用于制造浮法玻璃板的浮法工艺和浮法玻璃板的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及一种用于制造浮法玻璃板的浮法工艺，以及一种浮法玻璃板。
【背景技术】
[0002] 考虑到其高机械强度以及小于1毫米的低的板厚度，化学硬化的铝硅酸盐玻璃板 近些年已被用作诸如特别是笔记本电脑和智能手机的移动终端设备的显示器的玻璃盖板。 除了其它拉伸工艺，尤其考虑本领域技术人员所公知的浮法工艺生产铝硅酸盐玻璃板。但 是当使用浮法工艺时，可观察到在化学回火之后，铝硅酸盐玻璃板有弯曲或弓形，本领域技 术人员也已知为翘曲。该翘曲归因于以下事实：浮法工艺为不对称拉伸工艺，以及浮法玻璃 板的被称为锡槽侧的一侧和浮法玻璃板的相对的上侧不同，并在化学回火期间在相同的条 件下呈现了不同的回火程度或深度，这导致了翘曲。
[0003] 根据DE3 607 404,例如可以通过将玻璃板的表面在化学回火之前进行研磨和抛 光来避免翘曲的形成，然而这是非常困难的。
[0004] 类似地，有在化学回火之前用在化学回火过程中改变离子交换并且被设计以使得 无翘曲发生的层来提供浮法玻璃板的技术方法。该技术方案也非常困难的，并且只在所施 加的层不会不利地影响后续处理步骤的特殊情况下是可行的。
[0005] WO13146438公开了一种玻璃板，其中在一侧上的钠含量为0.2-1. 2重量％，低于 另一侧，由此同样意在降低浮法玻璃板在化学回火过程中翘曲的倾向。缺点是玻璃板的两 个表面在化学上彼此显著不同，由此在进一步的处理成用于显示器的玻璃盖板的过程中产 生问题。特别是之后在进一步处理的工艺过程中也必须确保玻璃板的正确取向，这意味着 进一步处理涉及增加的努力。
【发明内容】
[0006] 本发明的目的是提供一种基于用于制造化学上高度可回火的浮法玻璃板的浮法 工艺的工艺，它旨在根据本工艺制造的浮法玻璃板没有多少翘曲，同时避免额外的处理步 骤、例如在化学回火处理之后涂覆或研磨表面。本发明的目的还在于提供一种相应的化学 上高度可回火的玻璃板。浮法玻璃板也旨在相对于两侧的化学组成没有多少不对称性。
[0007] 所述目的是通过独立权利要求来实现的。优选的实施例存在于从属权利要求中。
[0008] 根据本发明的用于制造浮法玻璃板的浮法工艺是在具有浮抛窑、锡槽箱和退火窑 的拉伸区中进行的，其中熔融玻璃连续地进给到熔融金属并在拉伸方向被拉长以形成具有 预定宽度的玻璃带。具有面向熔融金属的锡槽侧和背向熔融金属的上侧的玻璃带沿着浮抛 窑冷却，从熔融金属剥离，并进一步传送。根据本发明的浮法工艺的特征在于，火焰Fn在至 少一个位置Sn#、并优选在拉伸区的进一步的位置处从上方作用在玻璃带的上侧，火焰Fn 具有相对于玻璃带的宽度至少5千瓦/米、优选至少为10千瓦/米、特别优选至少15千瓦 /米的火焰输出量。
[0009] 本发明人已经发现，化学回火之后的翘曲可以通过玻璃带的上侧暴露于火焰的令 人惊讶的量来降低。火焰在这里发挥作用的具体方式是未知的。因此，火焰导致了玻璃带 的上侧被加热，并且因此施加热影响。但是，当使用更强的电加热代替火焰时，没有发现这 样的翘曲的降低，所以单独的热效应不能解释翘曲的降低。同样，火焰可以引起玻璃带的 上侧的化学变化。但是已经发现，根据本发明的玻璃板的上侧的化学组成仅以非常小的程 度被改变，并且仅最低限度地依赖于玻璃带的锡槽侧的化学组成。尤其是不会发生根据WO 13146438的钠耗尽或富集的效果。据推测，玻璃扩散钾和/或钠离子的能力是以这样的 方式受火焰的影响，使得在化学回火的后续处理中更少的离子在浮法玻璃板的上侧上被交 换。
[0010] 根据本发明的浮法工艺在基础方面对应于用于制造钠钙玻璃的标准的浮法工艺， 但在更小规模上具有典型的10-50吨/天的体积生产量。熔融锡优选用作熔融金属。为了 避免液体锡的氧化，浮抛窑在还原惰性气体气氛、优选氮气和氢气的合成气体混合物下运 转。同时，在浮抛窑中有小的正压力，以避免空气以及因此氧气的进入。因此，在浮抛窑中 有无O2气氛。例如通过由残留在板的浮抛窑侧上的非常薄的表面层中的少量锡残余物，可 以将通过浮法工艺制造的玻璃板从通过其它拉伸工艺制造的玻璃板中分辨出来。
[0011] 被进给到熔融金属的熔融玻璃通常为熔融铝硅酸盐玻璃。与市售的钠钙玻璃和低 Al2O3硼硅酸盐玻璃、例如SCHOTTAG的品牌Bomfloat?相比，铝硅酸盐玻璃的区别在于非 常良好的化学回火软化性，因此是本发明所优选的。玻璃例如可以具有在以下组分范围内 的组分或根据表1的特定组分。
[0012] 表 1
[0013]
【主权项】
1. 一种用于在具有浮抛窑（10)、锡槽箱（11)和退火窑（12)的拉伸区（9)中制造浮法 玻璃板（1)的浮法工艺，其中，熔融玻璃连续地进给到熔融金属（13)上，并在拉伸方向（8) 中拉长，以形成具有面向所述熔融金属（13)的锡槽侧（15)和背向所述熔融金属（13)的上 侧（16)的预定宽度的玻璃带（14)，以及其中，将所述玻璃带（14)沿着所述浮抛窑（10)冷 却，从所述熔融金属（13)剥离，并进一步运送，其特征在于，火焰F n(33a、33b)在至少一个 位置Sn处以及优选在所述拉伸区（9)的进一步的位置处从上方作用在所述玻璃带（14)的 所述上侧（16)上，所述火焰F n(33a、33b)具有相对于所述玻璃带（14)的宽度至少5千瓦/ 米、优选至少10千瓦/米、特别优选至少15千瓦/米的火焰输出量。
2. 根据权利要求1所述的浮法工艺，其特征在于，所述熔融玻璃具有至少5重量％、特 别优选至少10重量％的氧化铝组分。
3. 根据权利要求1或2所述的浮法工艺，其特征在于，所述浮法玻璃板（1)可以化学上 高度回火至至少600兆帕的表面的压应力CS以及至少30微米的回火层深度DoL。
4. 根据权利要求1-3中任一项所述的浮法工艺，其特征在于，在所述位置Sn&，没有火 焰从下方作用在所述玻璃带（14)的所述锡槽侧（15)。
5. 根据权利要求1-4中任一项所述的浮法工艺，其特征在于，没有外来材料涂层涂覆 到所述玻璃带（14)的与所述火焰（33a、33b)有关的所述上侧（16)。
6. 根据权利要求1-5中任一项所述的浮法工艺，其特征在于，所述拉伸区（9)中的所述 玻璃带（14)的上方布置有以这样的方式形成的流动阻挡件（19)，使得基本无0 2的合成气 体气氛在所述流动阻挡件（19)的上游是普遍的，以及含02气氛在如所述拉伸方向（8)中看 到的所述流动阻挡件（19)的下游是普遍的，并且优选地，所述合成气体气氛的氢气与氧气 的燃烧具有如下效果：从在所述玻璃带（14)和所述流动阻挡件（19)之间的中间空间（20) 开始，燃烧合成气体火焰（33a)。
7. 根据权利要求1-6中任一项所述的浮法工艺，其特征在于，所述浮抛窑（10)具有H2 组分为至少为4摩尔％、优选至少6摩尔％、特别优选至少8摩尔％的合成气体气氛。
8. 根据权利要求1-7中任一项所述的浮法工艺，其特征在于，将氧气相对于所述玻璃 带（14)的宽度以0. 5-20m3Am ? h)的量供给到所述退火窑（12)和/或所述锡槽箱（11) 中。
9. 根据权利要求1-8中任一项所述的浮法工艺，其特征在于，燃烧器的火焰（33b)是通 过燃烧器单元（36)产生，所述燃烧器单元（36)被设置在所述玻璃带（14)上方，由所述燃 烧器单元（36)产生的所述燃烧器的火焰（33b)优选在所述玻璃带（14)的整个宽度延伸， 并且优选地，在所述燃烧器的火焰（33b)前0.5m的距离处的所述玻璃带（14)的所述上侧 (16)的温度为Tg+100K至Tg-50K，优选为T g+50K至Tg。
10. 根据权利要求1-9中任一项所述的浮法工艺，其特征在于，所述燃烧器单元（36)相 对于所述玻璃带（14)的宽度的火焰输出量为>10千瓦/米，特别优选>20千瓦/米，特别 优选为30千瓦/米至50千瓦/米。
11. 一种浮法玻璃板（1)，其特征在于，化学回火后的标准翘曲Ws为小于300微米，优 选小于200微米，特别优选小于100微米。
12. -种浮法玻璃板（1)，其特征在于，化学回火后的所述浮法玻璃板（1)的上侧的Na 浓度Na ttjp和锡槽侧的Na ^^浓度的差厶恥二恥帥-似^^为大于^重量^且小于匕] 重量％。
13. -种浮法玻璃板（1)，其特征在于，化学回火前的所述浮法玻璃板（1)的上侧（16) 的似浓度似帥和锡槽侧丨旧的似^^浓度的差厶似二似帥-似^^为大于^重量％ 且小于0.2重量％。
14. 根据权利要求11-13中任一项所述的浮法玻璃板（1)，其由根据权利要求1-10中 任一项所述的浮法工艺制备。
【专利摘要】本发明涉及一种浮法玻璃板(1)和用于在具有浮抛窑(10)、锡槽箱(11)和退火窑(12)的拉伸区(9)中制造浮法玻璃板(1)的浮法工艺，熔融玻璃连续地进给到熔融金属(13)上，在拉伸方向(8)中拉长，以形成具有面向熔融金属(13)的锡槽侧(15)和背向熔融金属(13)的上侧(16)的预定宽度的玻璃带(14)，将玻璃带(14)沿着浮抛窑(10)冷却，从熔融金属(13)剥离，并通过辊(17)进一步运送，火焰Fn(33a、33b)在至少一个位置Sn处及优选所述拉伸区(9)的进一步位置处从上方作用在玻璃带(14)的上侧(16)上，火焰Fn(33a)具有相对于玻璃带(14)的宽度至少5千瓦/米、优选至少10千瓦/米、特别优选至少15千瓦/米的火焰输出量。
【IPC分类】C03B18-02, C03B25-00
【公开号】CN104876424
【申请号】CN201510090122
【发明人】安德烈斯·兰格斯多弗, 阿明·沃格, 格哈德·劳特恩施拉格, 托马斯·施密蒂, 鲁迪格·迪特里希
【申请人】肖特股份有限公司
【公开日】2015年9月2日
【申请日】2015年2月27日
【公告号】DE102014203567A1