定为:氧化还原电位为700mV。最后，将所得的再生蚀刻子液加入线路板蚀刻生产线上的子 液缸中，作为蚀刻子液参与蚀刻。使用线上自动检测投料控制机，对蚀刻缸中的蚀刻液的游 离氢离子浓度、氧化还原电位、比重参数进行检测并分别控制蚀刻子液、NaC10 3(配制为 20w/v%NaC103水溶液)和水的投放量；自动检测投料控制机的生产控制参数设定为:游离 氢离子浓度为0.1M，氧化还原电位为700mV，铜离子浓度为lg/L。使用本领域所公知的方法 测定蚀刻速率，并将结果记录于表1。
[0152] 实施例7
[0153] -种酸性氯化铜蚀刻液的再生工艺，包括以下步骤：
[0154] 1 .置换：取5 0 OmL蚀刻废液，使用滴定法，检测出蚀刻废液中的铜离子浓度为 0.02mol/L，三价铁离子浓度为0.001m〇l/L;向蚀刻废液中投放0.14g铁粉，并搅拌至再无气 泡产生；
[0155] 2.过滤:待步骤1所得的混合物冷却至室温后进行过滤，得到滤液A和滤渣B;
[0156] 3.清洗滤渣:将步骤2所得的滤渣B置于过量的5M盐酸中反应，直至没有气体产生； 待所得的混合物冷却至室温后迅速过滤，得到滤液C和滤渣D;滤渣D的成分为铜，经X射线光 谱仪分析，其纯度为92.7%，可直接再利用;所回收的铜的质量为0.07g，回收率为95%;
[0157] 4.再生混合液的调配:检测滤液组分C中铁离子的含量，然后将滤液C与盐酸、水、 Cu2Cl2、CuCl2按配比调配为线外再生混合液;该再生混合液以其重量百分比为100wt%计， 包含：1 wt % HC1、Ο · 01 wt % 铁离子、15wt % C112CI2、5wt % CuCh，余量为水。
[0158] 5.参与蚀刻:将所述的再生混合液在线外氧化为再生蚀刻子液;使用线外自动检 测投料控制机，对所述再生混合液的氧化还原电位进行检测，并控制NaC103(配制为20w/ v%NaC103水溶液）的投放量，得到再生蚀刻子液;该线外自动检测投料控制机的生产控制 参数设定为:氧化还原电位为380mV。最后，将所得的再生蚀刻子液加入线路板蚀刻生产线 上的子液缸中，作为蚀刻子液参与蚀刻。使用线上自动检测投料控制机，对蚀刻缸中的蚀刻 液的游离氢离子浓度、氧化还原电位、比重参数进行检测，并分别控制蚀刻子液、NaC10 3 (配 制为20w/v%NaC103水溶液)和水的投放量;线上自动检测投料控制机的生产控制参数设定 为:游离氢离子浓度为0.1M，氧化还原电位为650mV，铜离子浓度为lg/L。使用本领域所公知 的方法测定蚀刻速率，并将结果记录于表1。
[0159] 实施例8
[0160] -种酸性氯化铜蚀刻液的再生工艺，包括以下步骤：
[0161] 1 .置换：取500mL蚀刻废液，使用滴定法，检测出蚀刻废液中的铜离子浓度为 1.6mol/L，三价铁离子浓度为0.02mol/L;向蚀刻废液中投放45g铁粉，并搅拌至再无气泡产 生；
[0162] 2.过滤:待步骤1所得的混合物冷却至室温后进行过滤，得到滤液A和滤渣B;
[0163] 3.清洗滤渣:将步骤2所得的滤渣B置于过量的5M盐酸中反应，直至没有气体产生； 待所得的混合物冷却至室温后迅速过滤，得到滤液C和滤渣D;滤渣D的成分为铜，经X射线光 谱仪分析，其纯度为94.1%，可直接再利用;所回收的铜的质量为51.5g，回收率为97%;
[0164] 4.再生混合液的调配:检测滤液A中铁离子的含量，然后将滤液A与盐酸、水、NH4C1 按配比调配为再生混合液;该再生混合液以其总重量百分比为lOOwt%计，包含：36.5wt% HC1、0.7wt%铁离子、8wt%NH4Cl，余量为水。
[0165] 5.参与蚀刻:将所得的再生混合液在线外氧化为再生蚀刻子液;使用线外自动检 测投料控制机，对该再生混合液的氧化还原电位进行检测，并控制空气的投放量。关闭线外 自动检测投料控制机的氧化剂投放喷头，并使用射流真空增氧装置，将空气栗入线外再生 混合液中，直至达到所设定的氧化还原电位，得到再生蚀刻子液。所述的线外自动检测投料 控制机的生产控制参数设定为:氧化还原电位为520mV;该射流真空增氧装置如图3所示，包 括入液管1、四个耐酸栗2和出液管3;再生混合液通过入液管1，被抽入两条并联管道中，每 条并联管道上串联有两个耐酸栗2,且每条并联管道线的第一个耐酸栗2的入液口管道旁接 空气导通管4。将氧化所得的再生蚀刻子液加入线路板蚀刻生产线上的子液缸中，作为蚀刻 子液参与蚀刻。使用线上自动检测投料控制机，对蚀刻缸中的蚀刻液的游离氢离子浓度、氧 化还原电位、比重参数进行检测，并分别控制蚀刻子液、H 2〇2(配制为27.5w/v%H2〇2水溶液） 和水的投放量;线上自动检测投料控制机的生产控制参数设定为:游离氢离子浓度为1.7M， 氧化还原电位为520mV，铜离子浓度为100g/L。使用本领域所公知的方法测定蚀刻速率，并 将结果记录于表1。
[0166] 实施例9
[0167] -种酸性氯化铜蚀刻液的再生工艺，包括以下步骤：
[0168] 1 .置换：取5 0 OmL蚀刻废液，使用滴定法，检测出蚀刻废液中的铜离子浓度为 1.9mol/L，三价铁离子浓度为0.02mol/L;向蚀刻废液中投放54.5g铁粉，并搅拌至再无气泡 产生；
[0169] 2.过滤:待步骤1所得的混合物冷却至室温后进行过滤，得到滤液A和滤渣B;
[0170] 3.清洗滤渣:将步骤2所得的滤渣B置于过量的5M盐酸中反应，直至没有气体产生； 待所得的混合物冷却至室温后迅速过滤，得到滤液C和滤渣D;滤渣D的成分为铜，经X射线光 谱仪分析，其纯度为94.1%，可直接再利用;所回收的铜的质量为58.8g，回收率为92%;
[0171 ] 4.再生混合液的调配:混合滤液A和滤液C，检测滤液A+C中铁离子的含量，然后将 滤液A+C与盐酸、水、NaCl按配比调配为再生混合液；该再生混合液以其总重量百分比为 1 OOwt % 计，包含：21 · 7wt % HC1、5wt % 铁离子、5wt % NaCl，余量为水。
[0172] 5 .参与蚀刻:将所得的再生混合液在线外氧化为再生蚀刻子液。使用线外自动检 测投料控制机，对该再生混合液的氧化还原电位进行检测，并控制NaC103(配制为20w/v% NaC103)和空气的投放量。开启自动检测投料控制机的氧化剂投放喷头，投放NaC103，并同时 使用射流真空增氧装置，将空气栗入再生混合液中，直至达到所设定的氧化还原电位 (540mV)，得到再生蚀刻子液。该射流真空增氧装置如图4所示，包括入液管1、6个耐酸栗2和 出液管3。入液管1将待氧化的再生混合液抽入由三条并联管道构成的并联体系中，每条并 联管道上串联有一个耐酸栗2;该并联体系与另一个相同的并联体系串联，第二个并联体系 再与出液管3相连;每条并联管道线上的耐酸栗2的入液口管道旁接空气导通管4。将氧化所 得的再生蚀刻子液加入线路板蚀刻生产线上的子液缸中，作为蚀刻子液参与蚀刻。使用线 上自动检测投料控制机，对蚀刻缸中的液体的游离氢离子浓度、氧化还原电位、比重参数进 行检测，并分别控制蚀刻子液、NaC10 3(配制为20w/v%NaC103水溶液)和水的投放量；自动检 测投料控制机的生产控制参数设定为:游离氢离子浓度为0.5M，氧化还原电位为540mV，铜 离子浓度为120g/L。使用本领域所公知的方法测定蚀刻速率，并将结果记录于表1。
[0173] 实施例10
[0174] -种酸性氯化铜蚀刻液的回收工艺，包括以下步骤：
[0175] 1 .置换：取50OmL蚀刻废液，使用滴定法，检测出蚀刻废液中的铜离子浓度为 1.2mol/L，三价铁离子浓度为0.12mol/L;向蚀刻废液中投放36g铁粉，并搅拌至再无气泡产 生；
[0176] 2.过滤:待步骤1所得的混合物冷却至室温后进行过滤，得到滤液A和滤渣B;
[0177] 3.清洗滤渣:将步骤2所得的滤渣B置于过量的5M盐酸中反应，直至没有气体产生； 待所得的混合物冷却至室温后迅速过滤，得到滤液C和滤渣D;滤渣D的成分为铜，经X射线光 谱仪分析，其纯度为91.1%，可直接再利用;所回收的铜的质量为39.3g，回收率为94%;
[0178] 4.氧化回收:混合滤液A和滤液C。使用自动检测投料控制机，对滤液A+C的氧化还 原电位进行检测，并控制H2〇2(配制为27.5w/v %的H2〇2水溶液)和空气的投放。开启自动检 测投料控制机的氧化剂投放喷头，投放H2〇2,并同时使用射流真空增氧装置，将空气栗入滤 液A+C中，直至达到所设定的氧化还原电位(380mV);回收所得的主成分为三氯化铁的溶液。 所述的射流真空增氧装置包括入液管、两个耐酸栗和出液管。入液管一端连滤液A+C，另一 端连接第一耐酸栗的入液口；第一耐酸栗的出液口与第二耐酸栗的入液口相连；出液管一 端连第二耐酸栗的出液口，另一端连储存滤液A+C;第一耐酸栗的入液口管道上旁接有空气 导通管。所述的射流真空增氧装置设有与自动检测投料控制机相连的安全联锁执行指令控 制系统。
[0179] 5.废水处理:将所得的主成分为三氯化铁的溶液加入线路板生产废水中，使用1M 氢氧化钠溶液调节废水的pH至7.0;使用压滤机进行固液分离。
[0180] 实施例11
[0181 ] -种酸性氯化铜蚀刻液的回收工艺，包括以下步骤：
[0182] 1 .置换：取5 0 OmL蚀刻废液，使用滴定法，检测出蚀刻废液中的铜离子浓度为 2.2mol/L，三价铁离子浓度为0;向蚀刻废液中投放30.4g铁粉，并搅拌至再无气泡产生；
[0183] 2.过滤:待步骤1所得的混合物冷却至室温后进行过滤，得到滤液A和滤渣B;
[0184] 3.清洗滤渣:将步骤2所得的滤渣组分B置于过量的5M盐酸中反应，直至没有气体 产生;待所得的混合物冷却至室温后迅速过滤，得到滤液C和滤渣D;滤渣D的成分为铜，经X 射线光谱仪分析，其纯度为93%，可直接再利用；所回收的铜的质量为71.3g，回收率为 95% ；
[0185] 4.氧化回收:使用自动检测投料控制机，对滤液组分A的氧化还原电位进行检测， 控制NaCl〇3(配制为20w/v%NaCl〇3水溶液）的投放量，直至达到所设定的氧化还原电位 (450mV);回收所得的主成分为三氯化铁的溶液。
[0186] 5.废水处理:将所得的主成分为三氯化铁的溶液加入线路板生产废水