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台的制作方法

文档序号:33175469发布日期:2023-02-04 03:27阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,其特征在于,包括:底座(1),所述底座(1)上表面固定连接有支撑柱(5);顶板(6),所述顶板(6)固定连接在支撑柱(5)顶部;滴蜡机构(2),所述滴蜡机构(2)安装在顶板(6)上;甩蜡机构(3),所述甩蜡机构(3)设置在滴蜡机构(2)下侧;蜡回收机构(4),所述蜡回收机构(4)设置在甩蜡机构(3)外侧和下侧。2.根据权利要求1所述的一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,其特征在于:所述底座(1)包括:储蜡槽(30),所述储蜡槽(30)开设在底座(1)内部;第一加热器(11),所述第一加热器(11)固定连接在底座(1)一侧表面;加热柱(26),所述加热柱(26)等距离固定连接在第一加热器(11)一侧表面,所述加热柱(26)贯穿储蜡槽(30)一侧槽壁。3.根据权利要求1所述的一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,其特征在于:所述蜡回收机构(4)包括:集蜡漏斗(28),所述集蜡漏斗(28)固定安装在储蜡槽(30)顶部槽口处;第二加热器(12),所述第二加热器(12)固定连接在底座(1)一侧表面;螺旋加热管(27),所述螺旋加热管(27)螺旋固定在集蜡漏斗(28)表面,所述螺旋加热管(27)一端贯穿储蜡槽(30)一侧槽壁,所述螺旋加热管(27)一端与第二加热器(12)一侧表面固定连接;环形挡板(32),所述环形挡板(32)固定连接在集蜡漏斗(28)顶部;环形陶瓷加热器(31),所述环形陶瓷加热器(31)固定安装在环形挡板(32)外侧表面。4.根据权利要求1所述的一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,其特征在于:所述甩蜡机构(3)包括:连接杆(29),所述连接杆(29)等距离固定连接在环形挡板(32)内侧面;固定盘(25),所述固定盘(25)固定连接在连接杆(29)一端;甩蜡电机(34),所述甩蜡电机(34)固定安装在固定盘(25)下表面;转轴(35),所述转轴(35)与甩蜡电机(34)输出端固定连接,所述转轴(35)贯穿固定盘(25);甩蜡台(17),所述甩蜡台(17)与转轴(35)上端固定连接。5.根据权利要求1所述的一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,其特征在于:所述甩蜡机构(3)包括:空腔(18),所述空腔(18)开设在甩蜡台(17)内部;抽真空腔(21),所述抽真空腔(21)设置在空腔(18)内部;抽气吸孔(20),所述抽气吸孔(20)开设在抽真空腔(21)顶部腔壁上;密封圈(19),所述密封圈(19)固定连接在抽气吸孔(20)内侧孔壁上;抽真空泵(23),所述抽真空泵(23)固定安装在空腔(18)内部;抽气管(22),所述抽气管(22)一端与抽真空泵(23)进气端口处固定连接,所述抽气管(22)一端贯穿抽真空腔(21)一侧腔壁;出气管(24),所述出气管(24)一端与抽真空泵(23)出气端口处固定连接,所述出气管
(24)一端贯穿空腔(18)一侧腔壁。6.根据权利要求1所述的一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,其特征在于:所述滴蜡机构(2)包括:抽蜡泵安装箱(9),所述抽蜡泵安装箱(9)固定连接在顶板(6)顶部表面;抽蜡泵(13),所述抽蜡泵(13)安装在抽蜡泵安装箱(9)内部;出蜡管(14),所述出蜡管(14)固定连接在抽蜡泵(13)出蜡端口处,所述出蜡管(14)贯穿顶板(6);管道(7),所述管道(7)固定连接在抽蜡泵(13)进蜡端口处,所述管道(7)一端贯穿抽蜡泵安装箱(9)一侧箱壁,所述管道(7)另一端贯穿储蜡槽(30)一侧槽壁。7.根据权利要求1所述的一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,其特征在于:所述滴蜡机构(2)包括:气缸(10),所述气缸(10)固定连接在顶板(6)上表面两侧,所述气缸(10)下端贯穿顶板(6);固定板(8),所述固定板(8)固定连接在气缸(10)下端;密封槽(33),所述密封槽(33)开设在固定板(8)下表面,所述密封槽(33)与环形挡板(32)对应设置;滴蜡头(16),所述滴蜡头(16)固定安装在密封槽(33)内部顶部槽壁上,所述滴蜡头(16)贯穿密封槽(33)顶部槽壁;软管(15),所述软管(15)一端与出蜡管(14)一端固定连接,所述软管(15)一端与滴蜡头(16)固定连接。

技术总结
本实用新型涉及硅片液体抛光技术领域,尤其为一种硅片液体抛光蜡用的甩蜡台,包括:底座,所述底座上表面固定连接有支撑柱;顶板,所述顶板固定连接在支撑柱顶部;滴蜡机构,所述滴蜡机构安装在顶板上;甩蜡机构,所述甩蜡机构设置在滴蜡机构下侧;蜡回收机构,所述蜡回收机构设置在甩蜡机构外侧和下侧;本实用新型中,通过设置的环形挡板、环形陶瓷加热器和第二加热器,能够在甩蜡的同时,对多余的蜡进行回收并使其重新进入出蜡槽内,避免后期回收工序复杂,能过够有效节约材料,同时提高效率,节约后期处理的设备成本。约后期处理的设备成本。约后期处理的设备成本。


技术研发人员:毛荣昌 徐海琦 张宇平
受保护的技术使用者:衢州晶哲电子材料有限公司
技术研发日:2022.11.08
技术公布日:2023/2/3
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