量滴定板在厌氧室中在37°C厌氧条件下培养。平行地进行生长的对照。将 用于制备接种物的各混悬液25 μ 1滴至厌氧血琼脂的板上，在厌氧室中37° C厌氧条件下培 养以检查生存能力。
[0117] 24小时后，留下浮游生物相以在0D600测定生长，将羟磷灰石盘用无菌PBS洗涤， 用藏红0.1%染色15分钟。该时段后，将盘在蒸馏水中洗涤两次，用95%乙醇/1% SDS溶液 从染色的生物膜释放藏红。492 nm的吸收度可衡量被生物膜保留的藏红的量。
与实施例1的细菌减少/生物膜抑制类似，DL-5-羟基赖氨酸HCl显示没有浮游生物 生长抑制，而且显示了最小的生物膜抑制。相反，D-甘露糖胺显示生物膜形成的有效抑制， 预期可维持健康的微生物群。
[0119] 实施例3 -致病的生物膜 使用致病的生物膜模型进行类似的试验。如以上关于健康生物膜所述接种生物膜。让 初始的细菌粘附和生物膜形成进行4小时。初始的4小时后，各生物膜被添加牙龈卟啉单 胞菌（/5. 的过夜培养物100 μL。然后让生物膜再生长48小时，再进行胰蛋白 酶处理，如上所述进行吸收度测定。
[0120] 总之，这些结果指示脱氧糖抗代谢物抗微生物剂例如6-脱氧-D-葡萄糖和 2_氟-2-脱氧-D-葡萄糖是很好的口腔生物膜形成抑制剂，并显示该方法对于致病有机体 整合为生物膜具有提高的效果，即具有防止疾病进展的潜能，而非仅仅杀死细菌。
[0121] 实施例4一口腔护理组合物 本发明代表性的口腔护理组合物描述为下表中的牙膏组合物：
本领域技术人员会理解，在不脱离本发明精神实质的情况下可对本文所述的实施方案 进行多种改变和改进。意图使所有的这些变化都落入所附权利要求的范围。
【主权项】
1. 一种在个体口腔中抑制微生物生物膜形成和/或降解微生物生物膜的方法，包括 给予所述个体口腔护理组合物，该口腔护理组合物包含脱氧糖抗代谢物和口腔可接受的载 体，没有额外的抗菌剂。2. 根据权利要求1所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（I)的化合物：其中： Rl是山0山邸3、畑2或面素； Rz是山0山邸3、畑2或面素； Rs是山0山邸3、畑2或面素； 尺4是山0山畑2或面素；且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。3. 根据权利要求2所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（I)的化合物，其中： Rl是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rz是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rs是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Ra是H、0H、NH2、F或Cl;且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。4. 根据权利要求3所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（I)的化合物，其中： Ri是H、OH或F; Rz是H、OH或F; Rs是H、OH或F; Ra是H、OH或F;且 Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。5. 根据权利要求1所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物包括式（II)-(V)的化合物：其中： Ri是H、OH、CH3、畑2或面素； Rz是山0山邸3、畑2或面素； Rs是山0山邸3、畑2或面素； 尺4是山0山畑2或面素；且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物包括式（II)的化合物： 其中：Ri是H、OH、CH3、畑2或面素； Rz是H、OH、CH3、畑2或面素； Rs是山0山邸3、畑2或面素； 尺4是山0山畑2或面素；且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。7. 根据权利要求6所述的化合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（II)的化合物，其 中： Rl是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rz是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rs是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Ra是H、0H、NH2、F或Cl;且Ri、Rz、Rs和R4至少S者为地。8. 根据权利要求7所述的化合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（II)的化合物，其 中： Rl是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rz是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rs是山0山邸3、畑2、尸或(：1; 尺4是H、0H、NH2、F或Cl;且 Ri、R2、Rs和R4至少S者为OH，前提是所述脱氧糖抗代谢物不是2-脱氧-D-葡萄糖或 2-氨基-2-脱氧-D-葡萄糖。9. 根据权利要求8所述的化合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（II)的化合物，其 中： Ri是H、OH或F; Rz是H、OH或F; Rs是H、OH或F; Ra是H、OH或F;且 Ri、R2、Rs和R產少S者为OH，前提是所述脱氧糖抗代谢物不是2-脱氧-D-葡萄糖。10. 根据权利要求9所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物选自6-脱氧-D-葡萄糖、 2-氣-2-脱氧-D-葡萄糖及其混合物。11. 根据权利要求8所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物是2-氨基-2-脱氧-D-甘 露糖胺。12. 根据权利要求1所述的方法，其中细菌被减少小于5%，生物膜被抑制至少25%。13. 根据权利要求1所述的方法，其中生物膜效率为至少1000%。14. 根据权利要求1所述的方法，其中该方法包括通过在口腔中抑制微生物生物膜形 成和/或降解微生物生物膜预防或治疗口腔疾病病情，该疾病病情选自牙斑、牙腐蚀、牙周 病、齿銀炎。15. 根据权利要求1所述的方法，其中该生物膜形成自选自W下的一种或多种细菌菌 种：粘性放线菌、内氏放线菌、干酪乳杆菌、日腔链球菌、核粒梭形杆菌和小韦荣氏球菌化及 牙銀化嘟单胞菌。16. -种用于在个体口腔中抑制微生物生物膜形成和/或降解微生物生物膜的口腔护 理组合物，该组合物包含脱氧糖抗代谢物，其中所述脱氧糖抗代谢物在组合物中存在的浓 度为基于组合物总重量小于约1Wt. % ; 用于牙膏、牙乳剂、漱口剂、口香糖或假牙粘合剂的口腔可接受的载体； 选自W下的一种或多种物质：抗牙斑剂、增白剂、清洁剂、调味剂、增甜剂、粘附剂、表面 活性剂、泡沫调节剂、磨料、pH调节剂、润湿剂、日感剂、着色剂、磨料、牙石控制剂（抗牙垢 剂）、氣离子源、唾液刺激剂、抗敏感剂、抗氧化剂、营养物质、粘度调节剂、稀释剂、遮光剂、 呼吸清新剂和锋盐及其组合；并且 不含额外的抗菌剂。17. 根据权利要求16所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（I)的化 合物： (I)其中： Ri是山0山邸3、畑2或面素； Rz是山0山邸3、畑2或面素； Rs是山0山邸3、畑2或面素； 尺4是山0山畑2或面素；且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。18. 根据权利要求17所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（I)的化 合物，其中： Rl是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rz是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rs是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Ra是H、0H、NH2、F或Cl;且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。19. 根据权利要求18所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（I)的化 合物，其中： Ri是H、OH或F; Rz是H、OH或F; Rs是H、OH或F; Ra是H、OH或F;且 Ri、Rz、Rs和R4至少S者为地。20. 根据权利要求16所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物包括式 (II)-(V)的化合物：其中： Ri是山0山邸3、畑2或面素； Rz是山0山邸3、畑2或面素； Rs是山0山邸3、畑2或面素； 尺4是山0山畑2或面素；且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。21. 根据权利要求20所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物包括式（II)的 化合物：其中： Ri是H、OH、CH3、畑2或面素； Rz是山0山邸3、畑2或面素； Rs是山0山邸3、畑2或面素； 尺4是山0山畑2或面素；且Ri、R2、Rs和R4至少S者为地。22. 根据权利要求21所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（II)的化 合物，其中： Rl是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rz是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rs是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Ra是H、0H、NH2、F或Cl;且Ri、Rz、Rs和R4至少S者为地。23. 根据权利要求22所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（II)的化 合物，其中： Rl是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rz是山0山邸3、畑2、尸或(：1; Rs是山0山邸3、畑2、尸或(：1; 尺4是H、0H、NH2、F或Cl;且 Ri、R2、Rs和R4至少S者为OH，前提是所述脱氧糖抗代谢物不是2-脱氧-D-葡萄糖或 2-氨基-2-脱氧-D-葡萄糖。24. 根据权利要求23所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物是式（II)的化 合物，其中： Ri是H、OH或F; Rz是H、OH或F; Rs是H、OH或F; Ra是H、OH或F;且 Ri、R2、Rs和R產少S者为OH，前提是所述脱氧糖抗代谢物不是2-脱氧-D-葡萄糖。25. 根据权利要求24所述的口腔护理组合物，其中所述脱氧糖抗代谢物选自6-脱 氧-D-葡萄糖、2-氣-2-脱氧-D-葡萄糖及其混合物。26. 根据权利要求23所述的方法，其中所述脱氧糖抗代谢物是2-氨基-2-脱氧-D-甘 露糖胺。27. 根据权利要求16所述的口腔护理组合物，其中细菌被减少小于5%，生物膜形成被 抑制至少25%。28. 根据权利要求16所述的口腔护理组合物，其中生物膜效率为至少1000%。
【专利摘要】本文描述了包含脱氧糖抗代谢物的口腔护理组合物，以及在个体中抑制微生物生物膜形成和/或降解微生物生物膜的方法。
【IPC分类】A61P31/04, C07H3/08, C07H5/06, A61K31/7008, A61K8/49, A61K31/7004, C07H5/02, A61K31/70, A61Q11/00
【公开号】CN105377865
【申请号】CN201480027220
【发明人】L.谢菲尔－科比洛, J.弗里亚斯-洛佩斯
【申请人】高露洁-棕榄公司, 福塞斯研究所
【公开日】2016年3月2日
【申请日】2014年3月13日
【公告号】EP2970350A1, US20160000680, WO2014151567A1