专利名称：有机材料的稳定和表面改性的制作方法
有机材料的稳定和表面改性本发明涉及包含有机材料，优选聚合物或滑润剂的组合物，还涉及苯并氧硫杂环 己烷衍生物及其用于稳定有机材料以抵抗氧化降解、热降解或光诱导降解和/或作为有机 材料表面能降低剂的用途。已知的稳定剂没有在各方面满足稳定剂需要满足的高要求，特别是针对保存期 限、水吸收、水解灵敏度、加工稳定、色彩性能、挥发度、迁移行为、相容性和抗光防护改进方 面的高要求。因此持续需要用于对氧化降解、热降解和/或光诱导降解敏感的有机材料的 有效稳定剂和/或满足作为有机材料表面能降低剂的条件，例如增加有机材料的油和水排 斥性。现已发现苯并氧硫杂环己烷衍生物特别适合用作对氧化降解、热降解或光诱导降 解敏感的有机材料的稳定剂和/或用作有机材料表面能降低剂。因此，本发明涉及一种包含如下组分的组合物a)对氧化降解、热降解或光诱导降解敏感的有机材料，和b)至少一种式I的化合物
权利要求
1. 一种包含如下组分的组合物a)对氧化降解、热降解或光诱导降解敏感的有机材料，和b)至少一种式I的化合物
2.根据权利要求1的组合物，其中R1和R2各自独立地为氢，C1-C18烷基，C2-C18烯基，未取代或被C1-C4烷基取代的苯 基，未取代或被C1-C4烷基取代的C7-C9苯基烷基，-CH (R7) -S (0) n-R8或-CH (R7a) -S (0) [CH2-CH(R7b)-R9;R3和R4各自独立地为氢、C1-C18烷基、未取代或被C1-C4烷基取代的苯基；R5和R6各自独立地为氢，C1-C18烷基，被氧间断的C2-C18烷基，未取代或被C1-C4烷基取代的苯基，卤素
3.根据权利要求1的组合物，其中R1和R2各自独立地为氢、C1-C12烷基、苯基、苄基、-CH(R7)-S ((^-&或-CH(R7a)-S(O) [CH2-CH(R7b)-R9;R3和R4各自独立地为氢、C1-C12烷基或苯基；RjPR6各自独立地为氢、C1-C12烷基、苯基、卤素、
4.根据权利要求1的组合物，其中R1 为 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ； R2 为 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ；R3为氢； R4为氢或苯基； R5为氢； R6为氢或苯基； R7> R7a和R7b各自独立地为氢； R8 为-CH2-CH2- (CF2) 3CF3 或-CH2-CH2- (CF2) 7CF3 ； OR9 为
5.根据权利要求1的组合物，其包含天然、半合成或合成聚合物作为组分(a)。
6.根据权利要求1的组合物，其包含热塑性聚合物作为组分(a)。
7.根据权利要求1的组合物，其包含聚烯烃作为组分(a)。
8.根据权利要求1的组合物，其中组分(b)基于组分(a)的重量以0.0005-10%的量存在。
9.根据权利要求1的组合物，其除组分(a)和(b)外额外包含其它添加剂。
10.根据权利要求9的组合物，其包含酚类抗氧化剂、光稳定剂和/或加工稳定剂作为 其它添加剂。
11.一种式I的化合物
12.根据权利要求11的化合物，其中R1 为 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ；R2 为 C「C4 烷基、-CH (R7) -S (0) n-R8 或-CH (R7a) -S (0) n_CH2-CH (R7b) -R9 ；R3为氢；R4为氢或苯基；R5为氢；R6为氢或苯基；R7> R7a和R7b各自独立地为氢；R8 为-CH2-CH2- (CF2) 3CF3 或-CH2-CH2- (CF2) 7CF3 ；R9 为
13.一种式II的化合物
14.一种稳定有机材料以抵抗氧化降解、热降解或光诱导降解和/或降低有机材料表 面能的方法，其包括将至少一种根据权利要求1的式I化合物掺入有机材料中或施用至有 机材料上。
15.根据权利要求1的式I化合物作为有机材料稳定剂以抵抗氧化降解、热降解或光诱 导降解和/或作为有机材料表面能降低剂的用途。
全文摘要
本发明涉及对氧化降解、热降解或光诱导降解拥有杰出稳定性和/或能够降低有机材料表面能的有机材料，其包含至少一种式I的化合物，其中通用符号如权利要求1中所定义。
文档编号C07C323/15GK102007111SQ200980113458
公开日2011年4月6日 申请日期2009年3月31日 优先权日2008年4月17日
发明者M·格斯特, M·米哈里克 申请人:巴斯夫欧洲公司