一种环形双炉腔加工的玻璃热弯炉的制作方法

本实用新型涉及玻璃热弯炉设备，更具体地，涉及一种环形双炉腔加工的玻璃热弯炉。

背景技术：

玻璃热弯炉基本上分为间歇式热弯炉和连续热弯炉，间歇式热弯炉可以加工大型玻璃，但是它只有单个加热室，加工效率太低，而连续热弯炉虽然设置有多个加热室，但是其结构决定了连续热弯炉的长度较大，占用工厂内空间，且其加工的玻璃尺寸受限；因此目前两种热弯炉都只能适应部分生产环境。

技术实现要素：

为了解决上述问题，本实用新型在环形腔体内设置两个或以上的炉腔，且对向设置两个热弯区和两个退火区，通过旋转炉腔切换工作区域，实现多批次热弯加工。

本实用新型解决其问题所采用的技术方案是：

一种环形双炉腔加工的玻璃热弯炉，包括两个炉腔、用于容纳所述炉腔的环形腔体和用于切换所述炉腔所处工作区域的旋转机构，所述环形腔体内划分有位置不重合的热弯区和退火区，所述旋转机构设置于所述环形腔体的中央，所述旋转机构连接所述炉腔使其在所述环形腔体内转动。

进一步，所述环形腔体内包括对向设置的两个热弯曲和对向设置的两个退火区，所述热弯区和退火区以所述环形腔体的圆心为中心呈十字型设置。

进一步，两个所述炉腔沿所述环形腔体的直径相向设置。

进一步，两个所述炉腔之间通过固定件连接。

进一步，所述旋转机构包括一字支架和驱动电机，所述一字支架的中心与所述驱动电机转轴连接，所述一字支架的顶端设置有永磁铁，所述永磁铁贴近所述环形腔体的内环的外壁。

进一步，所述炉腔还包括贴近所述环形腔体的内环的内壁设置的电磁线圈和设置于底部的滑轮，所述电磁线圈在所述永磁铁的驱动下带动所述炉腔在所述环形腔体内运动。

进一步，所述退火区包括用于下料的推拉门，所述推拉门设置于所述环形腔体的外环的外壁。

进一步，还包括用于控制所述炉腔内温度的控制系统，所述控制系统包括微处理器、电流控制模块和温度检测模块，所述电流控制模块和温度检测模块与所述微处理器电连接。

进一步，还包括用于设定加热时间和控制工位移动的控制面板，所述控制面板与所述微处理器电连接。

本实用新型的有益效果是：本实用新型在环形腔体内设置两个炉腔，可以同时热弯两批次的玻璃，且互不干扰，热弯加工完成后通过旋转机构将炉腔转到退火区下料，且环形结构可以节省工厂内空间，炉腔也可以根据需要设置大小，适应多种玻璃尺寸，具有良好的兼容性。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明。

图1是本实用新型实施例的整体结构示意图；

图2是本实用新型实施例的模块连接关系示意图。

具体实施方式

参照图1和图2，一种环形双炉腔加工的玻璃热弯炉，包括两个炉腔1、用于容纳所述炉腔1的环形腔体2和用于切换所述炉腔1所处工作区域的旋转机构3，所述环形腔体2内划分有位置不重合的两个热弯区21和两个退火区22，所述热弯区21和退火区22以所述环形腔体2的圆心为中心呈十字型设置，两个所述炉腔1沿所述环形腔体2的直径相向设置且两者之间通过硬质铁件(相当于固定件11)固定连接，所述炉腔1还包括贴近所述环形腔体2的内环的内壁设置的电磁线圈12和设置于底部的滑轮(图中未标示)，所述旋转机构3设置于所述环形腔体2的中央，所述旋转机构3包括一字支架31和驱动电机32，所述一字支架31的中心与所述驱动电机32转轴连接，所述一字支架31的顶端设置有永磁铁311，所述永磁铁311贴近所述环形腔体2的内环的外壁，所述电磁线圈12在所述永磁铁311的驱动下带动所述炉腔1在所述环形腔体2内运动。

通过控制电磁线圈12中的电流方向，使其与永磁铁311相吸或排斥，所述驱动电机32转动一字支架31，使永磁铁311沿所述环形腔体2的内环的外壁转动，所述电磁线圈12受力，从而驱动所述炉腔1在所述环形腔体2内滑动，实现所述炉腔1在热弯区21和退火区22之间切换。

所述退火区22包括用于下料的推拉门23，所述推拉门23设置于所述环形腔体2的外环的外壁。

还包括用于控制所述炉腔1内温度的控制系统和用于设定加热时间和控制工位移动的控制面板，所述控制系统包括微处理器、电流控制模块和温度检测模块，所述控制面板、所述电流控制模块和温度检测模块分别与所述微处理器电连接。本实施例中电流控制模块为实现电流控制的可控硅整流器，温度检测模块为设置于炉腔1内的内温表。操作人员在所述控制面板上控制电流大小和设定工作时间，可以实时获取当前炉腔1的工作温度，并且手动控制旋转机构3移动。

本实用新型通过旋转机构3转动在环形腔体2内的炉腔1，实现工作区域的切换，同时环形腔体2相比传统的连续热弯炉，能够节省工厂空间。根据实际需要，本实用新型可以作出一些配件的替换，如替换炉腔1的大小以适应加工玻璃的尺寸，如在环形腔体2内对向设置保温区，如可以再增设两个炉腔1等，具有良好的兼容性，适应多种热弯要求。

以上所述，只是本实用新型的较佳实施例而已，本实用新型并不局限于上述实施方式，只要其以相同的手段达到本实用新型的技术效果，都应属于本实用新型的保护范围。