，在所述第I摄像工序中，利用第I摄像部13对设在所述掩模11上的位置检测用的第I标记15进行摄像，在所述第I移动工序中，根据所述第I摄像工序中得到的摄像数据获得所述第I标记15的位置信息，基于该第I标记15的位置信息使所述第2摄像部14移动，以使设在所述掩模11上的位置检测用的第2标记16位于摄像倍率高于所述第I摄像部13的第2摄像部14的摄像范围内。
[0051 ]此外，涉及权利要求5至8中的任意一项所述的对准方法，其特征在于，在所述第I摄像工序中，利用第I摄像部13对设在所述基板12上的位置检测用的第3标记17进行摄像，在所述第I移动工序中，根据所述第I摄像工序中得到的摄像数据获得所述第3标记17的位置信息，基于该第3标记17的位置信息使所述第2摄像部14移动，以使设在所述基板12上的位置检测用的第4标记18位于摄像倍率高于所述第I摄像部13的第2摄像部14的摄像范围内。
[0052]此外，涉及权利要求1至8中任意一项所述的对准方法，其特征在于，分别使用两个以上的所述第I摄像部13及所述第2摄像部14，来获得所述标记的位置信息。
[0053]此外，涉及权利要求14所述的对准方法，其特征在于，在所述掩模11或所述基板12上分别设置两个以上的所述第I标记15和所述第3标记17。
[0054]此外，涉及权利要求15所述的对准方法，其特征在于，所述第I标记15和所述第3标记17分别设在关于所述掩模11或所述基板12的中心为点对称的位置上。
[0055]此外，涉及权利要求14所述的对准方法，其特征在于，在所述掩模11或所述基板12上分别设置两个以上的所述第2标记16和所述第4标记18。
[0056]此外，涉及权利要求15所述的对准方法，其特征在于，在所述掩模11或所述基板12上分别设置两个以上的所述第2标记16和所述第4标记18。
[0057]此外，涉及权利要求16的任意一项所述的对准方法，其特征在于，在所述掩模11或所述基板12上分别设置两个以上的所述第2标记16和所述第4标记18。
[0058]此外，涉及权利要求17所述的对准方法，其特征在于，所述第2标记16和所述第4标记18分别设在关于所述掩模11或所述基板12的中心为点对称的位置上。
[0059]此外，涉及权利要求18所述的对准方法，其特征在于，所述第2标记16和所述第4标记18分别设在关于所述掩模11或所述基板12的中心为点对称的位置上。
[0060]此外，涉及权利要求19所述的对准方法，其特征在于，所述第2标记16和所述第4标记18分别设在关于所述掩模11或所述基板12的中心为点对称的位置上。
[0061 ]此外，涉及权利要求1至8中的任意一项所述的对准方法，其特征在于，所述第2摄像部14具备沿X及Y方向移动的单元。
[0062]此外，涉及权利要求1至8中的任意一项所述的对准方法，其特征在于，所述第I摄像部13和所述第2摄像部14分别具备调整镜头的焦距的镜头焦距调整单元。
[0063]此外，涉及一种对准装置，该对准装置设于成膜装置，进行掩模11与基板12之间的对准，所述成膜装置通过所述掩模11的掩模开口部将成膜材料淀积在所述基板12上，在所述基板12上形成薄膜，所述对准装置的特征在于，其构成为具备:
[0064]掩模移动单元或基板移动单元，其中，所述掩模移动单元支撑所述掩模11，使该掩模11沿X及Y方向移动，所述基板移动单元支撑所述基板12，使该基板12沿X及Y方向移动；
[0065]第I摄像部13，其对设在所述掩模11上的位置检测用的第I标记15和设在所述基板12上的位置检测用的第3标记17进行摄像；
[0066]第2摄像部14，其摄像倍率高于该第I摄像部13，对设在所述掩模11上的位置检测用的第2标记16和设在所述基板12上的位置检测用的第4标记18进行摄像；
[0067]摄像部驱动单元，其使该第2摄像部14沿X及Y方向移动；
[0068]摄像部控制单元，其根据由所述第I摄像部13摄像而得到的摄像数据获得所述第I标记15或所述第3标记17的位置信息，基于该第I标记15或第3标记17的位置信息控制所述摄像部驱动单元，使所述第2摄像部14移动，以使设在所述掩模11上的位置检测用的第2标记16或设在所述基板12上的位置检测用的第4标记18位于所述第2摄像部14的摄像范围内；以及
[0069]对准控制单元，其根据由所述第I摄像部13对所述第I标记15和所述第3标记17同时进行摄像而得到的摄像数据获得所述第I标记15及所述第3标记17的位置信息，基于该第I标记15及第3标记17的位置信息，控制所述掩模移动单元或所述基板移动单元，使所述基板12与所述掩模11相对移动，进行第I对准，并且，根据由所述第2摄像部14对所述第2标记16和所述第4标记18同时进行摄像而得到的摄像数据获得所述第2标记16及所述第4标记18的位置信息，基于该第2标记16及第4标记18的位置信息，控制所述掩模移动单元或所述基板移动单元，使所述基板12与所述掩模11相对移动，进行第2对准，
[0070]以使用通过摄像倍率低于所述第2摄像部14的第I摄像部13得到的摄像数据来定位后的高摄像倍率的所述第2摄像部14的摄像范围为基准，按照所述第I对准工序和所述第2对准工序这两个阶段进行所述基板12和所述掩模11的位置校正。
[0071]发明效果
[0072]本发明如上所述，因此得到一种对准方法以及对准装置，能够在不损坏基板的情况下在高摄像倍率的摄像部的摄像视野内捕捉掩模标记和基板标记，能够进行高精度的对准，实用性优异。
【附图说明】
[0073]图1是说明以往的对准的步骤的流程图。
[0074]图2是说明实施例1的对准装置的示意说明立体图。
[0075]图3是说明实施例1的对准的步骤的流程图。
[0076]图4是说明其他例子的对准的步骤的流程图。
[0077]图5是说明其他例子的对准的步骤的流程图。
[0078]图6是说明实施例2的对准的步骤的流程图。
【具体实施方式】
[0079]基于附图示出本发明的作用，对本发明的优选的实施方式简单地进行说明。
[0080]在成膜装置中进行掩模11与基板12之间的对准，所述成膜装置通过掩模11的掩模开口部将成膜材料淀积在基板12上，从而在基板12上形成薄膜。
[0081]此时，利用第I摄像部13对掩模11的第I标记15进行摄像，根据该摄像数据获得第I标记15的位置信息，基于该第I标记15的位置信息使第2摄像部14移动，以使掩模11的第2标记16位于摄像倍率高于第I摄像部13的第2摄像部14的摄像范围内，其中，所述掩模11被搬入到成膜装置的成膜室等处理室内，被保持在掩模台上。
[0082]具体而言，根据获得的第I标记15的位置信息、即第I标记15从第I摄像部13的摄像中心偏离的偏离量，算出使第2摄像部14的摄像中心与第2标记16—致所必需的移动量，来使第2摄像部14移动。
[0083]因此，基于利用摄像倍率低、摄像视野广的第I摄像部13对第I标记15进行摄像而得到的摄像数据，使第2摄像部14移动至捕捉第2标记16的位置，S卩，固定使用由第I摄像部13进行摄像而得到的摄像数据来定位后的高摄像倍率的第2摄像部14的坐标位置，将该第2摄像部14的摄像范围设为基板12和掩模11的位置校正的基准位置，由此，无论掩模11和基板12的运送精度如何，都能够利用摄像倍率高、摄像视野狭窄的第2摄像部14可靠地捕捉掩模11及基板12的标记，从而能够可靠地防止掩模11及基板12的标记脱离摄像视野。
[0084]因此，在掩模11及基板12的运送精度低的情况下，尤其当使用高摄像倍率的摄像部时，可能不能使掩模及基板的标记进入预先设置在规定位置上的摄像部的摄像范围内，不能对准摄像中心，但根据本发明，则不产生这样的问题。因此，根据本发明，即使在运送精度低的情况下，也能够使用摄像倍率更高的摄像部，能实现更高精度的对准。
[0085]此外，将基板12搬入所述处理室内，掩模11的标记和基板12的标记分别位于摄像部的摄像范围内，以掩模11与基板12成为隔着间隔重合的状态的方式保持基板12，在该状态下利用第I摄像部13对掩模11的第I标记15和基板12的第3标记17同时进行摄像，根据得到的摄像数据获得第I标记15及第3标记17的位置信息，基于该第I标记15及第3标记17的位置信息，使基板12与掩模11相对移动，从而进行粗定位、即第I对准。