便于清洗的盐酸辛弗林反应釜的制作方法

本实用新型涉及一种反应釜，尤其涉及一种便于清洗的用于制作盐酸辛弗林的反应釜。

背景技术：

在制作盐酸辛弗林的过程中，容易在反应釜的底部粘上残留物，反应釜体积比较大，底比较深，不好清洗，这些残留的物料会影响下一釜产品的质量，为了保证产品质量的稳定，每完成一釜产品，都要清釜，清釜需要把釜盖提起，对釜体内部进行清洗，由于釜体比较深，所以釜体底部比较难清洗，每次清洗需要耗费大量的人力，增加了生产成本。

技术实现要素：

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种操作简便的便于清洗的盐酸辛弗林反应釜。

为解决上述技术问题，本实用新型的技术方案是：便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，包括釜体，所述釜体的顶端固定安装有釜盖，所述釜体内安装有搅拌轴，所述搅拌轴的一端延伸至所述釜体的底部并安装有搅拌叶轮，所述搅拌叶轮的下方安装有与所述釜体的底壁配合的清扫装置，所述釜盖上安装有驱动座，所述搅拌轴的另一端从所述釜盖伸出并穿过所述驱动座后与驱动装置传动连接，所述驱动座与所述釜体的顶端之间安装有清扫升降装置。

作为一种优选的技术方案，所述清扫装置包括与所述搅拌叶轮固定连接的弧形清扫架，所述弧形清扫架上安装有面向所述釜体底壁设置的清扫刷或清扫刮片。

作为一种优选的技术方案，所述驱动座包括套装在所述搅拌轴上的护套，所述护套的底端固定安装有下座，所述护套的顶端固定安装有上座，所述驱动装置安装在所述上座上。

作为一种优选的技术方案，所述驱动装置包括驱动电机。

作为一种优选的技术方案，所述清扫升降装置包括两个安装在所述釜盖上且能够相向滑动的升降垫块，所述升降垫块对称设置在所述搅拌轴两侧，所述釜盖上插装有将所述升降垫块限定在升位置的限位挡板。

作为一种优选的技术方案，所述釜盖上安装有滑轨，所述升降垫块的底端固定安装有与所述滑轨匹配的滑块；所述滑轨的最外端安装有将所述升降垫块限定在降位置的限位挡块，处于降位置的两个所述升降垫块之间的距离与所述驱动座的宽度匹配。

由于采用了上述技术方案，便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，包括釜体，所述釜体的顶端固定安装有釜盖，所述釜体内安装有搅拌轴，所述搅拌轴的一端延伸至所述釜体的底部并安装有搅拌叶轮，所述搅拌叶轮的下方安装有与所述釜体的底壁配合的清扫装置，所述釜盖上安装有驱动座，所述搅拌轴的另一端从所述釜盖伸出并穿过所述驱动座后与驱动装置传动连接，所述驱动座与所述釜体的顶端之间安装有清扫升降装置；反应釜内的反应结束后，需要清洗釜体时，通过清扫升降装置将搅拌轴降落到降位置，清扫装置与釜体底部接触，启动驱动装置，搅拌轴转动，带动清扫装置转动，对釜体底部实现清扫作业；节省人力，清扫效率高。

附图说明

以下附图仅旨在于对本实用新型做示意性说明和解释，并不限定本实用新型的范围。其中：

图1是本实用新型实施例工作状态的结构示意图；

图2是本实用新型实施例清扫状态的结构示意图；

图3是本实用新型实施例工作状态的俯视图；

图4是本实用新型实施例清扫状态的俯视图；

图中：11-釜体；12-釜盖；21-搅拌轴；22-搅拌叶轮；31-弧形清扫架；32-清扫刮片；41-护套；42-下座；43-上座；5-驱动电机；61-升降垫块；62-限位挡板；63-滑轨；64-滑块；65-限位挡块。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，进一步阐述本实用新型。在下面的详细描述中，只通过说明的方式描述了本实用新型的某些示范性实施例。毋庸置疑，本领域的普通技术人员可以认识到，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，附图和描述在本质上是说明性的，而不是用于限制权利要求的保护范围。

如图1和图3所示，便于清洗的盐酸辛弗林反应釜，包括釜体11，所述釜体11的顶端固定安装有釜盖12，所述釜体11内安装有搅拌轴21，所述搅拌轴21的一端延伸至所述釜体11的底部并安装有搅拌叶轮22，所述搅拌叶轮22的下方安装有与所述釜体11的底壁配合的清扫装置，所述釜盖12上安装有驱动座，所述搅拌轴21的另一端从所述釜盖12伸出并穿过所述驱动座后与驱动装置传动连接，所述驱动座与所述釜体11的顶端之间安装有清扫升降装置。

所述清扫装置包括与所述搅拌叶轮22固定连接的弧形清扫架31，所述弧形清扫架31上安装有面向所述釜体11底壁设置的清扫刷或清扫刮片32。所述驱动座包括套装在所述搅拌轴21上的护套41，所述护套41的底端固定安装有下座42，所述护套41的顶端固定安装有上座43，所述驱动装置安装在所述上座43上。所述驱动装置包括驱动电机5。

所述清扫升降装置包括两个安装在所述釜盖12上且能够相向滑动的升降垫块61，所述升降垫块61对称设置在所述搅拌轴21两侧，所述釜盖12上插装有将所述升降垫块61限定在升位置的限位挡板62。所述釜盖12上安装有滑轨63，所述升降垫块61的底端固定安装有与所述滑轨63匹配的滑块64；所述滑轨63的最外端安装有将所述升降垫块61限定在降位置的限位挡块65，处于降位置的两个所述升降垫块61之间的距离与所述驱动座的宽度匹配。

反应釜内的反应结束后，需要清洗釜体11时，如图2和图4所示，将升降垫块61外侧的限位挡板62取下，向两侧滑动升降垫块61，升降垫块61滑动到两侧并靠紧限位挡块65时，驱动座下落，驱动座的下座42正好下落到两个升降垫块61之间，清扫装置的清扫刮片32或清扫刷与釜体11底部接触，启动驱动电机5，搅拌轴21转动，带动清扫装置转动，对釜体11底部实现清扫作业；节省人力，清扫效率高，且清扫效果好。

清扫结束后，将驱动座升起，将升降垫块61向内推至紧靠搅拌轴21，将限位挡板62插接到升降垫块61外侧的釜盖12上，就可以正常使用了。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征及本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。