蚀刻装置及清洗设备的制作方法

本发明涉及玻璃基板加工领域，具体而言，涉及一种蚀刻装置及清洗设备。

背景技术：

在液晶玻璃基板的玻璃基板的生产过程中，玻璃背面不可避免的会与传送带、滚轮等接触，而玻璃为绝缘体，因此在接触、摩擦过程中容易产生静电问题。玻璃基板上累积静电，可能导致以下问题：(1)吸附空气中的颗粒，基板被污染，由于表面颗粒的原因，在后工序发生异常；(2)静电释放时，在电路流动过程中怕破坏半导体；(3)静电释放时的磁场，产生感应电流，电流向电路流动，破坏半导体。总而言之，玻璃基板上的静电会严重影响液晶玻璃基板的生产。

技术实现要素：

本发明的目的包括提供一种蚀刻装置及清洗设备，其能够有效减少玻璃基板在接触和摩擦时产生的静电，保证液晶显示器的正常生产。

本发明的实施例是这样实现的：

一种蚀刻装置，其包括：

机架；

供液机构，所述供液机构包括用于提供蚀刻液的蚀刻液源；

涂覆机构，所述涂覆机构包括动力源和多个海绵辊，所述动力源固定设置于所述机架上，多个所述海绵辊均可转动地安装于所述机架且与所述动力源传动连接，所述海绵辊用于在输送玻璃基板的同时，吸收所述蚀刻液并将所述蚀刻液涂覆于所述玻璃基板上；

控制机构，所述控制机构同时与所述蚀刻液源和所述动力源电连接，用于控制所述蚀刻液源和所述动力源的启停。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述供液机构还包括设置于所述机架上的蚀刻液槽，所述蚀刻液槽通过输送管道与所述蚀刻液源连通，所述海绵辊的至少一部分位于所述蚀刻液槽内。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，一个所述海绵辊对应设置有一个阻水辊，所述阻水辊固定安装于所述机架且与相应的所述海绵辊接触。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述海绵辊和所述阻水辊之间的接触为线接触。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，沿所述玻璃基板的输送方向，所述阻水辊位于所述海绵辊的下游。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，一个所述阻水辊对应设置有一个限位件，所述限位件固定于相应的所述阻水辊远离相应的所述海绵辊的一侧中部。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述动力源包括与所述海绵辊传动连接的电机，所述电机与所述控制机构电连接。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述涂覆装置包括用于检测所述海绵辊上是否存在所述玻璃基板的光电传感器，所述光电传感器与所述控制机构电连接。

进一步地，在本发明较佳的实施例中，所述蚀刻装置还包括配液机构，所述配液机构与所述供液机构连通，用于调节所述供液机构提供的蚀刻液的浓度，所述配液机构设置有供水管道。

一种清洗设备，其包括清洗装置和上述的蚀刻装置，所述清洗装置用于对玻璃基板进行清洗，所述蚀刻装置用于对清洗后的玻璃基板进行蚀刻，以增大玻璃基板背面的粗糙度。

本发明实施例的有益效果包括：

本蚀刻装置包括机架、供液机构、涂覆机构及控制机构，供液机构包括用于提供蚀刻液的蚀刻液源，涂覆机构包括动力源和多个海绵辊，动力源固定设置于机架上，多个海绵辊均可转动地安装于机架且与动力源传动连接，海绵辊用于在输送玻璃基板的同时，吸收蚀刻液并将蚀刻液涂覆于玻璃基板上，控制机构同时与蚀刻液源和动力源电连接，用于控制蚀刻液源和动力源的启停。本蚀刻装置能够对预清洗后的玻璃基板的背面进行蚀刻处理，从而增大玻璃基板的表面粗糙度，以有效减少玻璃基板在接触和摩擦时产生的静电，保证液晶玻璃基板的正常生产，有效弥补了现有的玻璃基板加工的缺陷。

本清洗设备在现有技术的基础上增设上述的蚀刻装置，能够对清洗后的玻璃进行蚀刻处理，从而增大玻璃基板的表面粗糙度，减少玻璃基板上积累的静电，保证整个液晶玻璃基板的正常生产，弥补现有的清洗设备的缺陷。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本发明实施例提供的蚀刻装置的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的海绵辊和阻水辊的安装示意图。

图标：100－蚀刻装置；110－机架；112－海绵辊；114－阻水辊；116－限位件；120－供液机构；130－配液机构；140－玻璃基板。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本发明实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。

因此，以下对在附图中提供的本发明的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本发明的范围，而是仅仅表示本发明的选定实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。

在本发明的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该发明产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

此外，术语“水平”、“竖直”等术语并不表示要求部件绝对水平或悬垂，而是可以稍微倾斜。如“水平”仅仅是指其方向相对“竖直”而言更加水平，并不是表示该结构一定要完全水平，而是可以稍微倾斜。

在本发明的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。

请参照图1和图2，本实施例提供了一种蚀刻装置100，其用于对液晶显示器的玻璃基板140进行蚀刻处理。蚀刻装置100包括机架110、供液机构120、涂覆机构及控制机构，供液机构120包括用于提供蚀刻液的蚀刻液源，涂覆机构包括动力源和多个海绵辊112，动力源固定设置于机架110上，多个海绵辊112均可转动地安装于机架110且与动力源传动连接，海绵辊112用于在输送玻璃基板140的同时，吸收蚀刻液并将蚀刻液涂覆于玻璃基板140上，控制机构与蚀刻液源和动力源电连接，用于控制蚀刻液源和动力源的启停。

其中，供液机构120除了包括蚀刻液源，还包括设置于机架110上且位于海绵辊112下方的蚀刻液槽，蚀刻液槽通过输送管道与蚀刻液源连通。详细地，蚀刻液源包括用于存储蚀刻液的储液腔和与储液腔连通的输送泵，输送泵与输送管道连通，以便将储液腔中的蚀刻液通过输送管道输送至蚀刻液槽后。输送管道上设置有电磁阀，电磁阀与控制机构电连接，以便控制输送管道的通断。

蚀刻装置100还包括与控制机构电连接的配液机构130，配液机构130的入口与供液机构120连通，出口与蚀刻液槽连通，用于调节供液机构120提供的蚀刻液的浓度后，再输送至蚀刻液槽，以便提供给海绵辊112吸收。配液机构130设置有供水管道，以便与外部水源连通进水，从而稀释蚀刻液。配液机构130的设置使得用户可以根据不同粗糙度的需求，调节蚀刻液体浓度，从而调整蚀刻装置100对玻璃基板140的蚀刻程度，达成减少甚至防止玻璃基板140静电的目的。

多个海绵辊112沿玻璃基板140的输送方向间隔设置。每个海绵辊112的至少一部分位于蚀刻液槽内，以便吸收蚀刻液槽内的蚀刻液。一个海绵辊112对应设置有一个阻水辊114，阻水辊114固定安装于机架110且与相应的海绵辊112接触。沿玻璃基板140的输送方向，阻水辊114位于海绵辊112的下游。这样，在海绵辊112输送玻璃基板140的过程中，阻水辊114能够挤压海绵辊112，使得海绵辊112中的蚀刻液溢出并涂覆于玻璃基板140的背面，以便对玻璃基板140进行蚀刻。

同时，海绵辊112和阻水辊114之间的接触为线接触，以增大阻水辊114与海绵辊112的接触面积，使得海绵辊112的多个部位都能受到阻水辊114的挤压，从而使得海绵辊112能够将蚀刻液均匀地涂覆于玻璃基板140的背面，保证玻璃基板140的背面蚀刻的均匀性。

进一步地，一个阻水辊114对应设置有一个限位件116，限位件116抵住相应的阻水辊114远离相应的海绵辊112的一侧中部(即沿玻璃基板140的输送方向，限位件116位于相应的阻水辊114的下游)。限位件116可以根据需要采用不同的形状，本实施例中，限位件116为限位块，其它实施例中，限位件116也可以为限位板、限位柱等。限位件116的设置可以有效防止阻水管的中间部位变形，保证阻水辊114对海绵辊112的挤压效果，从而保证海绵辊112对玻璃基板140的均匀涂覆。

动力源可以根据需要采用不同的结构，本实施例中，动力源包括与海绵辊112传动连接的电机，电机与控制机构电连接，以便能在控制机构的控制下驱动海绵辊112转动。

涂覆装置还包括用于检测海绵辊112上是否存在玻璃基板140的光电传感器，光电传感器与控制机构电连接。当光电传感器检测到海绵辊112上存在玻璃基板140时，控制机构就会控制电机驱动海绵辊112转动，以便输送和涂覆玻璃基板140。当光电传感器检测到海绵辊112上不存在玻璃基板140时，控制机构就会控制电机停止驱动海绵辊112，以避免海绵辊112空转，节省不必要的磨损和能耗。当然，需要说明的是，其它实施例中，上述光电传感器也可以采用其它传感器，比如机械传感器等能够检测海绵辊112上是否存在玻璃基板140的检测组件。

本蚀刻装置100的工作原理和过程具体如下：

在玻璃基板140进入蚀刻装置100之前，控制机构控制供液机构120向配液机构130输送蚀刻液，并控制配液机构130进水，以将蚀刻液浓度调节至合适的范围，之后控制配液机构130将配置好的蚀刻液输送至蚀刻液槽内。当光电传感器检测到有玻璃基板140到达海绵辊112上时，会向控制机构发送第一电信号，控制机构接收到第一电信号后就会控制电机运转，从而驱动多个海绵辊112转动，以输送玻璃基板140。在输送的过程中，每个海绵辊112都会吸收蚀刻液槽内的蚀刻液，并在相应的阻水辊114的挤压下，将蚀刻液均匀地涂覆于玻璃基板140的背面，以实现对玻璃基板140的蚀刻。当光电传感器检测到玻璃基板140离开海绵辊112时，会向控制机构发送第二电信号，控制机构在接收到第二电信号后就会控制电机停转，多个海绵辊112不再转动。

本蚀刻装置100包括机架110、供液机构120、涂覆机构及控制机构，供液机构120包括用于提供蚀刻液的蚀刻液源；涂覆机构包括动力源和多个海绵辊112，动力源固定设置于机架110上，多个海绵辊112均可转动地安装于机架110且与动力源传动连接，海绵辊112用于在输送玻璃基板140的同时，吸收蚀刻液并将蚀刻液涂覆于玻璃基板140上；控制机构与供液机构120和动力源电连接，用于控制蚀刻液源和动力源的启停。本蚀刻装置100能够对预清洗后的玻璃基板140的背面进行蚀刻处理，从而增大玻璃基板140的表面粗糙度，以有效减少玻璃基板140在接触和摩擦时产生的静电，保证液晶玻璃基板的正常生产。

本实施例还提供了一种清洗设备，其包括清洗装置和上述的蚀刻装置100，清洗装置用于对玻璃基板140进行清洗，蚀刻装置100用于对清洗后的玻璃基板140进行蚀刻，以增大玻璃基板140背面的粗糙度。本清洗设备在现有技术的基础上增设上述的蚀刻装置100，能够对清洗后的玻璃进行蚀刻处理，从而增大玻璃基板140的表面粗糙度，减少玻璃基板140上积累的静电，保证整个液晶玻璃基板的正常生产，弥补现有的清洗设备的缺陷。

以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。