一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷的制作方法

文档序号:14904849发布日期:2018-07-10 21:43阅读:291来源:国知局

本发明属于蒸发舟加工技术领域,具体涉及一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷。



背景技术:

蒸发舟是真空镀膜工艺中使用发热部件,通过蒸发舟发热产生的热量将金属、金属化合物蒸发,再通过沉积技术附着到基材表面形成镀膜,由于需要产生大量的热量,承受超高的温度,因此,蒸发舟是真空镀膜工艺的一个关键易耗部件。

常规的蒸发舟采用的半导电陶瓷存在材料表面不够致密,内部的均匀性较差的缺点,这使得在使用过程中,蒸发舟与在承受快速升高的极高温度时,容易发生炸裂,材料导电性波动较大,产热不够稳定,影响金属溶液的一致性和镀层质量。此外,因为结构的原因,高温性能表现不够稳定,与被镀金属液的润湿性表现也较差。



技术实现要素:

针对以上问题,本发明的目的在于提供一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷,该陶瓷制造的蒸发舟表面结构致密,内部含有气隙,使用时发热均匀,高温性能优良,不易断裂,机械强度高,使用寿命长。

一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷,按照质量份数,包括如下成分:氮化硼80-90份,硼化钛85-100份,氮化铝20-35份,氮化硅15-18份,氧化铝6-9份,氧化镁5-8份,碳酸钙7-13份,银粉0.5-2份,稀土元素添加剂3-6份,羟甲基纤维素钠8-10份,发泡剂4-6份。

优选地,该半导体陶瓷包括如下成分:氮化硼84-86份,硼化钛90-93份,氮化铝28-30份,氮化硅16-17份,氧化铝7-8份,氧化镁6-7份,碳酸钙10-11份,银粉1-1.2份,稀土元素添加剂4-5份,羟甲基纤维素钠8-9份,发泡剂5-6份。

其中,氮化硼、硼化钛、氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化镁和碳酸钙各物料的目数均为400-500目。

本发明的稀土元素添加剂中含有la、ce、y、lu和sc元素中的两种或两种以上。

本发明中的氮化硅经过改性处理,改性处理包括如下步骤:配置四氯化锡和三氯化锑的盐酸溶液,使用盐酸调节溶液的ph值至2-3,然后将氮化硅粉末加入到溶液中形成浆料,在40-45℃的温度下反应50-80min,通过离心洗涤的方式除去上清液和氯离子,再经过微波干燥处理,微波干燥的温度为100-120℃,得到所需的改性后的氮化硅。

进一步优选地,发泡剂选用聚丙酰胺。

该半导电陶瓷的制备方法如下:按照各原料所占质量份数进行配料,将配料送入到混料机中混合均匀,向混料机中羟甲基纤维素钠和发泡剂,并加入占混合料质量0.2-0.3倍的蒸馏水,搅拌均匀得到坯料,将坯料送入到模具中模压成型得到成型体,将成型体送入到密封的热压烧结炉中进行烧结,其中,恒温烧结的温度为2100-2300℃,烧结时间为2-3h。

优选地,模压过程的成型压力为100-120吨。

优选地,烧结炉中温度升高到1500℃之前将烧结炉内抽成真空状态,在温度达到1500℃之后向烧结炉中充入惰性气体,保持烧结炉内的气压为14-18mpa,恒温烧结过程保持该气压。

本发明提供的一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷,与现有技术相比,具有以下优点:

该型半导电陶瓷的主体陶瓷料中先选用了主流的氮化硼、硼化钛和氮化铝材料,通过添加改性后的氮化硅进一步提高材料的耐腐蚀性能,从而避免高温铝液中的物质在蒸镀过程对蒸发舟的腐蚀作用,延长产品的使用寿命。

材料内的稀土元素添加剂的使用可以提高材料的耐热温度,让材料在真空烧结过程,让材料内部结构更加均匀,并且在表面形成致密的结构,让蒸发舟在使用过程中与铝液充分润湿;此外,因为该陶瓷的导电性在温度变化状态下能够保持一致,因此发热较为稳定,降低蒸发舟因为温度剧烈变化而炸裂的故障率。

该型半导电陶瓷材料中加入少量发泡剂,并且在真空和惰性气氛的保护下进行烧结,因此在材料内部可以形成微型气隙,这些气隙可以进行热量传导和缓冲,进一步提高了蒸发舟发热过程的一致性,避免因为没有气隙,热量传导过程无法形成缓冲,温度变化剧烈导致炸裂;也可以避免空气中的气体进入烧结陶瓷内部导致气隙不均匀,影响蒸发舟的稳定发热。

具体实施方式

以下对本发明的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是,此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明,并不用于限制本发明。

实施例1

一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷,按照质量份数,包括如下成分:氮化硼80份,硼化钛85份,氮化铝20份,氮化硅15份,氧化铝6份,氧化镁5份,碳酸钙7份,银粉0.5份,稀土元素添加剂3份,羟甲基纤维素钠8份,发泡剂4份。

其中,氮化硼、硼化钛、氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化镁和碳酸钙各物料的目数均为400目;发泡剂选用聚丙酰胺。

本实施例的稀土元素添加剂中含有la、ce元素。

本实施例中的氮化硅经过改性处理,改性处理包括如下步骤:配置四氯化锡和三氯化锑的盐酸溶液,使用盐酸调节溶液的ph值至2,然后将氮化硅粉末加入到溶液中形成浆料,在40℃的温度下反应50min,通过离心洗涤的方式除去上清液和氯离子,再经过微波干燥处理,微波干燥的温度为100℃,得到所需的改性后的氮化硅。

该半导电陶瓷的制备方法如下:按照各原料所占质量份数进行配料,将配料送入到混料机中混合均匀,向混料机中羟甲基纤维素钠和发泡剂,并加入占混合料质量0.2倍的蒸馏水,搅拌均匀得到坯料,将坯料送入到模具中模压成型得到成型体,将成型体送入到密封的热压烧结炉中进行烧结,其中,恒温烧结的温度为2100℃,烧结时间为2h。

其中,模压过程的成型压力为100吨;烧结炉中温度升高到1500℃之前将烧结炉内抽成真空状态,在温度达到1500℃之后向烧结炉中充入惰性气体,保持烧结炉内的气压为14mpa,恒温烧结过程保持该气压。

实施例2

一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷,按照质量份数,包括如下成分:氮化硼90份,硼化钛100份,氮化铝35份,氮化硅18份,氧化铝9份,氧化镁8份,碳酸钙13份,银粉2份,稀土元素添加剂6份,羟甲基纤维素钠10份,发泡剂6份。

其中,氮化硼、硼化钛、氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化镁和碳酸钙各物料的目数均为500目;发泡剂选用聚丙酰胺。

本实施例的稀土元素添加剂中含有y、lu元素。

本实施例中的氮化硅经过改性处理,改性处理包括如下步骤:配置四氯化锡和三氯化锑的盐酸溶液,使用盐酸调节溶液的ph值至3,然后将氮化硅粉末加入到溶液中形成浆料,在45℃的温度下反应80min,通过离心洗涤的方式除去上清液和氯离子,再经过微波干燥处理,微波干燥的温度为120℃,得到所需的改性后的氮化硅。

该半导电陶瓷的制备方法如下:按照各原料所占质量份数进行配料,将配料送入到混料机中混合均匀,向混料机中羟甲基纤维素钠和发泡剂,并加入占混合料质量0.3倍的蒸馏水,搅拌均匀得到坯料,将坯料送入到模具中模压成型得到成型体,将成型体送入到密封的热压烧结炉中进行烧结,其中,恒温烧结的温度为2300℃,烧结时间为3h。

其中,模压过程的成型压力为120吨;烧结炉中温度升高到1500℃之前将烧结炉内抽成真空状态,在温度达到1500℃之后向烧结炉中充入惰性气体,保持烧结炉内的气压为18mpa,恒温烧结过程保持该气压。

实施例3

一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷,按照质量份数,包括如下成分:氮化硼85份,硼化钛90份,氮化铝30份,氮化硅16份,氧化铝8份,氧化镁7份,碳酸钙10份,银粉1.2份,稀土元素添加剂4份,羟甲基纤维素钠9份,发泡剂5份。

其中,氮化硼、硼化钛、氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化镁和碳酸钙各物料的目数均为450目;发泡剂选用聚丙酰胺。

本实施例的稀土元素添加剂中含有ce、y、sc元素。

本实施例中的氮化硅经过改性处理,改性处理包括如下步骤:配置四氯化锡和三氯化锑的盐酸溶液,使用盐酸调节溶液的ph值至2.5,然后将氮化硅粉末加入到溶液中形成浆料,在43℃的温度下反应65min,通过离心洗涤的方式除去上清液和氯离子,再经过微波干燥处理,微波干燥的温度为110℃,得到所需的改性后的氮化硅。

该半导电陶瓷的制备方法如下:按照各原料所占质量份数进行配料,将配料送入到混料机中混合均匀,向混料机中羟甲基纤维素钠和发泡剂,并加入占混合料质量0.25倍的蒸馏水,搅拌均匀得到坯料,将坯料送入到模具中模压成型得到成型体,将成型体送入到密封的热压烧结炉中进行烧结,其中,恒温烧结的温度为2200℃,烧结时间为2.5h。

其中,模压过程的成型压力为110吨;烧结炉中温度升高到1500℃之前将烧结炉内抽成真空状态,在温度达到1500℃之后向烧结炉中充入惰性气体,保持烧结炉内的气压为16mpa,恒温烧结过程保持该气压。

实施例4

一种新型高效蒸发舟用半导电陶瓷,按照质量份数,包括如下成分:氮化硼80份,硼化钛100份,氮化铝35份,氮化硅16份,氧化铝7份,氧化镁8份,碳酸钙7份,银粉0.8份,稀土元素添加剂5份,羟甲基纤维素钠10份,发泡剂4份。

其中,氮化硼、硼化钛、氮化铝、氮化硅、氧化铝、氧化镁和碳酸钙各物料的目数均为400目;发泡剂选用聚丙酰胺。

本实施例的稀土元素添加剂中含有la、y、sc元素。

本实施例中的氮化硅经过改性处理,改性处理包括如下步骤:配置四氯化锡和三氯化锑的盐酸溶液,使用盐酸调节溶液的ph值至3,然后将氮化硅粉末加入到溶液中形成浆料,在45℃的温度下反应70min,通过离心洗涤的方式除去上清液和氯离子,再经过微波干燥处理,微波干燥的温度为120℃,得到所需的改性后的氮化硅。

该半导电陶瓷的制备方法如下:按照各原料所占质量份数进行配料,将配料送入到混料机中混合均匀,向混料机中羟甲基纤维素钠和发泡剂,并加入占混合料质量0.3倍的蒸馏水,搅拌均匀得到坯料,将坯料送入到模具中模压成型得到成型体,将成型体送入到密封的热压烧结炉中进行烧结,其中,恒温烧结的温度为2100℃,烧结时间为2.5h。

其中,模压过程的成型压力为110吨;烧结炉中温度升高到1500℃之前将烧结炉内抽成真空状态,在温度达到1500℃之后向烧结炉中充入惰性气体,保持烧结炉内的气压为18mpa,恒温烧结过程保持该气压。

性能测试

经过实验测试,本实施例的半导电陶瓷制造的蒸发舟发热效率提高了5-9%,使用寿命提高了10-15%。

以上对本发明的具体实施例进行了描述。需要理解的是,本发明并不局限于上述特定实施方式,本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改,这并不影响本发明的实质内容。

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