技术特征：
技术总结
本发明公开了一种半导体器件防蚀剂清洗剂，包括以下按照重量份的原料：柠檬酸35‑45份、金属防蚀剂14‑21份、聚乙二醇13‑20份、氢氧化铵6‑13份、三聚磷酸钠4‑9份、缓蚀剂14‑21份、渗透剂3‑8份、去离子水24‑36份；采用天然提取物柠檬酸，无腐蚀无污染，具有优异的洗净能力和浸润能力，刺激性极低，长时间使用对人体无害，对半导体器件的表面没有任何损伤，不会腐蚀金属部分，使用安全可靠，是一种绿色环保、不损伤半导体器件的清洗剂，与配伍的金属防蚀剂共同作用产生更强的清洗和保护效果，能适用于不同尺寸半导体器件的清洗。
技术研发人员：李少伟
受保护的技术使用者：李少伟
技术研发日：2018.08.29
技术公布日：2018.12.14