成膜装置的制造方法

文档序号:9560827阅读:247来源:国知局
成膜装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本发明涉及成膜装置。
【背景技术】
[0002]近年来,不断进行替代玻璃基板等非挠性基板而使用能够弯曲的挠性基板的显示器的开发。
[0003]当通过成膜装置在这样的挠性基板上形成薄膜时,例如,在中央具有开口部的框状的基板托架上使挠性基板以配设于该基板托架的开口部的方式保持,并且,使挠性基板与配设于该开口部内的基板密合台密合,来进行成膜。
[0004]但是,多数情况下容易在挠性基板上产生褶皱,而未能与基板密合台良好地密合。
[0005]此外,即使假设使挠性基板与基板密合台无褶皱地密合,但在存在伴随着挠性基板的温度升高的工序的情况下,会因挠性基板在高温氛围下延伸(下面简称为“热伸长”。)而产生褶皱,从而挠性基板与基板密合台无法密合,因此,会出现由于基板温度分布不均而产生膜质不均匀或者基板膜厚分布不均等问题。
[0006]作为使基板与基板密合台密合的技术,例如专利文献1中公开了使用卡定环等将半导体晶片推抵固定于上表面被加工为球面状的试样台上来确保晶片与试样台上表面的密合性的技术,但是关于会产生于挠性基板的上述褶皱的问题则没有提及,不能解決上述问题点。
[0007]专利文献1:日本特开平5-306458号公报

【发明内容】

[0008]本发明是为了解決上述问题点而完成的,其目的在于提供一种实用性极其优异的成膜装置,当然能够简单地将挠性基板以无褶皱的状态安装固定于基板托架(基板安装部),并且即使挠性基板因温度升高而热伸长,通过将挠性基板始终推抵于基板密合台(凸面状基板承受部),从而能够防止产生热伸长所引起的褶皱,能够实现均匀的成膜且能够改善膜厚分布,而且,能够顺畅地进行挠性基板的更换。
[0009]参照附图对本发明的主旨进行说明。
[0010]本发明的第一方式是一种成膜装置,该成膜装置将挠性基板1安装固定于基板安装部2并在该挠性基板1上形成薄膜,其特征在于,在对所述挠性基板1的周边部以自由装卸的方式进行把持而安装固定的所述基板安装部2上设置有基板配设开口部3,该基板配设开口部3将该挠性基板1配设为架设状态,该成膜装置设置有凸面状基板承受部4,该凸面状基板承受部4与配设于该基板安装部2的基板配设开口部3的所述挠性基板1密合抵接,该成膜装置设置有施力把持机构5,该施力把持机构5将所述挠性基板1的周边部把持于所述基板安装部2,并且向外侧拉伸施力而对所述烧性基板1赋予张力而安装固定,通过所述施力把持机构5而对所述挠性基板1进行了安装固定的所述基板安装部2构成为相对于所述凸面状基板承受部4相对移动自如,并且所述施力把持机构5构成为在所述相对移动方向上抵抗所述施力而移动自如,该成膜装置构成为:通过使所述基板安装部2相对于所述凸面状基板承受部4相对移动,从而将所述凸面状基板承受部4向配设于该基板安装部2的所述基板配设开口部3的所述挠性基板1推压,并且一边通过因所述施力把持机构5向所述相对移动方向的弹性移动而产生的返回施力对所述挠性基板1赋予张力,一边将该挠性基板1推压于所述凸面状基板承受部4。
[0011 ] 此外,本发明的第二方式根据第一方式所述的成膜装置,其特征在于,所述基板安装部2是设置有所述基板配设开口部3的框状体,该框状体上设置有多个所述施力把持机构5,所述施力把持机构5具备对所述挠性基板1的周边部进行把持的把持部6以及将该把持部6向外侧拉伸施力的施力体7,该施力把持机构5设置为在所述相对移动方向上抵抗所述施力体7的施力而移动自如。
[0012]此外,本发明的第三方式根据第一方式所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:在所述基板安装部2上设置有固定把持部8,该固定把持部8对所述挠性基板1的周边部以自由装卸的方式进行把持但不具备进行拉伸施力的施力部,在与该固定把持部8对置的位置上设置有所述施力把持机构5。
[0013]此外,本发明的第四方式根据第二方式所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:在所述基板安装部2上设置有固定把持部8,该固定把持部8对所述挠性基板1的周边部以自由装卸的方式进行把持但不具备进行拉伸施力的施力部,在与该固定把持部8对置的位置上设置有所述施力把持机构5。
[0014]此外,本发明的第五方式根据第一方式至第四方式中的任意一项所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:通过输送机构使所述基板安装部2在所述相对移动方向上相对移动,使所述凸面状基板承受部4以配设或者贯插于该基板安装部2的所述基板配设开口部3内的方式相对移动并将所述基板安装部2的所述挠性基板1推抵于所述凸面状基板承受部4,从而所述挠性基板1推压于所述凸面状基板承受部4。
[0015]此外,本发明的第六方式根据第一方式至第四方式中的任意一项所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:通过输送机构使所述凸面状基板承受部4在所述相对移动方向上相对移动,使所述凸面状基板承受部4以配设或者贯插于所述基板安装部2的所述基板配设开口部3内的方式相对移动并将所述凸面状基板承受部4推抵于所述基板安装部2的所述挠性基板1,从而所述挠性基板1推压于所述凸面状基板承受部4。
[0016]此外,本发明的第七方式根据第一方式至第四方式中的任意一项所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:通过所述基板安装部2的自重将所述基板安装部2的所述挠性基板1推抵于所述凸面状基板承受部4,从而所述挠性基板1推压于所述凸面状基板承受部4。
[0017]此外,本发明的第八方式根据第五方式所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:通过对所述基板安装部2的所述挠性基板1和所述凸面状基板承受部4进行推抵,从而配设于所述基板配设开口部3内的所述挠性基板1通过所述施力把持机构5而被赋予张力,并且该施力把持机构5抵抗用于赋予所述张力的施力而弯曲或者倾转而被推压于所述凸面状基板承受部4。
[0018]此外,本发明的第九方式根据第六方式所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:通过对所述基板安装部2的所述挠性基板1和所述凸面状基板承受部4进行推抵,从而配设于所述基板配设开口部3内的所述挠性基板1通过所述施力把持机构5而被赋予张力,并且该施力把持机构5抵抗用于赋予所述张力的施力而弯曲或者倾转而被推压于所述凸面状基板承受部4。
[0019]此外,本发明的第十方式根据第七方式所述的成膜装置,其特征在于,所述成膜装置构成为:通过对所述基板安装部2的所述挠性基板1和所述凸面状基板承受部4进行推抵,从而配设于所述基板配设开口部3内的所述挠性基板1通过所述施力把持机构5而被赋予张力,并且该施力把持机构5抵抗用于赋予所述张力的施力而弯曲或者倾转而被推压于所述凸面状基板承受部4。
[0020]此外,本发明的第十一方式根据第一方式至第四方式中的任意一项所述的成膜装置,其特征在于,所述凸面状基板承受部4具有温度调节机构。
[0021]由于本发明如上述那样构成,因此成为实用性极其优异的成膜装置,当然能够简单地将挠性基板以无褶皱的状态安装固定于基板安装部,并且防止产生热伸长所引起的褶皱,能够实现均匀的成膜且能够改善膜厚分布,而且,能够顺畅地进行挠性基板的更换。
【附图说明】
[0022]图1是本实施例的概略说明俯视图。
[0023]图2是本实施例的概略说明剖视图。
[0024]图3是本实施例的概略说明剖视图。
[0025]图4是本实施例的施力把持机构的放大概略说明俯视图。
[0026]图5是本实施例的施力把持机构的放大概略说明俯视图。
[0027]图6是本实施例的施力把持机构的放大概略说明剖视图。
[0028]图7是本实施例的固定把持部的放大概略说明俯视图。
[0029]图8是本实施例的固定把持部的放大概略说明剖视图。
[0030]图9是本实施例的固定把持部的放大概略说明俯视图。
[0031]图10是本实施例的固定把持部的放大概略说明剖视图。
[0032]图11是本实施例的凸面状基板承受部的概略说明立体图。
[0033]图12是其他例的凸面状基板承受部的概略说明立体图。
[0034]标号说明
[0035]1:烧性基板;2:基板安装部;3:基板配设开口部;4:凸面状基板承受部;5:施力把持机构;6:把持部;7:施力体;8:固定把持部。
【具体实施方式】
[0036]根据附图对优选的本发明的实施方式简单地进行说明并示出本发明的作用。
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