1.便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，包括釜体，所述釜体的顶端固定安装有釜盖，其特征在于：所述釜体内安装有搅拌轴，所述搅拌轴的一端延伸至所述釜体的底部并安装有搅拌叶轮，所述搅拌叶轮的下方安装有与所述釜体的底壁配合的清扫装置，所述釜盖上安装有驱动座，所述搅拌轴的另一端从所述釜盖伸出并穿过所述驱动座后与驱动装置传动连接，所述驱动座与所述釜体的顶端之间安装有清扫升降装置。
2.如权利要求1所述的便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，其特征在于：所述清扫装置包括与所述搅拌叶轮固定连接的弧形清扫架，所述弧形清扫架上安装有面向所述釜体底壁设置的清扫刷或清扫刮片。
3.如权利要求1所述的便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，其特征在于：所述驱动座包括套装在所述搅拌轴上的护套，所述护套的底端固定安装有下座，所述护套的顶端固定安装有上座，所述驱动装置安装在所述上座上。
4.如权利要求1所述的便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，其特征在于：所述驱动装置包括驱动电机。
5.如权利要求1所述的便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，其特征在于：所述清扫升降装置包括两个安装在所述釜盖上且能够相向滑动的升降垫块，所述升降垫块对称设置在所述搅拌轴两侧，所述釜盖上插装有将所述升降垫块限定在升位置的限位挡板。
6.如权利要求5所述的便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，其特征在于：所述釜盖上安装有滑轨，所述升降垫块的底端固定安装有与所述滑轨匹配的滑块；所述滑轨的最外端安装有将所述升降垫块限定在降位置的限位挡块，处于降位置的两个所述升降垫块之间的距离与所述驱动座的宽度匹配。