1.一种纳米多层结构涂层，其特征在于，所述纳米多层结构涂层包括a层和b层，所述a层和b层以周期性a-b-a-b或b-a-b-a的方式排列；
2.根据权利要求1所述的纳米多层结构涂层，其特征在于，所述a层中含有zr且0.03≤x3≤0.15，所述b层中含有ti且0.03≤y3≤0.15；
3.根据权利要求1所述的纳米多层结构涂层，其特征在于，所述a层和b层的单层厚度各自独立地为3-50nm，单次周期厚度为6-100nm；
4.根据权利要求1所述的纳米多层结构涂层，其特征在于，所述a层的厚度a和b层的厚度b满足：
5.根据权利要求1所述的纳米多层结构涂层，其特征在于，所述a层的tialn立方相的晶格常数为所述b层的zraln立方相的晶格常数为
6.权利要求1-5中任意一项所述纳米多层结构涂层的制备方法，其特征在于，该方法包括以周期性a-b-a-b或b-a-b-a的方式依次沉积a层和b层。
7.根据权利要求6所述的纳米多层结构涂层的制备方法，其特征在于，所述沉积的方法包括将待涂基体装夹在物理气相沉积设备的旋转盘上，在旋转盘四周按沉积顺序放置金属靶材a和金属靶材b，加热并通n2进行物理气相沉积；当待涂基体旋转至金属靶材a区域时，沉积a层；当待涂基体旋转至金属靶材b区域时，沉积b层；通过旋转盘的旋转，周期性沉积得到所述纳米多层结构涂层。
8.根据权利要求7所述的纳米多层结构涂层的制备方法，其特征在于，所述金属靶材a的成分为tia1ala2zra3mea4，其中，0.28≤a1≤0.58，0.46≤a2≤0.72，0≤a3≤0.18，0≤a4≤0.18，0≤a3+a4≤0.18；所述金属靶材b的成分为zrb1alb2tib3meb4，其中，0.42≤b1≤0.76，0.24≤b2≤0.58，0≤b3≤0.18，0≤b4≤0.18，0≤b3+b4≤0.18；
9.根据权利要求7所述的纳米多层结构涂层的制备方法，其特征在于，所述物理气相沉积的温度为450-650℃，n2的分压为0.035-0.075mbar；
10.权利要求1-5中任意一项所述纳米多层结构涂层在切削工具中的应用。