]根据相关技术的E⑶(电致变色显示)利用了物体颜色根据氧化还原反应变化的EC现象，并且采用液体或流体(或胶状体)替代白砂薄膜5作为电解质薄膜。
[0089]在制造工艺中，采用液态电解质膜的传统的E⑶必须包括液体或流体处理流程，从而使得ECD的制造复杂化。另外，传统的ECD具有归因于老化或根据使用环境引起液体泄露的风险。为了处理该风险，根据另一相关技术的E⑶采用含稀有金属的固态电解质膜。
[0090]因为使用了稀有金属，采用固态电解质膜的E⑶很昂贵。另一方面，光控制元件21是基于白砂可用作为电解质膜的发现，并且采用白砂薄膜5作为光控制元件21的固态电解质膜。因为光控制元件21不使用稀有金属，所以它不昂贵，并且与传统的固态电解质膜相比，显示出较高的离子传导率。
[0091]与采用液体电解质膜的传统的E⑶相比，光控制元件21包含更简单的制造工艺，并且不会由于老化或根据使用环境引起液体泄露。
[0092]光控制元件21可被使用为能够轻松地在传输或阻挡可见光之间切换的挡光组件。挡光组件可使用于建筑窗或客机窗。
[0093]可根据组合喷镀，特别地可根据被使用为在高速和低温下形成光学薄膜的技术的RAS (自由基辅助溅射)，形成白砂薄膜5。该技术能够快速地形成白砂薄膜5，并且抑制基材3等的温度增加。
[0094]例如，在日本特开2001-234338号公报、特开平11-279757号公报和特开平11-256327号公报中描述了 RAS技术。
[0095]白砂薄膜5可被形成为如图7 (a)所示的单一连续产品。在这种情况下，光控制元件21可使用为如上所述的挡光组件。如图7(b)所示，第一传导膜3、还原显色膜23、白砂薄膜5、氧化显色膜25和第二传导膜27可被分隔且被划分为很多微小的块31，以便给每个块31施加单独的电压。在这种情况下，光控制元件21可替代LCD使用为图像显示单元。
[0096]在图6中，还原显色膜23和氧化显色膜25可互相替换。
[0097]白砂结构体I被使用为光控制元件21，基材3被使用为第一传导膜，白砂薄膜5被形成在氧化显色薄膜25的表面上，氧化显色薄膜25被形成在基材3的表面上，还原显色膜23被形成在白砂薄膜5的表面上，并且第二传导膜27被形成在还原显色膜23的表面上。
[0098]传导膜3和27中的其中一层可由透明或半透明体制成，并且另一层(例如，第一传导膜3)可由反射膜制成，以反射可见光。
[0099]在这种情况下，第一传导膜3由Al (铝)制成，以形成反射电极膜。由于第一传导膜3用作反射电极膜，光控制元件21可被使用为防眩镜。
[0100]光控制元件21可被使用为减反射材料(减反射板)。
[0101]在这种情况下，减反射材料21的基材3由透明或半透明体制成。在减反射材料21中，基材3的表面设置有减反射膜(AR镀层)。
[0102]示例将被详细地描述。如图8所示，白砂薄膜5 (5A)是透明的或半透明的，并且直接形成在基材3的表面上，且与基材3的表面接触。直接形成在白砂薄膜5 (5A)的表面上且与白砂薄膜5 (5A)的表面接触的是薄膜29 (29A)(例如，氧化钛(IV ) (T12))，薄膜29 (29A)的折射率比白砂薄膜5(5A)的折射率更高。高折射率薄膜29也是透明的或半透明的。
[0103]直接形成在高折射率薄膜29 (29A)的表面上且与高折射率薄膜29 (29A)的表面接触的是与白砂薄膜5 (5A)不同的白砂薄膜5 (5B)。直接形成在白砂薄膜5 (5B)的表面上且与白砂薄膜5 (5B)的表面接触的是与高折射率薄膜29 (29A)不同的高折射率薄膜29 (29B)(例如，氧化钛(IV) (T12))。
[0104]白砂薄膜5的折射率低，并且大约为1.4至1.5。高折射率薄膜29具有大约2.0至3.0的高折射率。因为AR镀层，整个反射率大约为5%。
[0105]在上述描述中，四层薄膜交替地形成在基材3上，即是，白砂薄膜5A、高折射率薄膜29A、白砂薄膜5B、高折射率薄膜29B。该构造并不限制本发明。白砂薄膜5和高折射率薄膜29可以交替地一层叠在另一层上地在基材3上形成多层。
[0106]在上述描述中，白砂薄膜5被形成在基材3的表面上，并且高折射率薄膜29被形成在白砂薄膜5的表面上。白砂薄膜5和高折射率薄膜29可互相替换。即是说，高折射率薄膜29可形成在基材3的表面上，白砂薄膜5可形成在高折射率薄膜29的表面上。
[0107]如上所述，AR镀层能够最小化归因于反射的光损失，因此其适用于太阳能电池镀膜。给电池表面提供“减反膜”的结果是确定地将阳光装进电池中。
[0108]白砂薄膜5的折射率低，并且大约为1.4至1.5，因此白砂薄膜是用于太阳能电池镀膜的最优材料(特别地，太阳能聚光的聚光镜)。另外，被包含在白砂薄膜中的氧化钛T12的光催化特性在太阳能电池上实现防污效果。
[0109]另一方面，如果通过在太阳能电池上形成作为光催化材料的氧化钛TiCV薄膜而不是白砂薄膜来实现防污效果，则氧化钛T12的高折射率会改变设置有氧化钛1102薄膜的模块或聚光镜的光路径。阳光则不能确定地被装进太阳能电池。
[0110]在本发明的范围之内，本发明不被限制于上述实施方式。
[0111]附图标记说明
[0112]1:白砂结构体
[0113]3:基材
[0114]5，5A，5B:白砂薄膜
[0115]11:靶材
[0116]21:光控制元件
[0117]23:还原显色膜
[0118]25:氧化显色膜
[0119]27:第二传导膜
[0120]29，29A，29B:高折射率薄膜
【主权项】
1.一种白砂结构体，其包含: 基材；以及 白砂薄膜，其通过物理气相沉积法形成在所述基材上。
2.根据权利要求1所述的白砂结构体，其特征在于，通过在所述基材上直接沉积金属氧化物形成所述白砂薄膜，其中所述金属氧化物是白砂火山灰的主要成分。
3.根据权利要求1或2所述的白砂结构体，其特征在于，所述基材为透明或半透明材料。
4.根据权利要求1所述的白砂结构体，其特征在于: 所述白砂结构体是光控制元件，所述基材是第一传导膜，并且所述白砂薄膜被形成在还原显色膜的表面上，所述还原显色膜被形成在所述基材的表面上； 氧化显色膜被形成在所述白砂薄膜的表面上； 第二传导膜被形成在所述氧化显色膜的表面上；并且 每层传导膜都由透明或半透明体制成，或者其中一层传导膜由透明或半透明体制成，而另一层由反射膜制成。
5.根据权利要求1所述的白砂结构体，其特征在于: 所述白砂结构体是光控制元件，所述基材是第一传导膜，并且所述白砂薄膜被形成在氧化显色膜的表面上，所述氧化显色膜被形成在所述基材的表面上； 还原显色膜被形成在所述白砂薄膜的表面上； 第二传导膜被形成在所述还原显色膜的表面上；并且 每层传导膜都由透明或半透明体制成，或者其中一层传导膜由透明或半透明体制成，而另一层由反射膜制成。
6.根据权利要求1所述的白砂结构体，其特征在于: 所述白砂结构体为减反射材料； 所述基材由透明或半透明体制成；并且 所述白砂薄膜和折射率比所述白砂薄膜的折射率更高的高折射率膜交替地一层叠在另一层上地在基材的表面上形成多层。
7.—种根据权利要求1至6中的任何一项的白砂结构体的制造方法，其特征在于， 用于物理气相沉积的薄膜形成材料为颗粒状或块状的白砂，或者为通过颗粒状或块状的白砂烧结而制成的预定尺寸的烧结体。
【专利摘要】本发明提供一种白砂火山灰结构体(1)，其具有基材(3)和通过物理气相沉积设置在基材(3)的表面上的白砂火山灰的薄膜(5)。
【IPC分类】B32B3-26, C23C14-34, C23C14-06, B32B9-00, C01B33-26
【公开号】CN104684847
【申请号】CN201380051021
【发明人】野口大辅
【申请人】株式会社高千穗
【公开日】2015年6月3日
【申请日】2013年7月31日
【公告号】DE112013003804T5, DE112013003804T8, WO2014021371A1