的第二表面被刻蚀程度；
[0033]所述控制设备12，用于接收所述图像采集设备采集到的图像信息，根据所述图像信息，确定所述靶材的第二表面上每一个位置被刻蚀的程度值，并针对每一个位置被刻蚀的程度值，确定所述电磁块所到位置的磁控制指令，其中，所述磁控制指令用于调整电磁块的磁性大小以改变所述电磁块所到位置的磁性；
[0034]所述电磁块13，用于接收所述控制设备的磁控制指令；
[0035]所述机械设备14，用于控制所述电磁块在所述靶材的第一表面的运动位置。
[0036]具体地，本实用新型中所记载的图像采集设备可以为包含有摄像头的摄像设备，也可以为照相设备，例如:电荷親合元件(英文全拼:Charge-coupled Device;缩写:CCD)图像传感器(或者图像控制器)、数码照相机、摄录影机，只要具备采集图像功能的设备都属于本实用新型所描述的图像采集设备，这里不做具体限定。
[0037]本实用新型实施例中所记载的图像采集设备可以安装在磁控溅射镀膜设备上，同时与本实用新型实施例中所记载的控制设备之间电连接，这里的电连接可以是指通过导线或者其他连接线进行连接，也可以是指无线连接，即图像采集设备可以通过无线信号传输的方式将采集到的图像信息传输给控制设备，这里对于电连接的方式不做具体限定。
[0038]对于图像采集设备在磁控溅射镀膜设备上的安装位置以能够清楚准确采集靶材被轰击之后的图像为准，具体安装位置在本实用新型实施例中不做具体限定。
[0039]具体地，所述图像采集设备11，具体用于当用于对被镀对象进行加热的加热平台被翻转时采集所述靶材的第二表面的图像信息。
[0040]其中，图像采集设备采集图像信息的采集的时间可以设定为在停止对被镀对象进行镀膜后将被镀对象所在的加热平台被翻转时。
[0041 ]这里所说的加热平台，用于在被镀对象进行镀膜时对被镀对象的衬底进行加热，以确保被镀对象的镀膜质量。
[0042]图2为本实用新型实施例提供的一种控制靶材磁场的装置的结构示意图。从图2中可以看出，图像采集设备11、加热平台15、靶材16、被镀对象17、控制设备12、电磁块13以及机械设备14之间的位置关系。
[0043]可选地，本实用新型所记载的所述图像采集设备11表面还可以设置保护膜。所述保护膜的作用在于确保图像采集设备在采集图图像信息或者静止不工作时不受外部环境，例如，高温环境、摩擦环境等因素的影响。
[0044]其中，所述保护膜可以为具有耐高温性能和/或抗摩擦性能材料形成，例如，所述保护膜可以是耐高温的石英玻璃或者钢化玻璃等等。
[0045]具体地，本实用新型中所记载的控制设备12，具体用于根据所述图像信息中包含的所述靶材的第二表面的每一个位置被刻蚀的状态，确定每一个位置被刻蚀的程度值。
[0046]这里需要说明的是，本实用新型实施例中所述的靶材16的第一表面可以是指靶材的背面，即不被轰击的一面;本实用新型实施例中所述的靶材的第二表面可以是指靶材的正面，即被轰击且用于溅射镀膜的一面。本实用新型实施例中“第一表面”和“第二表面”中的“第一”和“第二”仅仅用于区分靶材的不同面，没有其他特殊含义。
[0047]本实用新型实施例中所记载的靶材的第二表面的每一个位置被刻蚀的状态是指靶材的第二表面上的材料被正离子轰击转移到被镀衬底的表面，导致靶材的第二表面不同位置受到不同的刻蚀，在靶材的第二表面出现凹凸不平的现象。
[0048]即本实用新型实施例所记载的控制设备通过对接收到的图像信息进行分析，可以根据靶材的第二表面的凹凸状态，确定所述靶材的第二表面的每一个位置被刻蚀的程度值。
[0049]例如:如图3所示，为图像采集设备采集的靶材的第二表面的图像示意图。从图3中可以看到有些地方颜色比较深，有些地方颜色比较浅，呈现凹凸的状态。颜色比较深的位置说明刻蚀程度比较大，颜色比较浅的位置说明刻蚀程度比较小。以图3中所示的A、B、C和D四个位置点为例进行说明。在本实用新型实施例中，判断刻蚀程度大小除了比较颜色之外，还可以分析每一个位置凹凸的程度，假设A位置点的向下凹的最大深度为lmm;B位置点的向下凹的最大深度为0.1mm;C位置点的向下凹的最大深度为1.5mm;D位置点的向下凹的最大深度为0.5mm。由此可以分析得出，这四个位置点的刻蚀程度为C位置点的刻蚀程度最大，其次是A位置点的刻蚀程度，再其次是D位置点的刻蚀程度，最后是B位置点的刻蚀程度，S卩B位置点的刻蚀程度最小。那么，在本实用新型实施例中可以根据预设的刻蚀程度为每一个位置点量化一个用于表征刻蚀程度的程度值。
[0050]具体地，在本实用新型实施例中假设所述磁控制指令包含发送给所述电磁块的电压信号和/或电流信号，所述控制设备12具体用于针对所述靶材的第二表面上每一个位置被刻蚀的程度值，分别确定所述靶材的第二表面上各个位置需要补偿的电磁强度值，并根据电磁强度值与电压值和/或电流值之间的对应关系，确定在所述电磁块到达所述位置时发送给所述电磁块的电压值和/或电流值，将确定的电压值和/或电流值转换成为电信号发送给所述电磁块。
[0051]由于靶材的第二表面出现凹凸不平现象的原因是靶材的第二表面磁场分布不均，为了提升靶材的利用率，本实用新型实施例提出改善靶材的第二表面的磁场分布，使得靶材第二表面的磁场分布均匀。因此，在控制设备12确定所述靶材的第二表面上每一个位置被刻蚀的程度值之后，需要进一步根据靶材的第二表面上每一个位置被刻蚀的程度值，对靶材的第二表面的磁场分布进行分析，进一步确定程度值小的位置磁场强度较弱，后续需要增加该位置的磁场强度;确定程度值大的位置磁场强度较强，后续可以根据该位置的磁场强度，确定磁场强度较弱的位置需要补偿的磁场强度大小。
[0052]所述控制设备12在根据电磁强度值与电压值和/或电流值之间的对应关系，确定在所述电磁块到达所述位置时发送给所述电磁块的电压值和/或电流值之后，根据电磁块在机械设备上的运行轨迹，确定发送给所述电磁块的电信号脉冲，并将所述电信号脉冲发送给所述电磁块。
[0053]例如:如图4所示，为电磁块在机械设备上运动的运动轨迹的示意图。假设靶材表面的位置点可以划分为9个位置点，即位置点1、位置点2、位置点3、位置点4、位置点5、位置点6、位置点7、位置点8和位置点9，确定的电磁块在位置点1需要的电压为IV，在位置点2需要的电压为0.5V，在位置点3需要的电压为0.5V，......，在位置点9需要的电压为2V，那么假设电磁块的运动轨迹是147852369，那么发送给电磁块的电信号脉冲中电压值依次为
1、......、0.5、0.5、......、20
[0054]具体地，本实用新型实施例中所述的电磁块13是指通电之后能够产生磁性的装置，至于电磁块的形状在本实用新型实施例中不做限定。该电磁块13在接收到控制设备12发送的磁控制指令之后，根据接收到电信号脉冲产生磁性。
[0055]具体地，本实用新型实施例中所记载的机械设备14可以包括第一导轨和第二导轨，其中，所述第二导轨在所述第一导轨上做往复运动。
[0056]图5为本实用新型实施例提供的机械设备的结构示意图。从图5中可以看出，第一导轨51和第二导轨