一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置的制作方法

本实用新型涉及单晶硅直拉技术领域，尤其涉及一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置。

背景技术：

在直拉单晶硅生产工艺中，需要向直拉单晶硅炉中通入氩气进行冷却,并带走拉单晶过程中产生的废气。目前，直拉单晶硅炉大多采用炉底开放式直孔排气方式，这种排气方式具有简便、高效的优点。但是，由于炉底开放式直孔排气时，带走大量的热能，造成热量损失过大；而且，在直拉单晶硅炉排气口的位置，会有大量杂质凝结，时间长了会堵塞排气口，严重影响拉晶的速度和质量。

技术实现要素：

有鉴于此，本实用新型提供一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置，主要目的在于减少直拉单晶硅炉在排气时的热量损耗。

为达到上述目的，本实用新型主要提供如下技术方案：

本实用新型的实施例提供一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置，包括:本体、连接部和引流部；

所述本体为圆柱管状；

所述本体的侧壁上设置有排气通孔；

所述连接部固定地设置在所述本体的一端，用于与单晶硅炉的排气口连接；

所述引流部固定地设置在所述本体的另一端，用于阻挡所述排气口喷出的气流，将气流进行引导，以通过所述排气通孔排出。

进一步地，所述排气通孔为槽孔；

所述槽孔为多个；多个所述槽孔沿所述本体的圆周方向分布。

进一步地，所述本体、连接部和引流部为一体设置；

所述本体、连接部和引流部均为石墨材质。

进一步地，所述排气通孔为圆孔。

进一步地，所述圆孔为多个；多个所述圆孔沿所述本体的圆周方向间隔设置。

进一步地，所述引流部上设置有球面的凹部；所述凹部上设置有向外延伸的导流凹槽；所述导流凹槽沿圆周方向间隔地分布在所述凹部上，用于引导气流。

进一步地，所述导流凹槽上设置有多个微型阶梯，用于吸附尘杂。

进一步地，所述本体的侧壁内侧上设置有凸起部；所述凸起部具有棱角，用于吸附尘杂。

进一步地，所述排气通孔上固定地设置有排气管；

所述排气管与所述本体垂直。

进一步地，所述排气管的一端延伸至所述本体的内部，另一端沿所述本体的径向延伸。

借由上述技术方案，本实用新型一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置至少具有下列优点：

不仅可以减少排气时的热量损耗，节能降耗；而且便于拆装、更换、维护，能够防止排气口堵塞。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1为本实用新型实施例提供的一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置的主视示意图；

图2为本实用新型实施例提供的一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置的俯视示意图；

图3本实用新型另一实施例提供的一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置的示意图。

图中所示：

1为引流部，1-1为凹部，2为本体，2-1为排气通孔，2-2为排气管，3为连接部。

具体实施方式

为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例，对依据本实用新型申请的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。在下述说明中，不同的“一实施例”或“实施例”指的不一定是同一实施例。此外，一或多个实施例中的特定特征、结构、或特点可由任何合适形式组合。

如图1和图2所示，本实用新型的一个实施例提出的一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置，包括:本体2、连接部3和引流部1；本体2为圆柱管状，以与单晶硅炉的排气口连通，引导气流流出；本体2的侧壁上设置有排气通孔2-1，使本体2内的废气从排气通孔2-1排出。连接部3固定地设置在本体2的一端，用于与单晶硅炉的排气口连接；本实施例优选连接部3上设置为台阶口，以卡接在单晶硅炉的排气口上，也方便拆卸，方便更换或清理。引流部1固定地设置在本体2的另一端，用于阻挡排气口喷出的气流，将气流进行引导，以通过排气通孔2-1排出。引流部1阻挡高温气流直接流出，能够改变废气排出方向，减小热辐射能量损失。安装时，只需将连接部3嵌入单晶硅炉的排气口，使之固定。

本实用新型的一个实施例提出的一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置，不仅可以减少排气时的热量损耗，节能降耗；而且便于拆装、更换、维护，且能够防止排气口堵塞。

作为上述实施例的优选，排气通孔2-1为槽孔；槽孔为多个；多个槽孔沿本体2的圆周方向分布。优选均匀分布。从单晶硅炉的排气口排出的废气进入本体2，沿本体2的轴向流动；经过引流部1的阻挡和引导，使气流沿本体2的侧壁的排气通孔2-1流出。槽孔便于加工，且，有利用废气排出。

作为上述实施例的优选，本体2、连接部3和引流部1为一体设置；本体2、连接部3和引流部1均为石墨材质，便于加工，且结构可靠，耐高温和腐蚀。

作为上述实施例的优选，排气通孔2-1为圆孔，便于加工，方便引流。进一步地优选，圆孔为多个；多个圆孔沿本体2的圆周方向间隔设置，以将气流导向向本体2的径向流动。

作为上述实施例的优选，引流部1上设置有球面的凹部1-1；使气流冲击在引流部1后具有回弹的效果，以使减少气流夹带的热辐射能量损失。凹部1-1上设置有向外延伸的导流凹槽；导流凹槽沿圆周方向间隔地分布在凹部1-1上，用于引导气流，以能够将气流改变方向，引导向本体2的侧部的排气通孔2-1。

作为上述实施例的优选，导流凹槽上设置有多个微型阶梯，用于吸附尘杂，能够增加对尘杂的吸附能力。

作为上述实施例的优选，本体2的侧壁内侧上设置有凸起部；凸起部具有棱角，用于吸附尘杂，能够增加对尘杂的吸附能力，及时更换或清洁本体2即可保证单晶硅炉的排气口不堵塞。

作为上述实施例的优选，参考图3，排气通孔2-1上固定地设置有排气管2-2；排气管2-2与本体2垂直，以使气流能够进行90度的方向变化，减慢气流流速，减少热量损失。

作为上述实施例的优选，排气管2-2的一端延伸至本体2的内部，另一端沿本体2的径向延伸，以达到气流方向的更好转变，避免本体2内的废气在沿本体2轴向流动流速的作用下，流出排气通孔2-1，继续沿本体2的轴向流动。

本实用新型的一个实施例提出的一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置，不仅可以减少排气时的热量损耗，节能降耗；而且便于拆装、更换、维护，能够防止排气口堵塞。本实用新型的一个实施例提出的一种直拉单晶硅炉的炉底排气罩装置，最简单、成本较低，可反复使用。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。