0029]如图3所示，所述基片载具32包括滚轮321、支撑杆322和支撑基座323。所述滚轮321和支撑基座323分别连接在所述支撑杆322的两端。所述支撑基座323用于放置基片，所述支撑杆323与所述支撑基座323上放置的基片所在平面垂直。优选地，基片所在平面竖直放置。所述滚轮321、支撑基座323和支撑杆322之间均为固定连接，当所述滚轮321在所述轨道33上滚动时，能够带动所述支撑杆322随所述滚轮321公转的同时亦以自身纵向轴线为轴心自转，从而进一步带动所述支撑基座323进行公转的同时也进行以所述支撑杆的纵向轴线为轴心自转，从而实现倾斜角蒸发时基片的公转与自转运动，基片旋转的速度可由所述动力机构进行控制。同时，所述滚轮321和支撑基座323都可以设置成包括大小不同的可替换的一系列，通过替换大小不同的滚轮321，可用于调整所述基片的自转角速度大小；通过替换大小不同的支撑基座323，可方便对不同尺寸的基片，例如4寸、6寸硅片等进行蒸发沉积，同时通过设置多个支撑基座323，可一次同时对多个基片进行蒸发沉积。。
[0030]优选地，在所述支撑杆322的两端设置有螺纹结构，所述滚轮321和支撑基座323通过螺纹结构固定在所述支撑杆322的两端。
[0031]优选地，所述支撑杆322的长度可以调节，在一个优选实施例中，所述支撑杆322包括第一支撑杆3221和第二支撑杆3222，所述第一支撑杆上设置有外螺纹或者内螺纹，所述第二支撑杆3222上设置有相对应的内螺纹或者外螺纹，通过所述外螺纹和内螺纹的配合将所述第一支撑杆3221和第二支撑杆3222连接起来从而构成所述支撑杆322，同时通过调整所述内螺纹和外螺纹的配合就可以方便地来调整所述支撑杆322的长度。所述支撑杆322长度调节的方式还可以采用其他的方式，例如通过内外套筒的方式，在所述内外套筒上设置定位结构，当将内外套筒调整到合适位置的时候，通过所述定位结构将所述内外套筒进行定位，这样也可方便地调整所述支撑杆322的长度。通过调整所述支撑杆322的长度，可方便地调整任意一个基片的沉积角，在同一个蒸发沉积过程中实现不同的倾斜角沉积。
[0032]优选地，所述支撑杆322靠近与所述滚轮321相连接的一端固定到所述支臂312上的通孔3122上，所述支撑基座323位于所述轨道33的径向内侧。每个支臂312都可以安装一个基片载具32。所有基片载具32的支撑杆322在同一个平面上，该平面与所述轨道33所在的平面共面或平行。
[0033]如图3所示，在一个优选实施例中，所述支撑基座323包括圆环3231和支架3232。所述支架3232包括多个分支，多个分支的一端相交，其交点位于所述圆环3231的纵向中心线上，并与所述圆环3231的圆心相距一定距离，该相交的端部与所述支撑杆322的端部进行连接，多个分支的另外一端固定到所述圆环3231上。优选地，所述支架3232的多个分支在圆环3231的周向上呈不均匀分布，在其中的两个分支之间形成有较大的开口 3233，该较大的开口 3233可方便对基片的放置。
[0034]如图3-4所示，在所述圆环3231上设置有固定部3234，该固定部3234在所述圆环3231的内缘沿所述圆环3231的径向向内延伸形成，其内缘直径小于所述圆环3231的内缘直径，这样，在所述圆环3231和固定部3234之间形成台阶部3235。安装基片时，将基片从所述较大的开口 3233放入所述基片，并将基片的外缘抵靠在所述台阶部3235处，然后通过夹紧装置，例如夹子等(图中未示出)将所述基片固定在所述支撑基座323上。这样的结构，在方便基片安装的同时，能够使得安装后的基片保持平整状态，且对基片的固定牢靠安全，便于对基片进行沉积作业。
[0035]如图2所示，所述真空蒸发器4位于所述沉积蒸发传动装置3的下方，所述真空蒸发器4的蒸发源面向所述沉积蒸发传动装置3放置，所述蒸发源的纵向中心线与所述支撑杆322所在平面垂直，或者说，所述真空蒸发器4的蒸发源的纵向中心线位于竖直位置，并且，所述蒸发源的纵向中心线经过所述轨道33所在圆的圆心。在真空蒸发时，粒子束的入射方向与放置在支撑基座323上的基片的法线方向成一定的倾斜角α，通过调节支撑杆322的长度即可调节倾斜蒸发时的沉积角的大小(如图5所示，图5中示意性地示出了两个不同的沉积角α I和α 2)。
[0036]本实用新型中的倾斜角沉积装置中的旋转架31上可连接多个基片载具32，可以在一次抽真空过程中同时对多个基片蒸发沉积，且每个基片可以调节为相同或不同的倾斜角度。因此，本实用新型中的倾斜角沉积蒸发系统具有多片蒸发、基片旋转和每个基片的倾斜角度可调等优点，这不仅有利于高温蒸发和初期实验工艺条件的摸索，而且还有利于产能提升和生产成本的降低，更适用于倾斜角蒸发纳米结构薄膜的批量生产。
[0037]最后应说明的是:显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明本实用新型所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引申出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型的保护范围之中。
【主权项】
1.一种基片载具，用于蒸发沉积系统中，对基片进行装载，其特征在于，所述基片载具包括滚轮、支撑杆和支撑基座，所述滚轮和支撑基座分别连接在所述支撑杆的两端，所述支撑基座用于放置基片，所述滚轮用于在轨道上滚动。2.根据权利要求1所述的基片载具，其特征在于，所述支撑杆与所述支撑基座上放置的基片所在平面垂直。3.根据权利要求1或2所述的基片载具，其特征在于，所述滚轮、支撑基座和支撑杆之间均为固定连接。4.根据权利要求1所述的基片载具，其特征在于，所述滚轮和/或所述支撑基座设置成包括大小不同的可替换的一系列。5.根据权利要求1所述的基片载具，其特征在于，所述支撑杆的长度可以调节。6.根据权利要求5所述的基片载具，其特征在于，所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第一支撑杆上设置有外螺纹或者内螺纹，所述第二支撑杆上设置有相对应的内螺纹或者外螺纹，通过调整所述内螺纹和外螺纹的配合来调整所述支撑杆的长度。7.根据权利要求5所述的基片载具，其特征在于，所述支撑杆包括第一支撑杆和第二支撑杆，所述第一支撑杆的一端套装在第二支撑杆的一端，通过调整所述第一支撑杆套装到所述第二支撑杆内的长度来调整所述支撑杆的长度。8.根据权利要求1所述的基片载具，其特征在于，所述支撑基座包括圆环和支架，所述支架包括多个分支，多个分支的一端相交，其交点位于所述圆环的纵向中心线上，并与所述圆环的圆心相距一定距离，该相交的端部与所述支撑杆的端部进行连接，多个分支的另外一端固定到所述圆环上。9.根据权利要求8所述的基片载具，其特征在于，所述支架的多个分支在圆环的周向上呈不均匀分布，在其中的两个分支之间形成有较大的开口。10.根据权利要求8所述的基片载具，其特征在于，在所述圆环上设置有基片固定部，该基片固定部在所述圆环的内缘沿所述圆环的径向向内延伸形成。
【专利摘要】本实用新型涉及一种基片载具，用于蒸发沉积系统中，对基片进行装载，所述基片载具包括滚轮、支撑杆和支撑基座，所述滚轮和支撑基座分别连接在所述支撑杆的两端，所述支撑基座用于放置基片，所述滚轮用于在轨道上滚动。本实用新型提供的基片载具，包括滚轮、支撑杆和支撑基座，能够方便地对基片进行装载；可以实现对不同大小的基片进行沉积，同时还可调整基片的沉积倾斜角；并且，本申请中的基片载具能够方便地放置基片，对基片固定牢固稳定，非常利于对基片的沉积的进行。
【IPC分类】C23C14/50
【公开号】CN204803400
【申请号】CN201520433153
【发明人】乐仲, 孙福河, 闻永祥, 曹永辉
【申请人】杭州士兰集成电路有限公司
【公开日】2015年11月25日
【申请日】2015年6月19日