一种数控摆动式匀质浸外釉机的制作方法

本实用新型涉及陶瓷生产设备领域，具体的涉及一种数控摆动式匀质浸外釉机。

背景技术：

陶瓷是人们日常生活中常见的生活用品，用陶土烧制的器皿叫陶器，用瓷土烧制的器皿叫瓷器。陶瓷则是陶器，炻器和瓷器的总称。古人称陶瓷为瓯。凡是用陶土和瓷土这两种不同性质的粘土为原料，经过配料、成型、上釉、干燥、焙烧等工艺流程制成的器物都可以叫陶瓷。其中传统的坯体上釉是通过人手持坯体，浸入装有釉水的浸釉筒内，从而在坯体外表面形成釉水层，传统人工浸釉的坯体外表面釉水很难均匀，导致烧制而成的釉面不平，品控难以把握，对工人工艺和经验要求很高，直接导致成本提高和生产效率降低，为此，市面上出现了一些自动外浸釉装置，能够代替人工实现坯体上釉，但是现有的自动外浸釉装置通常具有三轴位移控制，装置复杂，成本较高，且浸釉的过程为直上直下的方式，上釉速度较慢，上釉不够均匀，此外，浸釉筒内的釉水上容易漂浮一些杂质，影响浸釉品质。

技术实现要素：

本实用新型要解决的技术问题是提供一种数控摆动式匀质浸外釉机，通过左右摆动使陶瓷坯体外表面均匀浸釉，模拟人工浸釉的方式，点位运动精准可靠，降低工人劳动强度，同时设计有釉水循环系统、搅拌器和扫釉器，改善了人工难以控制的釉面品质。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案如下：一种数控摆动式匀质浸外釉机，其特征在于：包括主机架、运动机构、夹持装置和釉水循环系统，所述釉水循环系统包括位于夹持装置下方的浸釉筒，所述夹持装置通过运动机构与主机架连接，所述夹持装置藉由运动机构驱动相对于浸釉筒做上下移动和左右摆动。

优选的，所述运动机构包括固设于主机架上的纵向直线导轨、固设于机架上并与纵向直线导轨平行的丝杆滑台、滑动设置于纵向直线导轨和丝杆滑台上的副支架、固设于主机架上的纵向移动电机、固设于副支架上的摆动电机和枢设于副支架上的摆动轴，所述纵向直线导轨的滑块和丝杆滑台的滑块与副支架固接，所述纵向移动电机通过丝杆滑台带动副支架沿着纵向移动，所述摆动电机轴端固设有第一同步齿轮，所述摆动轴上设有第二同步齿轮，所述第一同步齿轮和第二同步齿轮通过同步带连接。

优选的，所述夹持装置固设于摆动轴末端，所述夹持装置包括与摆动轴末端固接的连接杆、固设于连接杆底部的托架、固设于连接杆上部的上支臂、固设于上支臂上的夹持气缸和固设于夹持气缸的活塞杆末端的压紧块。

优选的，所述釉水循环系统还包括储釉筒和泵，所述浸釉筒的上部设有溢流孔，浸釉筒通过溢流孔与储釉筒连通，所述泵的进料管与储釉筒内部连通、出料管与浸釉筒内部连通。

优选的，所述浸釉筒和储釉筒的底部均设有搅拌器。

优选的，所述浸釉筒的搅拌器上方设有筛网。

优选的，还包括扫釉器，所述扫釉器包括扫釉气缸、摆臂和刷条，所述扫釉气缸的缸体与主机架枢接、活塞杆的末端与摆臂的中部枢接，所述摆臂的一端与机架枢接、另一端与刷条固接，所述刷条的下半部分浸入浸釉筒的液面下方。

优选的，还包括PLC控制器，所述PLC控制器与运动机构、夹持装置和釉水循环系统信号控制连接。

由上述描述可知，本实用新型提供的数控摆动式匀质浸外釉机具有如下有益效果：

一、运动系统由机架和精密直线导轨以及步进电机、同步带组成，可以实现各种速度的上下和左右摆动的动作，模拟人工浸釉方式，坯体表面施釉均匀；

二、运动系统采用步进电机加PLC控制，结构稳固，运动精确可靠，因产品的不同而需要不同的动作流程组合，均可通过人机界面设置参数完成，点位运动精准可靠，工人劳动强度大大降低；

三、设计有釉水循环系统，搅拌器和扫釉器，改善了人工难以控制的釉面品质，其中，釉水循环系统由浸釉筒和储釉筒组成，浸釉桶内的釉面始终保持一致，两桶之间的釉水不间断的循环，且浸釉桶内设有筛网，提高釉水洁净度，有需要时可在储釉桶内补给釉水，搅拌器防止底部釉水沉降凝化，扫釉器在每次浸釉前扫除釉水表面的漂浮物，保障浸釉品质。

附图说明

图1为本实用新型数控摆动式匀质浸外釉机的结构示意图。

图2为图1的俯视图。

图3为运动机构和扫釉器的结构示意图。

图4为夹持装置的结构示意图。

图5为夹持装置的夹持状态的示意图。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

如图1所示，本实用新型的数控摆动式匀质浸外釉机，其包括主机架1、运动机构2、夹持装置3、釉水循环系统4和扫釉器5，图2为隐去夹持装置后的数控摆动式匀质浸外釉机的结构示意图。

如图3所示，运动机构2包括固设于主机架1上的纵向直线导轨21、固设于主机架1上并与纵向直线导轨21平行的丝杆滑台22、滑动设置于纵向直线导轨21和丝杆滑台22上的副支架23、固设于主机架1上的纵向移动电机24、固设于副支架23上的摆动电机25和枢设于副支架23上的摆动轴26，纵向直线导轨21的滑块和丝杆滑台22的滑块与副支架23固接，纵向移动电机24通过丝杆滑台22带动副支架23沿着纵向移动，摆动电机25轴端固设有第一同步齿轮27，摆动轴26上设有第二同步齿轮28，第一同步齿轮27和第二同步齿轮28通过同步带连接，副支架23上设有两个与摆动轴26配合的轴承座，摆动轴26摆动的角度范围为60－90度，摆动电机25驱动摆动轴26在以竖直面为中心面、左右等角度摆动。

副支架23的上下移动由纵向移动电机24通过丝杆滑台22带动，而摆动轴26的左右摆动由摆动电机25通过同步装置带动，由于纵向移动电机24和摆动电机25的类型为进步电机，且丝杆滑台22和纵向直线导轨21定位精准，因此能够保证坯体运动的精确性。

如图4和5所示，夹持装置3通过运动机构2与主机架1连接，夹持装置3藉由运动机构2驱动相对于浸釉筒41做上下移动和左右摆动。夹持装置3固设于摆动轴26末端，夹持装置3包括与摆动轴26末端固接的连接杆31、固设于连接杆31底部的托架32、固设于连接杆31上部的上支臂33、固设于上支臂33上的夹持气缸34和固设于夹持气缸34的活塞杆末端的压紧块35，托架32上均匀设有导水槽和排水孔，压紧块35底部设有可拆卸的橡胶缓冲垫，上支臂33在连接杆31上的位置可调，上支臂33上可以固设有一组或多组夹持气缸34和压紧块35，本实施例中，夹持气缸34和压紧块35只有一组，在其他实施例中，夹持气缸34和压紧块35可以为多组，夹持气缸34的出料端与稳压阀连接，防止夹持气缸34过压。

夹持装置3可以下降至托架32和连接杆31的下半部份完全进入浸釉筒41内，使夹持于夹持气缸34活塞杆和托架32之间的陶瓷坯体完全浸入浸釉筒41的釉水内。

釉水循环系统4包括位于夹持装置3下方的浸釉筒41、储釉筒42和泵43，浸釉筒41的上部设有溢流孔，浸釉筒41通过溢流孔与储釉筒42连通，浸釉筒41内多余的釉水通过溢流孔流入储釉筒42，溢流孔可以保证浸釉筒41内釉水保持于同一平面，泵43的进料管与储釉筒42内部连通、出料管与浸釉筒41内部连通，泵43将储釉筒42内的釉水抽至浸釉筒41内，使釉水循环，当釉水不足时，只需往储釉筒42内添加釉水即可，不影响浸釉筒41和其他部件工作，浸釉筒41和储釉筒42的底部均设有搅拌器44，防止底部的釉水固化，浸釉筒41和储釉筒42底部设有排釉开关，浸釉筒41的搅拌器44上方设有筛网45，筛网45用于承接沉淀物。

扫釉器5包括扫釉气缸51、摆臂52和刷条53，扫釉气缸51的缸体与主机架1枢接、活塞杆的末端与摆臂52的中部枢接，摆臂52的一端与机架枢接、另一端与刷条53固接，刷条53的下半部分浸入浸釉筒41的液面下方，刷条53呈弧形，刷条53上设有刷毛，在每次浸釉之前，需由扫釉器5清除釉水表面的漂浮物，具体的，扫釉气缸51延伸，带动摆臂52和刷条53在釉水液面上扫过，刷条53和刷毛带走釉水表面的漂浮物。

主机架1的底部设有万向轮。

本实用新型的数控摆动式匀质浸外釉机还包括PLC控制器，PLC控制器与运动机构2、夹持装置3和釉水循环系统4信号控制连接，具体的，PLC控制器与纵向移动电机24、摆动电机25、夹持气缸34、泵43和扫釉气缸51控制连接，控制各驱动单元的工作。

使用上述数控摆动式匀质浸外釉机进行陶瓷坯体外表面浸釉的方法，包括以下步骤：

步骤一、在储釉筒42添加釉水，储釉筒42内釉水平面不应超过溢流孔，使浸釉筒41具有足量的釉水，通过运动机构2将夹紧装置提升至高于浸釉筒41顶部的位置上；

步骤二、扫除浸釉筒41内釉水表面的漂浮物，夹持气缸34的活塞杆上升至最高点，陶瓷坯体放置于托架32上，夹持气缸34的活塞杆下降，直至压紧块35将待浸釉的陶瓷坯体夹紧固定于夹持装置3上；

步骤三、运动机构2驱动夹持装置3和陶瓷坯体下降，直至陶瓷坯体浸入浸釉筒41内部的釉水内；

步骤四、运动机构2驱动夹持装置3和陶瓷坯体左右摆动，使陶瓷坯体的外表面均匀的覆盖釉水，在摆动过程中，可以伴随着上下移动，其具体的运动轨迹可以在PLC控制器上进行设定；

步骤五、提升夹持装置3和陶瓷坯体，等待陶瓷坯体外表面多余的釉水沥干后，松开夹持装置3，取出浸釉的陶瓷坯体。

本实用新型提供的数控摆动式匀质浸外釉机具有如下有益效果：

一、运动系统由主机架和精密直线导轨以及步进电机、同步带组成，可以实现各种速度的上下和左右摆动的动作，模拟人工浸釉方式，坯体表面施釉均匀；

二、运动系统采用步进电机加PLC控制，结构稳固，运动精确可靠，因产品的不同而需要不同的动作流程组合，均可通过人机界面设置参数完成，点位运动精准可靠，工人劳动强度大大降低；

三、设计有釉水循环系统，搅拌器和扫釉器，改善了人工难以控制的釉面品质，其中，釉水循环系统由浸釉筒和储釉筒组成，浸釉桶内的釉面始终保持一致，两桶之间的釉水不间断的循环，且浸釉桶内设有筛网，提高釉水洁净度，有需要时可在储釉桶内补给釉水，搅拌器防止底部釉水沉降凝化，扫釉器在每次浸釉前扫除釉水表面的漂浮物，保障浸釉品质。

上述仅为本实用新型的若干具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。