一种一体式岩体打磨抛光装置的制造方法
【技术领域】
[0001]本实用新型属于岩土工程试验技术领域，尤其是涉及一种岩体的打磨与抛光装置。
【背景技术】
[0002]通常，当进行SHM试验时，需将样品先进行打磨，后抛光。现有大多的打磨和抛光仪器是分开的，不能在同一仪器上实现既打磨又抛光的功能，因此，在实验时，使得仪器占地面积较大、设备复杂且数量多，而且一次只能进行一个样品。在抛光的过程中分为粗抛与精抛，精抛需要进行人为手动操作，操作过程中，需手的力度保持一致，使打磨的面是均匀、平整以保证扫描的效果精准而清晰，稍有不慎力度控制不当则会磨过或者精磨不到位。
[0003]因此，在实验室对岩体进行制作试样时，均不同程度地存在操作不便、仪器工艺繁杂、试验效果不可靠、效率不高等多种缺陷和不足。
【发明内容】
[0004]为了克服上述现有的岩体试样打磨与抛光过程中所存在的不足，本实用新型提供了一种结构简单、打磨与抛光效果好且可多个样品同时进行的一体式岩体打磨抛光装置。
[0005]本实用新型为了实现上述目的所采用的技术方案是:该装置包括机箱，在机箱侧壁上设置有控制开关，机箱内设置有与控制开关相连的调速电机，该调速电机的动力输出轴延伸至机箱的顶部，并在其上水平设置有打磨抛光转盘，在机箱的外侧设置有支架，在支架的顶部设置有与打磨抛光转盘平行的平衡杆，在平衡杆的中部设置有至少I个可上下移动的调节螺杆，在调节螺杆的下端设置有可固定岩体试件的固定板，固定板位于打磨抛光转盘的上方且下表面与打磨抛光转盘平行。
[0006]上述固定板与打磨抛光转盘的垂直距离小于等于50mm，以保证试验操作的简便和精准。
[0007]上述调节螺杆是2?4个，并且在同一圆周上平均分布，可以同时多个试件同时操作，提高打磨抛光效率。
[0008]上述固定板正方体结构，其厚度为I?2cm，其厚度小于等于边长。
[0009]本实用新型的一体式岩体打磨抛光装置，是利用调节螺杆将岩体试件固定在打磨抛光转盘的上方，通过调节螺杆可适时调整岩体试件的高度，使岩体试件的待处理面与打磨抛光转盘刚好接触，通过调节机箱内的电机转速调节打磨抛光转盘的转速，通过更换不同砂质及所需的研磨粉末进行打磨与抛光切换，本实用新型将岩体打磨抛光一体化制作，结构简单、设计合理、使用操作简便且可机动精抛，节省体力、试验结果稳定可靠，适于推广应用。
【附图说明】
[0010]图1为实施例1的打磨抛光装置结构示意图。
[0011]图2为图1中调节螺杆的结构示意图。
【具体实施方式】
[0012]下面结合附图和实施例，对本实用新型的技术方案做进一步的详细描述。
[0013]实施例1
[0014]如图1和图2所示，本实施例的一体式岩体打磨抛光装置是由左底座1、左支撑杆2、平衡杆3、左调节螺杆4、右调节螺杆5、固定板6、打磨抛光转盘7、右支撑杆8、右底座9、机箱10、调速电机11以及控制开关12构成。
[0015]本实施例的左底座I和右底座9是固定放置在实验台面上，呈长方体结构，长为17cm，宽10cm，高3.5cm，分别用于固定左支撑杆2和右支撑杆8，与左支撑杆2、右支撑杆8组成本实施例的支架。左底座I和右底座9的间隔为36cm。左支撑杆2和右支撑杆8呈圆柱体，其直径为30mm，高度为35cm，左支撑杆2和右支撑杆8的顶部之间用螺栓固定安装有平衡杆3，该平衡杆3的长为56cm，宽为5cm，厚为3cm，呈长方体，在平衡杆3的中部加工有两个并列的螺孔，在两个螺孔内安装有调节螺杆，本实施例的调节螺杆分为左调节螺杆4和右调节螺杆5，本实施例的左调节螺杆4和右调节螺杆5的直径均为30_，用于调节岩体试件的高度，左调节螺杆4和右调节螺杆5的底端加工有内螺纹，通过螺纹连接方式与固定板6的上表面中部连接，本实施例的固定板6是一个长为2cm，宽为2cm、厚度为1.5cm的有机玻璃方形体，其下表面与打磨抛光转盘7平行，打磨或抛光时将岩体试件用强力胶粘结在固定板6上。在固定板6下方的左底座I和右底座9之间安装有机箱10，本实施例的机箱10是长方壳体结构，在其侧壁上安装有控制开关12，控制开关12通过导线与调速电机11连接，控制调速电机11的转速大小，该调速电机11安装在机箱10内，其动力输出轴向上延伸至机箱10的顶部外侧，在调速电机11的动力输出轴上套装有打磨抛光转盘7，该打磨抛光转盘7的外部直径为18cm，内部直径为16cm，属于普通转盘，可以放置砂纸或者抛光粉等实现打磨或抛光，为了保证试验操作的简便和精准，打磨抛光转盘7与固定板6之间的纵向距离尽量不超过50mm，本实施例的距离是15mm，还可以根据待打磨试件大小进行适当调整。
[0016]使用时，将调整左、右调节螺杆5的高度至适当位置，将岩体试件用强力胶粘结在固定板6的下表面，左、右调节螺杆5上下移动调整至岩体试件的待处理面与打磨抛光转盘7的上表面接触，通过控制开关12调整调速电机11到合适速度，开始打磨或抛光，对于岩体试样的打磨与抛光操作可根据岩体种类和尺寸、对被测试岩体试样所需的打磨纸和转盘的转速确定，具体是:
[0017](I)打磨:通过改变转盘内的材料和打磨粉对岩体试样进行打磨。在初期和末期时可通过调节调速电机11的转速快慢来进行粗打磨和精打磨；
[0018](2)抛光:通过改变转盘内的材料和抛光粉对岩体试样进行抛光，当粗抛时，可调节到高转速且控制抛光时间，进行粗抛，达到观察面光滑且无较大孔隙；当精抛时，可调节到低转速，进行精抛，直至观察面反光。
[0019]实施例2
[0020]本实施例的平衡杆3中部加工有I个螺孔，在螺孔内安装有调节螺杆，本实施例的调节螺杆的直径均为32mm，在调节螺杆的底端加工有内螺纹，通过螺纹连接方式与固定板6的上表面连接，本实施例的固定板6是一个长为2cm，宽为2cm、厚度为Icm的有机玻璃方形板，使用时可将岩体试件用强力胶粘结在固定板6的下表面。
[0021]其他的部件及其连接关系与实施例1相同。
[0022]实施例3
[0023]本实施例的平衡杆3的长为56cm，宽为10cm，厚为3cm，呈长方体，在平衡杆3的中部加工有4个在同一圆周上平均分布的螺孔，在螺孔内安装有调节螺杆，本实施例的调节螺杆是4个，并且按照螺孔分布在同一个圆周上平均分布，其直径均为30mm，用于调节岩体试件的高度，在调节螺杆的底端加工有内螺纹，通过螺纹连接方式与固定板6的上表面中部连接，本实施例的固定板6是一个长为2cm，宽为2cm、厚度为2cm的正方形体，其下表面与打磨抛光转盘7平行，打磨或抛光时将岩体试件用强力胶粘结在固定板6上。本实施例的打磨抛光转盘7属于普通转盘，其外部直径为18cm，内部直径为16cm，本实施例打磨抛光转盘7与固定板6之间的纵向距离是20mm，还可以根据待打磨试件大小进行适当调整。
[0024]其他的部件及其连接关系与实施例1相同。
[0025]以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型作任何限制，凡是根据本实用新型技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变化，均仍属于本实用新型技术方案的保护范围内。
【主权项】
1.一种一体式岩体打磨抛光装置，包括机箱(10)，在机箱(10)侧壁上设置有控制开关(12)，机箱(10)内设置有与控制开关(12)相连的调速电机(11)，该调速电机(11)的动力输出轴延伸至机箱(10)的顶部，并在其上水平设置有打磨抛光转盘(7)，其特征在于:在机箱(10)的外侧设置有支架，在支架的顶部设置有与打磨抛光转盘(7)平行的平衡杆(3)，在平衡杆(3)的中部设置有至少I个可上下移动的调节螺杆，在调节螺杆的下端设置有可固定岩体试件的固定板(6)，固定板(6)位于打磨抛光转盘(7)的上方且下表面与打磨抛光转盘(7)平行。2.根据权利要求1所述的一体式岩体打磨抛光装置，其特征在于:所述固定板(6)与打磨抛光转盘(7)的垂直距离小于等于50mm。3.根据权利要求1所述的一体式岩体打磨抛光装置，其特征在于:所述调节螺杆是2?4个，并且在同一圆周上平均分布。4.根据权利要求1所述的一体式岩体打磨抛光装置，其特征在于:所述固定板(6)正方体结构，其厚度为I?2cm，其厚度小于等于边长。
【专利摘要】本实用新型涉及一种一体式岩体打磨抛光装置，其包括机箱，在机箱的外侧设置有支架，在支架的顶部设置有与打磨抛光转盘平行的平衡杆，在平衡杆的中部设置有至少1个可上下移动的调节螺杆，在调节螺杆的下端设置有可固定岩体试件的固定板，固定板位于打磨抛光转盘的上方且下表面与打磨抛光转盘平行；本实用新型将岩体打磨抛光一体化制作，结构简单、设计合理、使用操作简便且可机动精抛，节省体力、试验结果稳定可靠，适于推广应用。
【IPC分类】G01N1/32, B24B19/22
【公开号】CN204700704
【申请号】CN201520250973
【发明人】李晓军, 郭玲
【申请人】西安科技大学
【公开日】2015年10月14日
【申请日】2015年4月23日