一种高钢化性能的低辐射镀膜玻璃的制作方法

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一种高钢化性能的低辐射镀膜玻璃的制作方法与工艺

本实用新型属于低辐射镀膜玻璃生产领域,主要提出一种高钢化性能的低辐射镀膜玻璃。



背景技术:

低辐射镀膜玻璃是指在浮法玻璃表面沉积一层金属银作为功能层,对太阳光中的近红外线和生活环境中的远红外线起反射作用,从而降低玻璃对红外线的吸收率和辐射率,所以称之为低辐射镀膜玻璃;此种玻璃既可用于家庭窗户,也可用于商店、写字楼和高档宾馆的玻璃幕墙及其它需要的场所;夏天它可以有效阻止太阳光中的近红外线进入室内,避免室内温度升高,节约空调费用;冬天它可阻止室内暖气等产生的远红外线逸出室外,保持室内温度,节约取暖费用。可钢化低辐射镀膜玻璃是指所镀膜层材料可承受玻璃钢化工艺过程、其性能不发生明显的变化。

通常的可钢化LOW-E膜层都是有附着层(介质层)、牺牲层(隔离层)、银层(功能层)、牺牲层(隔离层)、保护层组成。牺牲层常用的材料是NiCr,在钢化过程中,NiCr先被氧化,从而保证Ag层不被氧化。

可钢化低辐射镀膜玻璃的优点是可极大地释放低辐射镀膜玻璃生产设备的产能,利于异地加工;现在市场上有单银可钢化低辐射镀膜玻璃,也有双银可钢化低辐射镀膜玻璃;所用的牺牲层薄膜材料通常都是纯金属NiCr;由于低辐射镀膜玻璃在钢化过程中要经受750℃的温度下加热350秒以上的热处理过程,NiCr薄膜首先被氧化,从而保护功能层银膜层不被氧化;但是由于单一NiCr薄膜材料性能的限制和薄膜中溅射气体的含量高的原因,会造成玻璃钢化后玻璃的透过率和反射颜色发生较大变化,甚至造成银膜氧化,产生大量次品。



技术实现要素:

为解决上述技术问题,本实用新型目的是提出一种高钢化性能的低辐射镀膜玻璃。

本实用新型为完成上述目的采用如下技术方案;

一种高钢化性能的低辐射镀膜玻璃,所述低辐射镀膜玻璃的玻璃基体上涂覆附着层;所述附着层的外部涂覆有作为功能层的银膜层;所述的银膜层至少为一层;所述银膜层的两侧均涂覆有牺牲层;最外层所述银膜层的外壁面上还设置有保护层;所述的牺牲层为由CrMo薄膜和NiCr薄膜组合而成的CrMo-NiCr膜层;牺牲层在镀膜工艺过程中氩气的溅射压力不高于2×10-3Torr。

所述的附着层为TiO膜层或Si3N4膜层。

所述的保护层为TiO膜层或Si3N4膜层。

本实用新型提出的一种高钢化性能的低辐射镀膜玻璃,在原有镀膜设备硬件和生产工艺不发生变化的条件下,即可实现;溅射压力采用 不高于2×10-3Torr,减少了膜层中的溅射气体原子的含量,从而减少了钢化过程中氩气原子逸出所造成的对膜层性能的影响,使得所生产的产品具有辐射率低、耐磨性好、在钢化加工过程中性能稳定的特点。

附图说明

图1为本实用新型实施例1的结构示意图。

图2为本实用新型实施例2的结构示意图。

图中:1、玻璃基体,2、银膜层,3、牺牲层,4、附着层,5、保护层。

具体实施方式

结合附图和具体实施例对本实用新型加以说明:

如图1所示,一种高钢化性能的低辐射镀膜玻璃,所述低辐射镀膜玻璃的玻璃基体上涂覆附着层4;所述附着层4的外部涂覆有作为功能层的银膜层2;所述的银膜层2至少为一层;该实施例中,所述的银膜层2为一层;所述银膜层2的两侧均涂覆有牺牲层3;最外层所述银膜层2的外壁面上还设置有保护层5;所述的牺牲层3为由CrMo薄膜和NiCr薄膜组合而成的CrMo-NiCr膜层;牺牲层3在镀膜工艺过程中氩气的溅射压力不高于2×10-3Torr。

所述的附着层4为TiO膜层或Si3N4膜层。

所述的保护层为TiO膜层或Si3N4膜层。

在生产可钢化低辐射镀膜玻璃时,在玻璃上沉积七层膜,第一层和第七层为TiO膜层,厚度为20nm和30nm;第二层和第六层为CrMo膜层,厚度为2nm;第三层和第五层为NiCr膜层,厚度为2nm;第四层为银膜层,厚度为10nm。其中NiCr靶和CrMo靶在溅射镀膜时,氩气压力为1.5×10-3Torr.该产品在750℃钢化温度下加热360秒,然后风冷处理,钢化产品指标符合GB15763.2-2005要求,且钢化后玻璃的可见光透过率增加≤1.5﹪,反射色变化小于1.5CIELAB。常规的JEC9750产品经钢化处理后,可见光透过率增加超过2﹪,反射色变化不超过2.5CIELAB。

图2给出本实用新型实施例2的结构示意图,该实施例的主体结构同实施例1,该实施例中,所述的银膜层2为两层;所述的银膜层2与玻璃基体1之间、相邻两层所述的银膜层2之间均设置有牺牲层3和附着层4;最外层所述银膜层2的外壁面上设置有牺牲层3和保护层5;所述的牺牲层3为由CrMo薄膜和NiCr薄膜组合而成的CrMo-NiCr膜层;牺牲层3在镀膜工艺过程中氩气的溅射压力不高于2×10-3Torr。

所述的附着层为TiO膜层或Si3N4膜层。

所述的保护层为TiO膜层或Si3N4膜层。

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