本发明涉及一种玻璃板，特别是一种无干涉闪点防眩光玻璃；本发明还涉及一种玻璃蒙砂蚀刻液的配备方法；本发明还涉及一种无干涉闪点防眩光玻璃的生产工艺。
背景技术：
为了防止外部侧向光源对电子产品的屏幕造成反射强光干扰，影响用户的视觉辨别，现有的电子产品的一般在屏幕上设有防眩光盖板，以降低外部反射光线的强度。目前，业界内进行防眩光处理的方式有两种：一种是，在玻璃的表面喷涂抗眩光膜，抗眩光膜为树脂材料制成，耐磨性不佳，致使其存在使用寿命短的缺点；另一种是，对玻璃的表面进行化学蚀刻，致使玻璃表面的粗糙度上升，使玻璃对外部光线产生反射光泽度下降，但随着光泽度的下降，对屏幕显像的清晰度也下降，甚至出现了干涉闪点，大大影响了显示的效果。随着电子产品上的显示屏的清晰度越来越高，致使搭配的防眩光玻璃作为盖板使用时，在玻璃盖板上出现的干涉闪点也越来越明显。现有的厂家解决在玻璃上出现干涉闪点问题的主要方式是将防眩光玻璃的光泽度提高；在实施时，将正常情况下防眩光玻璃60°角的光泽度在40～85sgu提升至100～120sgu，这样的方式虽然解决了出现干涉闪点的问题，但随着光泽度的提高，严重的影响了玻璃的防眩光效果，使玻璃失去防眩光的功能。因此，亟需设计出一种既能保持现有防眩光玻璃的光泽度，又能解决干涉闪点问题的玻璃产品。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种无干涉闪点防眩光玻璃，该无干涉闪点防眩光玻璃具有结构简单、耐磨性能佳，使用寿命长及不仅能保持现有的防眩光玻璃的光泽度，还在应用时无干涉闪点出现等优点；本发明还提供一种玻璃蒙砂蚀刻液的配备方法，能实现在蒙砂蚀刻时减少了酸雾的挥发，避免造成蚀刻车间环境的污染；本发明还提供无干涉闪点防眩光玻璃的生产工艺。
本发明的技术方案是这样实现的：一种无干涉闪点防眩光玻璃，其特点在于包括玻璃基板，所述玻璃基板具有入光面，该玻璃基板上与入光面相对的另一侧面为出光面，该玻璃基板的出光面是通过蚀刻处理而形成具有凹凸结构的粗糙面，该出光面的表面粗糙度定义如下：ra在0.06～0.18μm的范围内，rsm在15～40μm的范围内，rz在0.65～1.5μm的范围内；所述出光面的60°角的光泽度在45～85sgu的范围内。
所述ra优选在0.08～0.14μm的范围内。
进一步地，所述玻璃基板的透过率在83～94％的范围内。
再进一步地，所述玻璃基板的雾度在5～19％的范围内。
又再进一步地，所述玻璃基板的清晰度在85～98％的范围内。
本无干涉闪点防眩光玻璃的有益效果：本无干涉闪点防眩光玻璃是通过化学蚀刻处理得到防眩光功能的，与玻璃基板一体的凹凸结构耐磨性能佳，使玻璃产品具有使用寿命长的优点；另外，本玻璃产品通过蚀刻形成的出光面的粗糙度定义如下：ra在0.06～0.18μm的范围内，rsm在15～40μm的范围内，rz在0.65～1.5μm的范围内的，使本玻璃产品不仅能保持现有的防眩光玻璃在45～85sgu的光泽度，还在应用时无干涉闪点出现。
本发明还提供一种玻璃蒙砂蚀刻液的配备方法，其特点在于该蒙砂蚀刻液的配备步骤如下：
步骤一：先将重量份为氟化氢铵8～13份、氟化钙2～3份、氯化钾3～6份与水6～9份搅拌融合，再加入氟化钾3～5份溶液，并搅拌熟化4～12h；
步骤二：将步骤一中所得到熟化好的蒙砂蚀刻液倒入水平式喷淋设配的药水槽箱中，利用耐酸泵进行循环过滤，使蒙砂蚀刻液充分反应，之后搅拌30～45min；
步骤三：过滤；将步骤二得到的蒙砂蚀刻液用丝网布在槽箱内隔栏过滤，将饱和晶体隔离在耐酸泵的抽离区外，从而得到了ph值在5～6之间的蒙砂蚀刻液成品。
本玻璃蒙砂蚀刻液的配备方法是不需要直接添加氢氟酸的。
本蒙砂蚀刻液的配备方法的有益效果：本蒙砂蚀刻液不需要加入强酸类作为介质，不需要添加如：盐酸、硫酸、柠檬酸、氨基磺酸等中的任何一种。避免在强酸的作用下蚀刻速率过快产生蚀刻不均匀，蚀刻深度大，这样大大减少后续化学抛光的时间；另外，在蒙砂生产过程中还能减少了酸雾的挥发，避免造成蚀刻车间环境的污染。
本发明还提供一种无干涉闪点防眩光玻璃的生产工艺，其特点在于该生产工艺的步骤如下：
步骤一：对玻璃基板不需进行蚀刻的表面进行保护：在玻璃基板不需进行蚀刻的表面上铺设一层耐酸膜或涂覆上耐酸油墨作为保护层；
步骤二：清洗待蚀刻面；用3％的氢氟酸溶液对待蚀刻面进行擦洗，擦洗过后用纯净水冲洗干净，备用；
步骤三：将清洗后的玻璃基板放入到蒙砂设备中，并放入前述的蒙砂蚀刻液进行浸泡，浸泡60～90s后取出，并用清水对蚀刻面进行清洗；
步骤四：去除蚀刻面的氧化膜；将步骤三得到的玻璃基板放入到5％的盐酸溶液浸泡10～25min；
步骤五：将步骤四得到的玻璃基板在洗片机进行清水烘干，得到均匀度高、蚀刻深度浅、蚀刻颗粒非常小、砂面浅薄均匀的蚀刻面；
步骤六：抛光；将步骤五所得到玻璃基板用稀释后10％～20％的氢氟酸进行浸泡，浸泡时间为5～8min，得到玻璃基板成品；所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度定义如下：ra在0.06～0.18μm的范围内，rsm在15～40μm的范围内，rz在0.65～1.5μm的范围内；该玻璃基板的蚀刻面的60°角的光泽度在45～85sgu的范围内。
所述步骤四优选用3％的氢氟酸对玻璃基板的蚀刻面进行擦洗，将蚀刻面的氧化膜剥离玻璃基板表面。
所述步骤六的抛光步骤是优选用稀释后10％～20％的氢氟酸进行喷淋抛光，喷淋时间为5～8min。
本无干涉闪点防眩光玻璃的生产工艺的有益效果：本生产工艺在玻璃蒙砂后化学抛光时间短，而且抛光蚀刻减薄量非常少就能达到解析度高，得到光泽度可控在40sgu—85sgu的无干涉闪点防眩光玻璃。
附图说明
图1为实施例1的结构示意图。
图2为实施例1的出光面局部平面结构示意图。
图3为实施例1的出光面局部的三维结构示意图。
附图标记说明：1-玻璃基板；11-入光面；12-出光面。
具体实施方式
实施例1
如图1、图2、图3所示，本实施例所述一种无干涉闪点防眩光玻璃，包括玻璃基板1，所述玻璃基板1具有入光面11，在应用时入光面11是靠近显示屏的那一面，该玻璃基板1上与入光面11相对的另一侧面为出光面12，该玻璃基板1的出光面12是通过蚀刻处理而形成具有凹凸结构的粗糙面，该出光面12的表面粗糙度定义如下：ra在0.06～0.18μm的范围内，rsm在15～40μm的范围内，rz在0.65～1.5μm的范围内；所述出光面12的60°角的光泽度在45～85sgu的范围内。所述玻璃基板1的透过率在83～94％的范围内。所述玻璃基板1的雾度在5～19％的范围内。所述玻璃基板1的清晰度在85～98％的范围内。本实施例的玻璃产品是通过化学蚀刻处理得到防眩光功能的，与玻璃基板1一体的凹凸结构耐磨性能佳，使玻璃产品具有使用寿命长的优点；另外，本玻璃产品不仅能保持现有的防眩光玻璃在45～85sgu的光泽度，还在应用时无干涉闪点出现。
在这里需要说明的是：玻璃板的蚀刻表面通常的特征在于其表面纹理或粗糙度，并且特别地在于在标准iso4287-1997中定义的ra、rz和rsm值(单位为微米)。纹理/粗糙度是表面不规则物/图案存在的结果。这些不规则物由称为“峰”的凸起和称为“谷”的凹陷组成。在垂直于蚀刻表面的部分上，这些峰和谷分布在也称为“等分线”的“中心线”(代数平均)的任一侧。在轮廓中并且对于沿固定长度(称为“评价长度”)的测量：
-ra(幅值)对应于纹理的平均差值，即，指这些峰与谷之间的差值的绝对值的算术平均值。ra测量了该平均值与该“线”之间的距离并且给出了蚀刻表面上的图案的高度的指示；
-rz(幅值)对应于“十点平均粗糙度”，并且是5个最高峰之间的平均峰和5个最低谷之间的平均谷的总和。
-rsm(间距值)是通过“等分线”的该轮廓的两个连续通道之间的平均距离；并且这给出了在这些“峰”之间的平均距离以及因此图案的宽度的平均值。
本实施例中的光学特征定义如下：
-光泽，表征，例如，表面的亮度或光亮，并且更具体地对应于相对于根据astm标准d523处于特定角度的标准物(如，例如，经认证的黑色玻璃标准物)的表面的镜面反射率，并且它用sgu(标准光泽单位)表示。
-穿透率，是表示光线透过介质的的能力，是透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率。
-漫射光透射率，通过(i)该“雾度”和(ii)该“清晰度”测量的：“雾度”对应于在广角散射下的漫透射率，而“清晰度”对应于在窄角散射下的漫透射率。
本实施例中的出光面12的表面粗糙度测量是使用3d光学轮廓仪keyence类型vr-3000，在10毫米的评价长度并且用截止波长为0.08毫米的高斯滤波器进行。
目前判断防眩光玻璃上是否有干涉闪点出现方法是：通过人的直接观察进行辨别，在辨别时先将电子产品的屏幕设置全屏为绿色，再将玻璃贴近屏幕，人的眼睛与屏幕靠近屏幕，与屏幕的距离为30～40cm，这样来观察防眩光玻璃是否出现干涉闪点。
本发明以下通过对9块玻璃基板的出光面进行测量，同样使用3d光学轮廓仪keyence类型vr-3000，在10毫米的评价长度并且用截止波长为0.08毫米的高斯滤波器进行测量，它们分别是实施例2至实施例10,各实施例的光学特性及粗糙度的具体测量值在下表中给出：
实施例11：
本实施例提供一种玻璃蒙砂蚀刻液的配备方法，该蒙砂蚀刻液的配备步骤如下：
步骤一：先将重量份为氟化氢铵8份、氟化钙2份、氯化钾3份与水6份搅拌融合，再加入氟化钾3份溶液，并搅拌熟化4h；
步骤二：将步骤一中所得到熟化好的蒙砂蚀刻液倒入水平式喷淋设配的药水槽箱中，利用耐酸泵进行循环过滤，使蒙砂蚀刻液充分反应，之后搅拌38min；
步骤三：过滤；将步骤二得到的蒙砂蚀刻液用80目丝网布在槽箱内隔栏过滤，将饱和晶体隔离在耐酸泵的抽离区外，从而得到了ph值为5.5的蒙砂蚀刻液成品。
本蒙砂蚀刻液不需要加入强酸类作为介质，不需要直接添加氢氟酸，不需要添加如：盐酸、硫酸、柠檬酸、氨基磺酸等中的任何一种。避免在强酸的作用下蚀刻速率过快产生蚀刻不均匀，蚀刻深度大，这样大大减少后续化学抛光的时间；另外，在蒙砂生产过程中还能减少了酸雾的挥发，避免造成蚀刻车间环境的污染。
采用本实施例的蒙砂蚀刻液所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例2所示的。
实施例12：
本实施例与实施例11的不同之处在于：本实施例的步骤二中是将重量份氟化氢铵9份、氟化钠3份、氟化钙2份、氯化钾4份与水6.5份搅拌融合，再加入氟化钾4份溶液，并搅拌熟化5h的。
采用本实施例的蒙砂蚀刻液所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例3所示的。
实施例13：
本实施例与实施例11的不同之处在于：本实施例的步骤二中是将重量份氟化氢铵10份、氟化钙2.5份、氟化铵4份、氯化钾4份与水7.5份搅拌融合，再加入氟化钾4份溶液，并搅拌熟化8h的。
采用本实施例的蒙砂蚀刻液所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例4所示的。
实施例14：
本实施例与实施例11的不同之处在于：本实施例的步骤二中是将重量份氟化氢铵13份、氟化钠6份、氟化钙3份、氯化钾6份与水9份搅拌融合，再加入氟化钾5份溶液，并搅拌熟化12h的。
采用本实施例的蒙砂蚀刻液所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例5所示的。
实施例15：
本实施例与实施例11的不同之处在于：本实施例的步骤二中是将重量份氟化氢铵10份、氟化钙2.5份、氟化铵4份、氯化钾4份、腻子粉2份与水9份搅拌融合，再加入氟化钾5份溶液，并搅拌熟化9h的。
采用本实施例的蒙砂蚀刻液所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例6所示的。
实施例16：
本实施例与实施例11的不同之处在于：本实施例的步骤二中是将重量份氟化氢铵9份、氟化钠3份、氟化钙2份、氯化钾4份、腻子粉1份与水6.5份搅拌融合，再加入氟化钾4份溶液，并搅拌熟化6h的。
采用本实施例的蒙砂蚀刻液所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例7所示的。
实施例17：
本实施例与实施例11的不同之处在于：本实施例的步骤二中是将重量份氟化氢铵13份、氟化钠6份、氟化钙3份、氯化钾6份、腻子粉2份与水9份搅拌融合，再加入氟化钾5份溶液，并搅拌熟化12h的。
采用本实施例的蒙砂蚀刻液所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例8所示的。
实施例18：
本实施例所述一种无干涉闪点防眩光玻璃的生产工艺，该生产工艺的步骤如下：
步骤一：对玻璃基板不需进行蚀刻的表面进行保护：在玻璃基板不需进行蚀刻的表面上铺设一层耐酸膜或涂覆上耐酸油墨作为保护层；
步骤二：清洗待蚀刻面；用3％的氢氟酸溶液对待蚀刻面进行擦洗，擦洗过后用纯净水冲洗干净，备用；
步骤三：将清洗后的玻璃基板放入到蒙砂设备中，并放入实施例11所述的蒙砂蚀刻液进行浸泡，浸泡75s后取出，并用清水对蚀刻面进行清洗；
步骤四：去除蚀刻面的氧化膜；将步骤三得到的玻璃基板放入到5％的盐酸溶液浸泡18min；
步骤五：将步骤四得到的玻璃基板在洗片机进行清水烘干，得到均匀度高、蚀刻深度浅、蚀刻颗粒非常小、砂面浅薄均匀的蚀刻面；
步骤六：抛光；将步骤五所得到玻璃基板用稀释后15％的氢氟酸进行浸泡，浸泡时间为6.5min，得到玻璃基板成品，所蚀刻出的玻璃蚀刻面的粗糙度参数及光学特性是实施例2所示的。
实施例19：
本实施例与实施例18的不同之处在于：本实施例中的步骤四为用3％的氢氟酸对玻璃基板的蚀刻面进行擦洗，将蚀刻面的氧化膜剥离玻璃基板表面。
实施例20：
本实施例与实施例18的不同之处在于：本实施例中的步骤六的抛光步骤是用稀释后10％～20％的氢氟酸进行喷淋抛光，喷淋时间为6min。
实施例21：
本实施例与实施例18的不同之处在于：本实施例的步骤三是用3％的氢氟酸对蚀刻面进行擦洗而实现对蚀刻面进行氧化膜的去除的。