专利名称：涂布机蒸汽溜平装置的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及涂布机技术领域，特别涉及涂布机蒸汽溜平装置。
技术背景
镭射膜在进行涂布工序之后，需要进行蒸汽溜平，即，将蒸汽喷在镭射膜上，使经过涂布工序后的镭射膜保持平整。目前， 一般使用蒸汽发生器产生蒸汽，然后将蒸汽通过管道直接喷在传输中的镭射膜上，经生产实践，发现前述方法始终不能够保持镭射膜平整，从而影响镭射膜的生产质量。另外，现有的蒸汽喷嘴的位置设计不太合理，常常会发生水珠滴落到镭射膜上的情况，更加影响镭射膜的质量。实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有技术的不足而提供涂布机蒸汽溜平装置，它可以提高镭射膜的溜平效果，并避免水珠滴落到镭射膜上的情况发生。
为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案它包括蒸汽发生器，蒸汽发生器连接有混合室，混合室外接抽取空气的风机，混合室的排风通道末端安装喷射挡板，正对喷射挡板的镭射膜纵向分布。
所述的混合室的排风通道上连接有排水管。
所述的喷射挡板靠近镭射膜的部分宽、远离镭射膜的部分窄，
本实用新型的有益效果在于，增加了将蒸汽与空气混合的混合室后，可以提高镭射膜的加工质量，同时，蒸汽形成的水珠不会滴落到镭射膜上，不会影响加工质量。
图1是本实用新型的结构示意图具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步的说明。
以下所述仅为本实用新型的较佳实施方式，并不因此而限定本实用新型的保护范围。
见附图1，本实用新型包括蒸汽发生器10，蒸汽发生器10连接有混合室30，混合室30外接抽取空气的风机20，利用风机20抽取自然空气，并将空气送入混合室30内与蒸汽进行混合，经反复实践证明，采用这种混合气体对镭射膜进行溜平加工，效果非常明显；混合室30的排风通道末端安装喷射挡板40，喷射挡板40靠近镭射膜的部分宽、远离镭射膜的部分窄，正对喷射挡板40的镭射膜50纵向分布，采用这种结构，可以保证对镭射膜50的加工，同时，蒸汽所形成的水珠不会滴落到镭射膜上，因此，不会对镭射膜产生影响；加工时，镭射膜50由下往上移动，增强加工效果。所述的混合室30的排风通道上连接有排水管60，排水管60可以将排风通道上滴落的水珠排出。
本实用新型可以大大改善对镭射膜的加工效果，提升加工质量。
权利要求1、涂布机蒸汽溜平装置，其特征在于它包括蒸汽发生器(10)，蒸汽发生器(10)连接有混合室(30)，混合室(30)外接抽取空气的风机(20)，混合室(30)的排风通道末端安装喷射挡板(40)，正对喷射挡板(40)的镭射膜(50)纵向分布。
2、 根据权利要求1所述的涂布机蒸汽溜平装置，其特征在于 所述的混合室(30)的排风通道上连接有排水管(60)。
3、 根据权利要求1所述的涂布机蒸汽溜平装置，其特征在于 所述的喷射挡板(40)靠近镭射膜的部分宽、远离镭射膜的部分窄。
专利摘要本实用新型涉及涂布机技术领域，特别涉及涂布机蒸汽溜平装置，装置包括蒸汽发生器，蒸汽发生器连接有混合室，混合室外接抽取空气的风机，混合室的排风通道末端安装喷射挡板，正对喷射挡板的镭射膜纵向分布；先将蒸汽发生器产生蒸汽，然后将所产生的蒸汽与空气进行混合，最后将混合气体喷在镭射膜上；本实用新型可以提高镭射膜的溜平效果，并避免水珠滴落到镭射膜上的情况发生。
文档编号B05C11/02GK201264018SQ20082018897
公开日2009年7月1日 申请日期2008年8月22日 优先权日2008年8月22日
发明者刘文义, 毅 袁 申请人:东莞光群雷射科技有限公司